[發明專利]一種具有高解析度和優異附著力的光致抗蝕劑

在審

• 申請號: 202111109386.6
• 申請日: 2021-09-22
• 公開（公告）號: CN113741147A
• 公開（公告）日: 2021-12-03
• 發明（設計）人: 劉罡
• 申請（專利權）人: 深圳惠美亞科技有限公司
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/027
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種具有高解析度和優異附著力的光致抗蝕劑，其特征在于：由50-70重量份的堿溶性樹脂、15-40重量份光聚合化合物、1.0-8.0重量份的光引發劑、0.1-2.0重量份其他助劑組成。

2.根據權利要求1所述的高解析度和優異附著力的光致抗蝕劑，其特征在于該堿溶性樹脂為（甲基）丙烯酸類樹脂、苯乙烯類樹脂、酚醛類樹脂、纖維素乙酸-鄰苯二價酸酯、乙基羥基乙基纖維素鄰苯二甲酸酯中的至少一種。

3.根據權利要求1所述的高解析度和優異附著力的光致抗蝕劑，其特征在于該光聚合化合物包括：丙烯酸月桂酯、丙烯酸異癸酯、雙酚A二甲基丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、丙氧化壬基苯酚丙烯酸酯、N-乙烯基己內酰胺及羥丁基乙烯基醚中的一種或多種組合物。

4. 根據權利要求1所述的高解析度和優異附著力的光致抗蝕劑，其特征在于該光引發劑為4,4’,5,5’‐四苯基二咪唑、2-(o- 氯苯基 )-4，5- 二苯基二咪唑、2,4-三氯甲基-6-三嗪、二苯甲酮、苯偶姻雙甲醚、2‐異丙基噻噸酮、1，4- 二甲基巰基苯、N,N‐二甲基乙醇胺、季戊四醇四硫代甘醇酸酯、對叔丁基三氯苯乙酮、2,4-二甲基噻噸酮、芐基酮二甲基縮醛及2‐氯硫雜蒽酮中的至少1種。

5.根據權利要求1所述的高解析度和優異附著力的光致抗蝕劑，其特征在于其他助劑包含稀釋劑、增塑劑、染色劑、成色劑、抗氧化劑、熱聚合抑制劑、消泡劑、阻燃劑和流平劑中的一種或多種。

6.根據權利要求5所述的高解析度和優異附著力的光致抗蝕劑，其特征在于所述染色劑由隱色結晶紫、品紅、酞菁綠、酞青藍、螢烷、孔雀綠、羅丹明等其中至少一種按照任意配比組成；所述附著力促進劑為硫醇化合物；增塑劑包括：鄰苯二甲酸二丁酯、鄰苯二甲酸二烯丙酯、四乙二醇二乙酸酯、苯磺酰胺、磷酸三苯酯等中的至少一種。

7. 一種高解析度和優異附著力的光致抗蝕劑的制備方法，其特征在于，包含如下步驟：

堿溶性樹脂的合成

光致抗蝕劑漿液的制備：將堿溶性樹脂、光聚合化合物、光引發劑、其他助劑、按配方加入溶劑中，混合至均勻，攪拌，除掉未溶解雜質，備用；

感光干膜的制備：將上述光致抗蝕劑漿液，采用涂布機，涂布到基材（PET）上，于60～80℃下烘烤，形成光致抗蝕劑膜層；在光致抗蝕劑膜層上包覆PE膜，分切、熱封、收卷，得到感光干膜樣品。

8.如權利要求1所述的高解析度和優異附著力的光致抗蝕劑，用于激光掃描曝光。