[發(fā)明專利]一種聚酰亞胺薄膜及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111149671.0 | 申請日: | 2021-09-29 |
| 公開(公告)號: | CN115873280A | 公開(公告)日: | 2023-03-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 姜天;李應(yīng)成;崔晶;劉京妮;孫旭陽;張培斌 | 申請(專利權(quán))人: | 中國石油化工股份有限公司;中國石油化工股份有限公司上海石油化工研究院 |
| 主分類號: | C08J5/18 | 分類號: | C08J5/18;C08J7/00;C08G73/10;B29C55/16;B29C55/14;B29C71/02;C08L79/08 |
| 代理公司: | 北京知舟專利事務(wù)所(普通合伙) 11550 | 代理人: | 馬營營 |
| 地址: | 100728 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 聚酰亞胺 薄膜 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種聚酰亞胺薄膜及其制備方法,所述聚酰亞胺薄膜為結(jié)晶材料、晶粒沿著平行薄膜表面平面的方向取向,其中,MD方向的結(jié)晶取向因子為0.08~0.65,TD方向的結(jié)晶取向因子為0.08~0.65,所述聚酰亞胺薄膜在10GHz頻率條件下的介電常數(shù)小于等于3.1,所述聚酰亞胺薄膜在10GHz頻率條件下的介電損耗小于等于0.010,所述聚酰亞胺薄膜在30GHz頻率條件下的介電常數(shù)小于等于3.1,所述聚酰亞胺薄膜在30GHz頻率條件下的介電損耗小于等于0.012。所述聚酰亞胺薄膜具有低介電常數(shù)、低介電損耗、低吸濕率等特點(diǎn),且MD/TD方向結(jié)晶取向單獨(dú)可控。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于聚酰亞胺領(lǐng)域,尤其涉及聚酰亞胺薄膜及其制備方法。
背景技術(shù)
聚酰亞胺(PI)是一類在分子主鏈上含有酰亞胺環(huán)結(jié)構(gòu)的高分子,是目前綜合性能最好的功能性高分子材料之一,一直被廣泛應(yīng)用于航空航天、微電子等高精尖領(lǐng)域。一直以來,PI材料都是微電子行業(yè)最重要的基礎(chǔ)材料之一,PI薄膜,黏膠等被廣泛應(yīng)用于微電子器件的制造與封裝。然而隨著科技的進(jìn)步,各行業(yè)對于基礎(chǔ)材料的性能要求不斷提高,尤其是微電子器件不斷微型化、集成化、柔性化,數(shù)據(jù)傳輸也不斷向著高頻高速的方向邁進(jìn),傳統(tǒng)聚酰亞胺材料已經(jīng)逐漸無法滿足要求。
特別是隨著5G時代的到來,超高速、超高數(shù)據(jù)密度的毫米波通信技術(shù)將全面鋪開,為了保證毫米波信號的高保真?zhèn)鬏敚盘柊l(fā)射接收元器件所用介電材料必須具有很低的介電常數(shù)和介電損耗,從而盡可能的減少信號的延遲和消耗。傳統(tǒng)PI基材存在介電常數(shù)、介電損耗以及吸濕性偏高的問題,已無法滿足其應(yīng)用要求,因此急需開發(fā)新型介電材料以推動5G產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題,本發(fā)明提供了一種聚酰亞胺薄膜及其制備方法,其中,所述聚酰亞胺薄膜具有低介電常數(shù)、低介電損耗、低吸濕率等優(yōu)點(diǎn),且所述聚酰亞胺薄膜具有MD/TD方向結(jié)晶取向單獨(dú)可控的特點(diǎn)。
本發(fā)明的目的之一在于提供一種聚酰亞胺薄膜,其為結(jié)晶性材料、晶粒沿著平行薄膜表面平面的方向取向,其中,MD方向和TD方向的結(jié)晶取向因子各自獨(dú)立地為0.08~0.65,MD方向的結(jié)晶取向因子與TD方向的取向因子之差為-0.50~0.50。
例如,MD方向的結(jié)晶取向因子為0.08、0.1、0.12、0.15、0.18、0.2、0.25、0.3、0.35、0.4、0.45、0.5、0.55、0.6或0.65,TD方向的結(jié)晶取向因子為0.08、0.1、0.12、0.15、0.18、0.2、0.25、0.3、0.35、0.4、0.45、0.5、0.55、0.6或0.65,MD的結(jié)晶取向因子與TD方向的取向因子之差為-0.50、-0.40、-0.30、-0.20、-0.10、0、0.10、0.20、0.30、0.40或0.50。
其中,當(dāng)MD/TD兩個方向的取向因子之差的絕對值太大時,(1)薄膜易產(chǎn)生破孔或撕裂,(2)若薄膜的各向異性差別太大時,不利用應(yīng)用。
在本發(fā)明中,MD方向是指縱向,TD方向是指橫向,兩個方向的結(jié)晶取向因子可以通過制備工藝進(jìn)行調(diào)整。
在一種優(yōu)選的實(shí)施方式中,MD方向和TD方向的結(jié)晶取向因子各自獨(dú)立地為0.10~0.55,MD方向的結(jié)晶取向因子與TD方向的取向因子之差為-0.50~0.50。
在一種優(yōu)選的實(shí)施方式中,MD方向的結(jié)晶取向因子與TD方向的結(jié)晶取向因子的平均值≤0.40,優(yōu)選≤0.38。
其中,通過實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),材料的結(jié)晶取向因子包括MD/TD單向以及兩個方向的平均結(jié)晶取向因子都不宜過大,雖然理論在高取向因子有利于提高材料的介電性能,降低吸濕率,但是在過高的結(jié)晶取向因子容易導(dǎo)致薄膜材料缺陷增多(微孔、縫隙等),降低加工良率。具體地,當(dāng)兩個方向的結(jié)晶取向因子平均值大于0.4時會導(dǎo)致薄膜表面微孔、縫隙等缺陷增多。
在一種優(yōu)選的實(shí)施方式中,所述聚酰亞胺薄膜的吸濕率小于等于1.0%,優(yōu)選小于等于0.8%,更優(yōu)選≤0.6%。
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