[發(fā)明專利]光源裝置、曝光裝置和物品制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111147256.1 | 申請(qǐng)日： | 2021-09-29 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN114384767A | 公開（公告）日： | 2022-04-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 富田浩行;深澤寬 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 佳能株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | G03F7/20 | 分類號(hào)： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中國貿(mào)促會(huì)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人： | 柳愛國 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光源 裝置 曝光 物品 制造 方法 | ||
1.一種光源裝置，包括：保持器，所述保持器構(gòu)造成保持燈，所述燈包括具有柱形表面的金屬基部；聚光鏡，所述聚光鏡構(gòu)造成會(huì)聚由所述燈產(chǎn)生的光；以及噴嘴，所述噴嘴包括噴射孔，所述噴射孔構(gòu)造成噴射氣體以便冷卻所述金屬基部，
其中，在包括所述噴射孔的中心軸線的直線與所述金屬基部的中心軸線之間的距離的范圍為從不小于所述柱形表面的半徑的1/2至不大于所述半徑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源裝置，還包括：第二噴嘴，所述第二噴嘴包括第二噴射孔，所述第二噴射孔構(gòu)造成噴射氣體以便冷卻所述金屬基部，
其中，在包括所述第二噴射孔的中心軸線的第二直線與所述金屬基部的中心軸線之間的距離的范圍為從不小于所述柱形表面的半徑的1/2至不大于所述半徑。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源裝置，其中：包括所述噴射孔的中心軸線的所述直線和包括所述第二噴射孔的中心軸線的所述第二直線彼此平行。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源裝置，其中：所述金屬基部的中心軸線布置在包括所述噴射孔的中心軸線的所述直線與包括所述第二噴射孔的中心軸線的所述第二直線之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源裝置，其中：在關(guān)于與所述金屬基部的中心軸線垂直的平面的正交投影中，包括所述噴射孔的中心軸線的所述直線與包括所述第二噴射孔的中心軸線的所述第二直線彼此交叉。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光源裝置，其中：沿與所述金屬基部的中心軸線平行的方向，在所述直線和所述柱形表面之間的交點(diǎn)與所述第二直線和所述柱形表面之間的交點(diǎn)之間的距離為不小于10mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光源裝置，還包括：調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，所述調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)構(gòu)造成調(diào)節(jié)供給至所述噴嘴的氣體的流量以及供給至所述第二噴嘴的氣體的流量。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源裝置，其中：引線與所述金屬基部連接，所述金屬基部布置在所述噴射孔與所述金屬基部和所述導(dǎo)線之間的連接部分之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光源裝置，其中：在關(guān)于XYZ坐標(biāo)系中的X-Y平面的正交投影中，所述噴射孔布置在第二象限和第三象限中的一個(gè)中，所述引線的至少由來自至少聚光鏡的光通量照射的部分布置在由第一象限和第四象限形成的區(qū)域中，在所述XYZ坐標(biāo)系中，所述金屬基部的中心軸線為Z軸，平行于所述噴射孔的中心軸線的軸線為X軸。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源裝置，其中：所述噴嘴布置在從所述燈發(fā)射且由所述聚光鏡反射的有效光通量之外。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源裝置，其中：從所述噴射孔噴射的氣體的流速分布關(guān)于所述噴射孔的中心軸線軸對(duì)稱。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光源裝置，其中：所述噴射孔為圓形開口，圓形開口的直徑落在不小于1mm至不大于2mm的范圍內(nèi)，從所述噴射孔噴射的氣體的最大流速落在不小于50m/sec至不大于100m/sec的范圍內(nèi)。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光源裝置，其中：所述聚光鏡是橢圓反射鏡。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的光源裝置，其中：所述金屬基部的柱形表面的中心軸線與所述聚光鏡的光軸匹配。
15.一種曝光裝置，包括：
在權(quán)利要求1至14中任意一項(xiàng)所述的光源裝置；
照明光學(xué)系統(tǒng)，所述照明光學(xué)系統(tǒng)構(gòu)造成使用來自所述光源裝置的光來照明原稿；以及
投影光學(xué)系統(tǒng)，所述投影光學(xué)系統(tǒng)構(gòu)造成將所述原稿的圖案投影至基板上。
16.一種物品制造方法，包括：
使用根據(jù)權(quán)利要求15中所述的曝光裝置來曝光基板；
顯影在所述曝光中被曝光的基板；以及
處理經(jīng)過了所述顯影的基板，以便獲得物品。
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