[發明專利]一種離子膜燒堿鹽水一次精制除去硅鋁的方法有效
| 申請號: | 202111167715.2 | 申請日: | 2021-09-30 |
| 公開(公告)號: | CN113800540B | 公開(公告)日: | 2023-06-02 |
| 發明(設計)人: | 周文斌;沈曙光;葉陽陽;張遠;張翼;任科恩;盧學鋒 | 申請(專利權)人: | 浙江鎮洋發展股份有限公司 |
| 主分類號: | C01D3/14 | 分類號: | C01D3/14;C25B1/16 |
| 代理公司: | 北京維正專利代理有限公司 11508 | 代理人: | 魯勇杰 |
| 地址: | 315200 浙江省寧波市鎮*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 離子 燒堿 鹽水 一次 精制 除去 方法 | ||
1.一種離子膜燒堿鹽水一次精制除去硅鋁的方法,其特征在于,包括酸性氣浮法除硅流程以及中性沉淀法除鋁流程;
所述酸性氣浮法除硅流程包括以下步驟:
(1)將鹽水、起泡劑以及硅離子捕獲劑進行混合,隨后得到預處理鹽水;
(2)在預處理鹽水中以鼓泡的形式加入氣體輔助劑,隨后在酸性條件下將膠體硅捕獲在泡沫相上,得到初步除硅鹽水;
所述氣體輔助劑為二氧化碳以及三氧化硫中的至少一種;
(3)將初步除硅鹽水通入過濾器內進行過濾,隨后通過納濾膜除去除硅鹽水中的起泡劑負離子、硅離子捕獲劑負離子以及氣體輔助劑負離子,最后得到精制除硅鹽水;
所述納濾膜為全氟磺酸膜、全氟羧酸膜以及全氟磺酰膜中的任意一種;
所述中性沉淀法除鋁流程包括以下步驟:
S1、將鹽水與氫氧化鈉溶液進行混合并調整至接近中性,隨后得到含有氫氧化鋁沉淀的初步除鋁鹽水;
S2、將初步除鋁鹽水通入過濾器內進行過濾,隨后得到精制除鋁鹽水。
2.根據權利要求1所述的離子膜燒堿鹽水一次精制除去硅鋁的方法,其特征在于:(1)中,所述起泡劑為飽和烷基磺酸鹽以及飽和脂肪酸鹽中的至少一種,所述硅離子捕獲劑為飽和烷基磺酸以及飽和脂肪酸中的至少一種。
3.根據權利要求2所述的離子膜燒堿鹽水一次精制除去硅鋁的方法,其特征在于:
當所述納濾膜采用全氟磺酸膜時,所述起泡劑采用飽和烷基磺酸鹽,所述硅離子捕獲劑采用飽和烷基磺酸;
當所述納濾膜采用全氟羧酸膜時,所述起泡劑采用飽和脂肪酸鹽,所述硅離子捕獲劑采用飽和脂肪酸;
當所述納濾膜采用全氟磺酰膜時,所述起泡劑采用飽和烷基磺酸鹽以及飽和脂肪酸鹽中的至少一種,所述硅離子捕獲劑采用飽和烷基磺酸以及飽和脂肪酸中的至少一種。
4.根據權利要求2所述的離子膜燒堿鹽水一次精制除去硅鋁的方法,其特征在于:所述起泡劑為十二烷基磺酸鈉,所述硅離子捕獲劑為十二烷基磺酸,所述納濾膜為全氟磺酸膜。
5.根據權利要求1所述的離子膜燒堿鹽水一次精制除去硅鋁的方法,其特征在于:(1)中,所述起泡劑的含量為2-6mg/L,所述硅離子捕獲劑的含量為10-30mg/L。
6.根據權利要求1-5任一所述的離子膜燒堿鹽水一次精制除去硅鋁的方法,其特征在于:所述氣體輔助劑為二氧化碳。
7.根據權利要求6所述的離子膜燒堿鹽水一次精制除去硅鋁的方法,其特征在于:(2)中,添加所述氣體輔助劑的鼓泡孔的孔徑在10mm以下。
8.根據權利要求1所述的離子膜燒堿鹽水一次精制除去硅鋁的方法,其特征在于:(2)中,pH值介于4.0-6.0之間。
9.根據權利要求1所述的離子膜燒堿鹽水一次精制除去硅鋁的方法,其特征在于:S1中,pH值介于6.5-8.0之間。
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