[發明專利]基于透明閃爍體薄膜的顯微成像方法和系統

在審

• 申請號: 202111138816.7
• 申請日: 2021-09-27
• 公開（公告）號: CN113866192A
• 公開（公告）日: 2021-12-31
• 發明（設計）人: 谷戰軍;吳曉辰;董興華
• 申請（專利權）人: 中國科學院高能物理研究所
• 主分類號: G01N23/04
• 分類號: G01N23/04;G01N23/083
• 代理公司: 北京天達知識產權代理事務所(普通合伙) 11386
• 代理人: 姚東華

1.一種基于透明閃爍體薄膜的顯微成像方法，其特征在于，包括：

在待觀測樣品的觀測面上設置透明閃爍體薄膜；

利用顯微鏡在所述待觀測樣品的觀測面上確定觀測區域；

利用X射線照射所述待觀測樣品的非觀測面，所述觀測面和所述非觀測面互為正反面；

利用所述顯微鏡觀測所述X射線通過所述觀測區域和所述透明閃爍體薄膜得到圖像。

2.根據權利要求1所述方法，其特征在于，

所述顯微鏡為倒置顯微鏡。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，

所述透明閃爍體薄膜的材料為鈣鈦礦閃爍體。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，

所述透明閃爍體薄膜是由所述鈣鈦礦閃爍體的分散體系經過濾得到的薄膜。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，

所述鈣鈦礦閃爍體的分散體系中所述鈣鈦礦閃爍體的粒徑為納米級。

6.一種基于透明閃爍體薄膜的顯微成像系統，其特征在于，包括：

X射線源、透明閃爍體薄膜和顯微鏡；

所述X射線源發射的X射線經過所述透明閃爍體薄膜得到可見光光束；所述顯微鏡用于觀測所述可見光光束以及通過所述透明閃爍體薄膜觀測待觀測樣品。

7.根據權利要求6所述的系統，其特征在于，

所述顯微鏡為倒置顯微鏡，所述X射線源設置在所述倒置顯微鏡的照明系統中。

8.根據權利要求6所述的制備系統，其特征在于，

所述顯微鏡為倒置顯微鏡，所述透明閃爍體薄膜設置在所述倒置顯微鏡的載物臺上，待觀測樣品設置在所述透明閃爍體薄膜上，所述X射線源設置在所述待觀測樣品的上方。

9.根據權利要求6所述的系統，其特征在于，

所述透明閃爍體薄膜的制備材料包括：CsPbBr₃:Ce³⁺閃爍體、CsPbBr₃+PPO閃爍體或CsPbBr₃閃爍體。

10.根據權利要求6-8中所述的系統，其特征在于，所述系統還包括：電荷耦合元件和計算機；

所述電荷耦合元件設置在所述顯微鏡上，與所述計算機通信連接；

所述電荷耦合元件用于將所述顯微鏡觀測的圖像上傳至所述計算機。