[發(fā)明專利]偏光片制備方法、偏光片及顯示裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202111121330.2
• 申請(qǐng)日: 2021-09-24
• 公開（公告）號(hào): CN113759457A
• 公開（公告）日: 2021-12-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林仲宏;李明陽;王琬珺
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 業(yè)成科技（成都）有限公司;業(yè)成光電（深圳）有限公司;業(yè)成光電（無錫）有限公司;英特盛科技股份有限公司
• 主分類號(hào): G02B5/30
• 分類號(hào): G02B5/30;G02B1/14
• 代理公司: 成都希盛知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 51226
• 代理人: 楊冬梅;張行知

1.一種偏光片制備方法，其特征在于，所述偏光片制備方法包括以下步驟：

提供一聚乙烯醇薄膜，所述聚乙烯醇薄膜設(shè)有留白區(qū)；

在所述聚乙烯醇薄膜的留白區(qū)設(shè)置遮擋層；

利用染色劑對(duì)設(shè)有所述聚乙烯醇薄膜進(jìn)行染色；

其中，所述遮擋層阻擋染色劑對(duì)所述留白區(qū)染色，以使所述留白區(qū)的透光率大于預(yù)設(shè)值。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光片制備方法，其特征在于，所述聚乙烯醇薄膜具有相對(duì)的第一側(cè)和第二側(cè)；

所述在所述聚乙烯醇薄膜的留白區(qū)設(shè)置遮擋層具體包括：

在所述聚乙烯醇薄膜的第一側(cè)設(shè)置第一遮擋層，在所述聚乙烯醇薄膜的第二側(cè)設(shè)置第二遮擋層。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的偏光片制備方法，其特征在于，所述第一遮擋層和所述第二遮擋層均被配置為永久遮擋；

所述第一遮擋層和所述第二遮擋層透光設(shè)置，且所述第一遮擋層和所述第二遮擋層不被染色劑染色。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的偏光片制備方法，其特征在于，所述第一遮擋層在所述聚乙烯醇薄膜上的投影與所述留白區(qū)重合，所述第二遮擋層在所述聚乙烯醇薄膜上的投影與所述留白區(qū)重合。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的偏光片制備方法，其特征在于，所述第一遮擋層和所述第二遮擋層均被配置為臨時(shí)遮擋；

所述利用染色劑對(duì)設(shè)有所述聚乙烯醇薄膜進(jìn)行染色之后還包括：

將所述第一遮擋層和所述第二遮擋層從所述聚乙烯醇薄膜表面揭下；或者

所述第一遮擋層被配置為永久遮擋；

所述第一遮擋層透光設(shè)置，且不被染色劑染色；

所述第二遮擋層被配置為臨時(shí)遮擋；

所述利用染色劑對(duì)設(shè)有所述聚乙烯醇薄膜進(jìn)行染色之后還包括：

將所述第二遮擋層從所述聚乙烯醇薄膜表面揭下。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏光片制備方法，其特征在于，所述遮擋層的厚度大于或等于10nm；和/或

所述遮擋層包括耐高溫防水保護(hù)膜。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的偏光片制備方法，其特征在于，所述在所述聚乙烯醇薄膜的留白區(qū)設(shè)置遮擋層的步驟具體包括：

在所述聚乙烯醇薄膜的留白區(qū)貼附遮擋層；或者

在所述聚乙烯醇薄膜的留白區(qū)涂布遮擋層。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的偏光片制備方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)值大于80％。

9.一種偏光片，其特征在于，所述偏光片采用如權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述的偏光片制備方法制成。

10.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求9所述的偏光片。