[發明專利]光敏型化合物、由其制備的抗溶劑型空穴傳輸層材料及其應用

有效

• 申請號: 202111115680.8
• 申請日: 2021-09-23
• 公開（公告）號: CN113861050B
• 公開（公告）日: 2023-08-18
• 發明（設計）人: 易袁秋強;蘇文明;劉揚
• 申請（專利權）人: 材料科學姑蘇實驗室;上海銳爾發數碼科技有限公司
• 主分類號: C07C217/92
• 分類號: C07C217/92;C07C213/06;H10K50/15;H10K50/115;H10K85/10;H10K85/60;C09D165/00;C09D7/63
• 代理公司: 蘇州市中南偉業知識產權代理事務所(普通合伙) 32257
• 代理人: 蘇張林

1.一種光敏型化合物，其特征在于，具有如下所示的結構式：

，

其中，Ar₁選自以下結構中的一種：

，

Ar₂選自以下結構中的一種：

，

R₁選自甲基、叔丁基中的一種；L₁、L₂為H。

2.根據權利要求1所述的光敏型化合物，其特征在于，所述光敏型化合物為下述化合物中的一種：

，

，

，

。

3.根據權利要求1所述的光敏型化合物的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1.?保護氣氛下，使第一化合物、第二化合物在三(二亞芐基丙酮)二鈀、三叔丁基膦四氟硼酸鹽和叔丁醇鈉的催化下于溶劑中發生反應；反應結束后，收集并純化產物，得到第一中間體；

S2.?保護氣氛下，使第一中間體與BBr₃于溶劑中發生反應；反應結束后，收集并純化產物，得到第二中間體；

S3.?保護氣氛下，使第二中間體、第三化合物在無機堿的作用下發生反應；反應結束后，收集并純化產物，得到所述光敏型化合物；

其中，所述第一化合物、第二化合物、第三化合物、第一中間體和第二中間體的結構式分別如式（I）~（V）所示：

；

步驟S1中，第一化合物、第二化合物、三(二亞芐基丙酮)二鈀、三叔丁基膦四氟硼酸鹽和叔丁醇鈉的當量比為1：（2.2-3.0）：0.02：0.04：（2.5-3.0）；反應溫度為60-130℃，反應時間為12-36小時；

步驟S2中，第一中間體與BBr₃的當量比為1?:?2.2-3.0；

步驟S3中，第二中間體、第三化合物與無機堿的當量比為1:（2.2-3.2）:（2.5-4.0）；反應溫度為50-100℃，反應時間為2-24小時。

4.權利要求1或2所述的光敏型化合物作為空穴傳輸層材料的應用。

5.一種抗溶劑型空穴傳輸層材料，其特征在于，所述抗溶劑型空穴傳輸層材料是由權利要求1或2所述的光敏型化合物與聚合物TFB經交聯反應后得到的。

6.?根據權利要求5所述的抗溶劑型空穴傳輸層材料，其特征在于，所述光敏型化合物與聚合物TFB的質量比為1?:?0.1～40。

7.權利要求5所述的抗溶劑型空穴傳輸層材料在制備量子點電致發光器件中的應用。

8.根據權利要求7所述的應用，其特征在于，將光敏型化合物與聚合物TFB溶解在有機溶劑中，通過旋涂或噴墨打印的方式成膜，然后通過光交聯得到所述量子點電致發光器件的空穴傳輸層。

9.?根據權利要求8所述的應用，其特征在于，所述有機溶劑為甲苯、間二甲苯、苯甲酸甲酯、氯苯、鄰二氯苯、環己基苯、茚和苯甲醚中的至少一種；所述光交聯的條件為：波長為254nm或365?nm、功率為100-1000?mW·?cm^-2的紫外燈光照，交聯時間為5-240分鐘。