[發(fā)明專利]氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用檢測光刻膠膜中丙二醇甲醚醋酸酯的方法及半導(dǎo)體器件的加工工藝

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• 申請日: 2021-09-23
• 公開（公告）號: CN113759046A
• 公開（公告）日: 2021-12-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 房彩琴;孫嘉;李冰;魯代仁;董棟;張寧
• 申請（專利權(quán)）人: 上海彤程電子材料有限公司;北京彤程創(chuàng)展科技有限公司;北京科華微電子材料有限公司;彤程化學(xué)（中國）有限公司;彤程新材料集團股份有限公司
• 主分類號: G01N30/02
• 分類號: G01N30/02;G01N30/06;G01N30/72
• 代理公司: 北京華夏泰和知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11662
• 代理人: 韓來兵

1.一種氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用檢測光刻膠膜中丙二醇甲醚醋酸酯的方法，其特征在于，包括以下步驟：

將涂覆有光刻膠膜的硅片碎片放入萃取劑中進行超聲萃取，將萃取液和內(nèi)標溶液配置為待測樣品液；

配制不同濃度的丙二醇甲醚醋酸酯的標準品溶液；

用氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用檢測各標準品溶液，根據(jù)丙二醇甲醚醋酸酯與內(nèi)標物的離子色譜峰的面積比與丙二醇甲醚醋酸酯的濃度進行回歸分析，建立回歸方程；

采用與各標準品溶液相同的檢測條件檢測待測樣品液，獲得丙二醇甲醚醋酸酯與內(nèi)標物的離子色譜峰的面積比，將其代入所述回歸方程進行計算，得到待測樣品液中丙二醇甲醚醋酸酯的濃度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用檢測光刻膠膜中丙二醇甲醚醋酸酯的方法，其特征在于，所述內(nèi)標物為正辛酸甲酯。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用檢測光刻膠膜中丙二醇甲醚醋酸酯的方法，其特征在于，涂覆有光刻膠膜的硅片碎片的制備方法為：將涂覆有光刻膠膜的硅片用金剛石筆裁成1cm²的小塊。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用檢測光刻膠膜中丙二醇甲醚醋酸酯的方法，其特征在于，所述超聲萃取的步驟包括：將所述硅片碎片放入樣品瓶中，加入萃取液浸沒，將加蓋密封的樣品瓶置于超聲清洗機內(nèi)超聲萃取20min。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用檢測光刻膠膜中丙二醇甲醚醋酸酯的方法，其特征在于，所述萃取液選自醇、酮、腈、醚和烷烴中的一種或幾種。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用檢測光刻膠膜中丙二醇甲醚醋酸酯的方法，其特征在于，所述萃取液為丙酮，所述內(nèi)標溶液為正辛酸甲酯的丙酮溶液。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用檢測光刻膠膜中丙二醇甲醚醋酸酯的方法，其特征在于，涂覆有光刻膠膜的硅片的制備方法包括：采用旋轉(zhuǎn)涂布的方式在涂膠顯影一體機的涂膠槽內(nèi)將光刻膠均勻涂布在所述硅片上，在涂膠顯影一體機的熱板單元內(nèi)前烘，然后經(jīng)過冷板冷卻到室溫。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用檢測光刻膠膜中丙二醇甲醚醋酸酯的方法，其特征在于，在旋轉(zhuǎn)涂布光刻膠之前，用異丙醇將所述硅片的背面擦干凈，用涂膠顯影一體機的清洗程序清洗所述硅片正面。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的氣相色譜-質(zhì)譜聯(lián)用檢測光刻膠膜中丙二醇甲醚醋酸酯的方法，其特征在于，前烘工藝的溫度為90～130℃。

10.一種半導(dǎo)體器件的加工工藝，其特征在于，包括獲得預(yù)設(shè)轉(zhuǎn)數(shù)和最佳前烘溫度、涂膠、前烘、曝光、顯影和后烘步驟，在涂膠步驟中按照所述預(yù)設(shè)轉(zhuǎn)數(shù)采用旋轉(zhuǎn)涂布的工藝完成，所述前烘步驟中采用所述最佳前烘溫度完成，所述預(yù)設(shè)轉(zhuǎn)數(shù)和所述最佳前烘溫度通過權(quán)利要求1-9任一項所述的方法完成。