[發明專利]Cu2 在審
| 申請號: | 202111120789.0 | 申請日: | 2021-09-24 |
| 公開(公告)號: | CN113731411A | 公開(公告)日: | 2021-12-03 |
| 發明(設計)人: | 李育珍;王曉爽;夏云生;譚思洋;李鑫;王少杰;易思遠 | 申請(專利權)人: | 太原理工大學 |
| 主分類號: | B01J23/68 | 分類號: | B01J23/68;B01J27/051;B01J27/24;B01J35/00;C02F1/30;C02F101/30 |
| 代理公司: | 太原市科瑞達專利代理有限公司 14101 | 代理人: | 申艷玲 |
| 地址: | 030024 山西*** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | cu base sub | ||
本發明公開了一種Cu2MoS2O4/Ag2V4O11/g?C3N4三元復合催化劑的制備方法及應用,所述催化劑由以下重量配比的原料組成:Cu2MoS2O4:1~10份,Ag2V4O11/g?C3N4:10份。制備方法為:(1)Cu2MoS2O4的制備;(2)Ag2V4O11/g?C3N4二元復合材料的制備;(3)Cu2MoS2O4/Ag2V4O11/g?C3N4三元復合催化材料的制備。本發明通過濕式浸漬法合成了Cu2MoS2O4/Ag2V4O11/g?C3N4三元光催化劑,操作便捷,成本低廉,對有機廢水有良好的效果,在實際生產和商業應用上有良好前景。
技術領域
本發明涉及一種Cu2MoS2O4/Ag2V4O11/g-C3N4三元復合催化劑的制備方法及應用,屬于催化劑制備及應用技術領域。
背景技術
印染廢水的產生是紡織、造紙等現代工業發展過程中不可避免的危害。印染廢水毒性強、色度高、難以在自然條件下降解,因而,其處理工藝一直為研究人員所關注。光催化技術以綠色環保、成本低廉、不產生二次污染從各種處理技術中脫穎而出。
石墨相氮化碳(g-C3N4)是一種應用廣泛的半導體光催化材料,原料廉價易得,生產成本低,具有可見光活性,化學和熱穩定性高,被用于光催化分解水和降解有機污染物等領域。然而,g-C3N4禁帶寬度寬(2.7 eV),比表面積小,可見光響應范圍窄,極大地限制了其光催化性能。因此,改性g-C3N4以克服其缺陷,提高其光催化活性是g-C3N4研究的重點之一。
發明內容
本發明旨在提供一種Cu2MoS2O4/Ag2V4O11/g-C3N4三元復合催化劑的制備方法及其應用,利用Cu2MoS2O4和Ag2V4O11共同改性g-C3N4以提高其光催化效率。
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