[發明專利]一種連續式晶體硅高效應力釋放設備

在審

• 申請號: 202111168550.0
• 申請日: 2021-09-30
• 公開（公告）號: CN113774493A
• 公開（公告）日: 2021-12-10
• 發明（設計）人: 吳利德
• 申請（專利權）人: 吳利德
• 主分類號: C30B33/02
• 分類號: C30B33/02;C30B29/06;F27B9/06;F27B9/24;F27B9/38;F27B9/39
• 代理公司: 成都弘毅天承知識產權代理有限公司 51230
• 代理人: 陳仕超

1.一種連續式晶體硅高效應力釋放設備，包括依次設置的進料輸送機構(1)、上料機構(3)、加熱爐(5)、接料機構、水箱(9)和出料輸送機構(7)，其特征在于：所述加熱爐(5)的底面安裝有滾軸箱體(6)，所述滾軸箱體(6)內沿其長度方向通過軸承安裝有多個下滾筒(13)，多個所述下滾筒(13)間安裝有動力機構(14)；

所述加熱爐(5)內沿其長度方向通過軸承安裝有多個上滾筒(12)，所述上滾筒(12)上安裝有多個移料托架(11)，所述移料托架(11)的頂面設有可讓硅棒沿加熱爐(5)長度方向放置的多組放置組件，所述加熱爐(5)內沿其長度方向還安裝有位于上滾筒(12)上方的多個加熱管；

所述加熱爐(5)的前端和后端均安裝有豎直換料機構(4)，所述滾軸箱體(6)的前端安裝有推料機構(2)。

2.根據權利要求1所述的一種連續式晶體硅高效應力釋放設備，其特征在于：所述放置組件包括安裝在移料托架(11)前部且相對設置的兩個前硅塊(15)和安裝在移料托架(11)后部且相對設置的兩個后硅塊(17)，兩個所述前硅塊(15)和兩個所述后硅塊(17)間均留有放置間隙(16)；所述移料托架(11)的前端和后端均設有導渣斜面(112)，相鄰兩個所述移料托架(11)的導渣斜面(112)間構成積渣槽(113)，所述加熱爐(5)的末端下部設有收集槽(51)。

3.根據權利要求2所述的一種連續式晶體硅高效應力釋放設備，其特征在于：所述移料托架(11)的頂面沿其寬度方向開有位于前硅塊(15)和后硅塊(17)間的讓位槽(111)，所述上料機構(3)包括旋轉座(31)，所述旋轉座(31)上安裝有旋轉組件，所述旋轉組件上安裝有豎直柱(32)，所述豎直柱(32)上沿其高度方向安裝有豎直滑動組件，所述豎直滑動組件上安裝有豎直滑臺(310)，所述豎直滑臺(310)上安裝有水平滑動組件，所述水平滑動組件上安裝有進料滑板(37)，所述進料滑板(37)的端部安裝有可以位于讓位槽(111)內的進料叉(36)。

4.根據權利要求3所述的一種連續式晶體硅高效應力釋放設備，其特征在于：所述旋轉組件包括安裝在旋轉座(31)頂面的旋轉柱(312)和固定齒輪(315)，所述豎直柱(32)安裝在旋轉柱(312)上，所述固定齒輪(315)位于旋轉柱(312)內，所述旋轉柱(312)上安裝有旋轉電機(314)，所述旋轉電機(314)的電機軸上安裝有與固定齒輪(315)嚙合的旋轉齒輪(316)；所述豎直滑動組件包括安裝在旋轉柱(312)外側且沿其高度方向設置的多個豎直滑軌(311)，所述旋轉柱(312)的頂面安裝有豎直電機(39)，所述豎直電機(39)的電機軸上安裝有位于豎直方向的豎直絲桿(38)，所述豎直絲桿(38)的下端通過軸承與旋轉柱(312)的下部連接，所述豎直絲桿(38)上通過豎直螺母與豎直滑臺(310)連接，所述豎直滑臺(310)上安裝有與豎直滑軌(311)連接的豎直滑塊；所述水平滑動組件包括安裝在豎直滑臺(310)頂面的多個水平滑塊，所述進料滑板(37)的底面沿其長度方向安裝有多個水平滑軌(313)，所述水平滑軌(313)與水平滑塊連接，所述進料滑板(37)的底面沿其長度方向安裝有齒條(35)，所述豎直滑臺(310)上安裝有水平電機(33)，所述水平電機(33)的電機軸上安裝有與齒條(35)嚙合的水平齒輪(34)。

5.根據權利要求1所述的一種連續式晶體硅高效應力釋放設備，其特征在于：所述豎直換料機構(4)包括安裝在加熱爐(5)上的多個滾軸架(43)，所述滾軸架(43)上通過導軸法蘭(44)安裝有提升軸(45)，所述提升軸(45)上安裝有支撐座(46)，所述支撐座(46)上安裝有提升架(42)，所述提升架(42)的下端安裝有多個位于水平方向的提升滾筒(41)，所述提升滾筒(41)可進入相鄰兩個所述下滾筒(13)間，所述加熱爐(5)上還安裝有與提升軸(45)連接的提升組件。