[發明專利]偏光片制備方法、偏光片及顯示裝置

在審

• 申請號: 202111121330.2
• 申請日: 2021-09-24
• 公開（公告）號: CN113759457A
• 公開（公告）日: 2021-12-07
• 發明（設計）人: 林仲宏;李明陽;王琬珺
• 申請（專利權）人: 業成科技（成都）有限公司;業成光電（深圳）有限公司;業成光電（無錫）有限公司;英特盛科技股份有限公司
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02B1/14
• 代理公司: 成都希盛知識產權代理有限公司 51226
• 代理人: 楊冬梅;張行知

本發明涉及一種偏光片制備方法、偏光片及顯示裝置，偏光片制備方法包括以下步驟：提供一聚乙烯醇薄膜，聚乙烯醇薄膜設有留白區；在聚乙烯醇薄膜的留白區設置遮擋層；利用染色劑對聚乙烯醇薄膜進行染色；其中，遮擋層阻擋染色劑對留白區染色，以使留白區的透光率大于預設值。上述偏光片制備方法能夠解決目前為提高感應孔的光穿透率，需要對偏光片上對應感應孔的區域進行消偏光處理，增加了偏光片制備過程中的處理步驟，導致偏光片的制備過程復雜，效率較低的問題。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，特別是涉及一種偏光片制備方法、偏光片及顯示裝置。

背景技術

傳統的顯示屏，通常將紅外感應器、環境光感應器等感應模組設置在邊框區，但隨著全面屏全面推廣，邊框區越來越窄，沒有足夠的空間設置感應模組，因此將感應模組設置在顯示區，但顯示區的偏光片會使感應模組對應的感應孔的光穿透率較低，為提高感應孔的光穿透率，需要對偏光片上對應感應孔的區域進行消偏光處理，增加了偏光片制備過程中的處理步驟，導致偏光片的制備過程復雜，效率較低。

發明內容

基于此，有必要針對目前為提高感應孔的光穿透率，需要對偏光片上對應感應孔的區域進行消偏光處理，增加了偏光片制備過程中的處理步驟，導致偏光片的制備過程復雜，效率較低的問題，提供一種偏光片制備方法、偏光片及顯示裝置。

一種偏光片制備方法，所述偏光片制備方法包括以下步驟：

提供一聚乙烯醇薄膜，所述聚乙烯醇薄膜設有留白區；

在所述聚乙烯醇薄膜的留白區設置遮擋層；

利用染色劑對設有所述聚乙烯醇薄膜進行染色；

其中，所述遮擋層阻擋染色劑對所述留白區染色，以使所述留白區的透光率大于預設值。

在其中一個實施例中，所述聚乙烯醇薄膜具有相對的第一側和第二側；所述在所述聚乙烯醇薄膜的留白區設置遮擋層具體包括：在所述聚乙烯醇薄膜的第一側設置第一遮擋層，在所述聚乙烯醇薄膜的第二側設置第二遮擋層。

在其中一個實施例中，所述第一遮擋層和所述第二遮擋層均被配置為永久遮擋；所述第一遮擋層和所述第二遮擋層透光設置，且所述第一遮擋層和所述第二遮擋層不被染色劑染色。

在其中一個實施例中，所述第一遮擋層在所述聚乙烯醇薄膜上的投影與所述留白區重合，所述第二遮擋層在所述聚乙烯醇薄膜上的投影與所述留白區重合。

在其中一個實施例中，所述第一遮擋層和所述第二遮擋層均被配置為臨時遮擋；所述利用染色劑對設有所述聚乙烯醇薄膜進行染色之后還包括：將所述第一遮擋層和所述第二遮擋層從所述聚乙烯醇薄膜表面揭下；或者所述第一遮擋層被配置為永久遮擋；所述第一遮擋層透光設置，且不被染色劑染色；所述第二遮擋層被配置為臨時遮擋；所述利用染色劑對設有所述聚乙烯醇薄膜進行染色之后還包括：將所述第二遮擋層從所述聚乙烯醇薄膜表面揭下。

在其中一個實施例中，所述遮擋層的厚度大于或等于10nm；和/或所述遮擋層包括耐高溫防水保護膜。

在其中一個實施例中，所述在所述聚乙烯醇薄膜的留白區設置遮擋層的步驟具體包括：在所述聚乙烯醇薄膜的留白區貼附遮擋層；或者在所述聚乙烯醇薄膜的留白區涂布遮擋層。

在其中一個實施例中，所述預設值大于80％。

一種偏光片，所述偏光片采用如前述的偏光片制備方法制成。

一種顯示裝置，包括如前述的偏光片。