[發明專利]基于透明閃爍體薄膜的顯微成像方法和系統

在審

• 申請號: 202111138816.7
• 申請日: 2021-09-27
• 公開（公告）號: CN113866192A
• 公開（公告）日: 2021-12-31
• 發明（設計）人: 谷戰軍;吳曉辰;董興華
• 申請（專利權）人: 中國科學院高能物理研究所
• 主分類號: G01N23/04
• 分類號: G01N23/04;G01N23/083
• 代理公司: 北京天達知識產權代理事務所(普通合伙) 11386
• 代理人: 姚東華

本發明涉及一種基于透明閃爍體薄膜的顯微成像方法和系統，屬于高分辨X射線成像領域，用于解決顯微鏡無法獲取完全的微觀結構的問題，所述方法包括：在待觀測樣品的觀測面上設置透明閃爍體薄膜；利用顯微鏡在所述待觀測樣品的觀測面上確定觀測區域；利用X射線照射所述待觀測樣品的非觀測面，所述觀測面和所述非觀測面互為正反面；利用所述顯微鏡觀測所述X射線通過所述觀測區域和所述透明閃爍體薄膜得到圖像。本發明提供的技術方案能夠提高顯微成像的精確度。

技術領域

本發明屬于高分辨X射線成像領域，尤其涉及一種基于透明閃爍體薄膜的顯微成像方法和系統。

背景技術

顯微鏡是由一個透鏡或幾個透鏡的組合構成的一種光學儀器，主要用于放大微小物體成為人的肉眼所能看到的儀器。

在觀察微觀結構時，例如細胞結構，通過顯微鏡對物體表面的局部區域進行放大，以得到清晰的成像。

然而顯微鏡是利用可見光進行檢測，在觀測過程中，一些微觀結構會對可見光進行折射、反射甚至遮擋可見光光路，導致一些微觀結構并沒有完全展示出來，從而影響成像的精確度。

發明內容

鑒于上述的分析，本發明旨在提出一種基于透明閃爍體薄膜的顯微成像方法和系統，以避免微觀結構對顯微鏡觀測結果的影響，從而提高顯微成像的精確度。

本發明的目的主要是通過以下技術方案實現的：

一方面，本發明提供了一種基于透明閃爍體薄膜的顯微成像方法，包括：

在待觀測樣品的觀測面上設置透明閃爍體薄膜；

利用顯微鏡在所述待觀測樣品的觀測面上確定觀測區域；

利用X射線照射所述待觀測樣品的非觀測面，所述觀測面和所述非觀測面互為正反面；

利用所述顯微鏡觀測所述X射線通過所述觀測區域和所述透明閃爍體薄膜得到圖像。

進一步地，所述顯微鏡為倒置顯微鏡。

進一步地，所述透明閃爍體薄膜的材料為鈣鈦礦閃爍體。

進一步地，所述透明閃爍體薄膜是由所述鈣鈦礦閃爍體的分散體系經過濾得到的薄膜。

進一步地，所述鈣鈦礦閃爍體的分散體系中所述鈣鈦礦閃爍體的粒徑為納米級。

另一方面，本發明實施例提供了一種基于透明閃爍體薄膜的顯微成像系統，包括：

X射線源、透明閃爍體薄膜和顯微鏡；

所述X射線源發射的X射線經過所述透明閃爍體薄膜得到可見光光束；所述顯微鏡用于觀測所述可見光光束以及通過所述透明閃爍體薄膜觀測待觀測樣品。

進一步地，所述顯微鏡為倒置顯微鏡，所述X射線源設置在所述倒置顯微鏡的照明系統中。

進一步地，所述顯微鏡為倒置顯微鏡，所述透明閃爍體薄膜設置在所述倒置顯微鏡的載物臺上，待觀測樣品設置在所述透明閃爍體薄膜上，所述X射線源設置在所述待觀測樣品的上方。

進一步地，所述透明閃爍體薄膜的制備材料包括：CsPbBr₃:Ce³⁺閃爍體、CsPbBr₃+PPO閃爍體或CsPbBr₃閃爍體。

進一步地，所述系統還包括：電荷耦合元件和計算機；

所述電荷耦合元件設置在所述顯微鏡上，與所述計算機通信連接；

所述電荷耦合元件用于將所述顯微鏡觀測的圖像上傳至所述計算機。

與現有技術相比，本發明至少能實現以下技術效果之一：