[發明專利]數碼浮雕陶瓷巖板及其制備方法有效
| 申請號： | 202111128575.8 | 申請日： | 2021-09-26 |
| 公開（公告）號： | CN113896570B | 公開（公告）日： | 2022-11-18 |
| 發明（設計）人： | 潘利敏;鄧來福;汪慶剛;王賢超;龐偉科;黃玲艷 | 申請（專利權）人： | 蒙娜麗莎集團股份有限公司 |
| 主分類號： | C04B41/89 | 分類號： | C04B41/89;C03C8/00 |
| 代理公司： | 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙) 31261 | 代理人： | 曹芳玲;牛彥存 |
| 地址： | 528211 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 數碼 浮雕 陶瓷 及其 制備 方法 | ||
1.一種數碼浮雕陶瓷巖板的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括以下步驟：
在陶瓷巖板坯體表面施底釉；
在施底釉后的坯體表面噴墨打印圖案；
在噴墨打印圖案后的坯體表面定位噴墨打印窯變釉形成具有晶花效果的浮雕紋理；
在噴墨打印窯變釉后的坯體表面施保護釉；
燒成。
2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述窯變釉的化學組成包括：以質量百分比計，SiO2：40～45%、Al2O3：14～18%、堿土金屬氧化物：23～29%、堿金屬氧化物：2.5～4.5%、ZrO2：5.0～7.0%、F：2.0～3.0%。
3.根據權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述窯變釉的比重為1.60～1.80g/cm3，施加量為100～400 g/m2。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的制備方法，其特征在于，所述底釉的化學組成包括，以質量百分比計：SiO2：55～60%、Al2O3：21～24%、堿土金屬氧化物：0.2～1%、堿金屬氧化物：6.0～8.0%、ZrO2：6.0～10.0%。
5.根據權利要求1至4中任一項所述的制備方法，其特征在于，所述底釉的比重為1.25～1.40 g/cm3，施加量為300～650 g/m2。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的制備方法，其特征在于，所述保護釉的化學組成包括：以質量百分比計，SiO2：43～48%、Al2O3：21～23%、堿土金屬氧化物：13～16%、堿金屬氧化物：4.0～6.0%、ZnO：5.0～6.0%。
7.根據權利要求1至6中任一項所述的制備方法，其特征在于，所述保護釉的比重為1.20～1.30 g/cm3，施加量為150～200 g/m2。
8.根據權利要求1至7中任一項所述的制備方法，其特征在于，窯變釉的始融溫度為1080～1130℃；保護釉的始融溫度為1100～1150℃；優選地，窯變釉和保護釉的始融溫度差值控制在20～50℃。
9.根據權利要求1至8中任一項所述的制備方法，其特征在于，最高燒成溫度為1180～1220℃，燒成周期為60～180分鐘。
10.根據權利要求1至9中任一項所述的制備方法獲得的數碼浮雕陶瓷巖板。
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