[發明專利]光源裝置、曝光裝置和物品制造方法

在審

• 申請號: 202111147256.1
• 申請日: 2021-09-29
• 公開（公告）號: CN114384767A
• 公開（公告）日: 2022-04-22
• 發明（設計）人: 富田浩行;深澤寬
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 柳愛國

本發明涉及一種光源裝置，包括：保持器，所述保持器構造成保持燈，所述燈包括具有柱形表面的金屬基部；聚光鏡，所述聚光鏡構造成會聚由所述燈產生的光；以及噴嘴，所述噴嘴包括噴射孔，所述噴射孔構造成噴射氣體以便冷卻所述金屬基部。在包括所述噴射孔的中心軸線的直線與所述金屬基部的中心軸線之間的距離的范圍為從不小于所述柱形表面的半徑的1/2至不大于所述半徑。本發明還涉及一種曝光裝置和一種物品制造方法。

技術領域

本發明涉及一種光源裝置、一種曝光裝置和一種物品制造方法。

背景技術

曝光裝置在用于制造裝置(例如半導體裝置或顯示裝置)的光刻步驟中使用。光源裝置包含在曝光裝置中，光源裝置能夠包括可更換燈。該燈例如包括一對金屬基部、布置在該對金屬基部之間的發光管以及布置在發光管中并分別與該對金屬基部連接的一對電極。作為發光物質的汞等能夠封入發光管中。當電力經由所述一對金屬基部在所述一對電極之間供給時，在該對電極之間發生電弧放電，從而燈能夠發光。當使燈發光時，金屬基部的溫度較高，需要對金屬基部進行冷卻。日本專利公開No.2003-17003介紹了一種光源裝置，它在金屬基部部分中包括構造成提高冷卻效率的翅片并通過將冷卻空氣吹向翅片而冷卻該金屬基部部分。

隨著燈的輸出增加，金屬基部的溫度趨于升高。為了充分冷卻金屬基部，需要將足夠流量的氣體吹向金屬基部。不過，當發光管由氣體過度冷卻時，發光管中的發光物質(例如汞)不能被充分蒸發，可能產生燈的照明故障。

發明內容

本發明提供了一種有利于使燈穩定發光的技術。

本發明的第一方面提供了一種光源裝置，該光源裝置包括：保持器，該保持器構造成保持燈，該燈包括具有柱形表面的金屬基部；聚光鏡，該聚光鏡構造成會聚由燈產生的光；以及噴嘴，該噴嘴包括噴射孔，該噴射孔構造成噴射氣體以便冷卻金屬基部，其中，在包括噴射孔的中心軸線的直線與金屬基部的中心軸線之間的距離的范圍為從不小于柱形表面半徑的1/2至不大于該半徑。

本發明的第二方面提供了一種曝光裝置，該曝光裝置包括：如本發明第一方面限定的光源裝置；照明光學系統，該照明光學系統構造成使用來自光源裝置的光來照明原稿；以及投影光學系統，該投影光學系統構造成將原稿的圖案投影至基板上。

本發明的第三方面提供了一種物品制造方法，該物品制造方法包括：使用如本發明第二方面限定的曝光裝置來曝光基板；顯影在曝光中被曝光的基板；以及處理經過了顯影的基板，以便獲得物品。

通過下面參考附圖對示例實施例的說明，將清楚本發明的其它特征。

附圖說明

圖1是示意性地示出根據第一實施例的曝光裝置的構造的視圖；

圖2是示意性地示出根據第一實施例的光源裝置的構造的視圖；

圖3A和3B是示出引線的布置實例的視圖；

圖4A和4B是示意性地示出在根據第一實施例的光源裝置中的金屬基部和噴嘴的布置實例的視圖；

圖5是示意性地示出在根據第一實施例的光源裝置中的噴嘴和供給管的結構的視圖；

圖6A和6B是用于解釋根據第一實施例的光源裝置的效果的視圖；

圖7是用于解釋根據第一實施例的光源裝置的效果的視圖；

圖8A至8D是用于解釋根據第一實施例的光源裝置的效果的視圖；

圖9A至9D是用于解釋根據第一實施例的光源裝置的效果的視圖；

圖10是用于解釋根據第一實施例的光源裝置的效果的視圖；

圖11A和11B是示意性地示出根據第二實施例的光源裝置的構造的視圖；