[發明專利]一種基于光學透明基材進行雙面圖案化的方法

在審

• 申請號: 202111114879.9
• 申請日: 2021-09-23
• 公開（公告）號: CN113867108A
• 公開（公告）日: 2021-12-31
• 發明（設計）人: 郭景華;王鈞;江建國
• 申請（專利權）人: 浙江鑫柔科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京市中倫律師事務所 11410
• 代理人: 王奕勛

1.一種基于光學透明基材進行雙面圖案化的方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：

(1)提供具有UV阻隔功能的光學透明基材；

(2)在所述光學透明基材的兩個表面上涂覆光阻材料；以及

(3)將涂覆有所述光阻材料的所述光學透明基材在UV光的照射下曝光并進行顯影，以得到雙面圖案化的光學透明基材。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述光學透明基材由一個或多個層組成，所述一個或多個層包括至少基礎層，以及任選地，修飾所述基礎層的表面性能的其他層。

3.根據權利要求2所述的方法，其中，所述光學透明基材的所述基礎層由聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、透明聚酰亞胺(CPI)、環烯烴聚合物(COP，可以特別是環烯烴共聚物(COC))、超級延遲膜(SRF)、聚碳酸酯(PC)和聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)中的至少一種制成。

4.根據權利要求2所述的方法，其中，所述表面性能選自附著力、表面張力和耐化學性能中的至少一種。

5.根據權利要求2所述的方法，其中，所述光學透明基材的UV阻隔功能通過在所述光學透明基材的生產過程中添加UV阻隔材料；或者在所述光學透明基材中的一個或多個層上設置UV阻隔涂層來實現。

6.根據權利要求1所述的方法，其中，所述光學透明基材是平面的，優選地，以板、片或薄膜的形式存在。

7.根據權利要求1所述的方法，其中，所述光學透明基材是偏光片，優選地以線性或橢圓性存在。

8.根據權利要求1所述的方法，其中，在所述兩個表面上涂覆的所述光阻材料獨立地選自相同或不同的正性光阻材料或負性光阻材料。

9.根據權利要求1所述的方法，其中，根據所述光學透明基材在目標曝光波長處的阻隔情況為所述光阻材料匹配不同的曝光能量。

10.根據權利要求1所述的方法，其中，所述UV光的波長低于400nm。

11.根據權利要求10所述的方法，其中，所述光學透明基材在所述UV光的波長下的透過率為≤10％，優選為≤2％。

12.一種視覺顯示器，其通過根據權利要求1-11中任一項所述的方法制造。

13.一種觸控屏，特別是電容式觸控屏，其基于根據權利要求1-11中任一項所述的方法制造。