[發(fā)明專利]扇出型封裝結(jié)構(gòu)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111093731.1 | 申請(qǐng)日: | 2021-09-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114023662A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-02-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 翁振源;李錚鴻;閔繁宇;劉修吉;賴仲航 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 日月光半導(dǎo)體制造股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/60 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/60;H01L23/31;H01L23/16 |
| 代理公司: | 北京德恒律治知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李偉 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 扇出型 封裝 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種扇出型封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,包括:
并排設(shè)置的第一電子元件和第二電子元件,所述第一電子元件包括:
功能凸塊陣列,位于所述第一電子元件的下表面的中心處;
偽凸塊,位于所述功能凸塊陣列和所述第一電子元件的所述下表面的邊界之間;
線路層,位于所述第一電子元件和所述第二電子元件下方,所述第二電子元件和所述第一電子元件的所述功能凸塊陣列電連接至所述線路層,所述第一電子元件的所述偽凸塊物理接觸所述線路層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的扇出型封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述偽凸塊鄰接所述邊界。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的扇出型封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述偽凸塊位于所述下表面的拐角處。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的扇出型封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述偽凸塊位于所述下表面的中心與所述拐角的連線的兩側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的扇出型封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述偽凸塊還位于所述下表面的所述中心與所述拐角的所述連線上。
6.根據(jù)權(quán)利要求3至5任一項(xiàng)所述的扇出型封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,位于單個(gè)所述拐角處的所述偽凸塊具有L形形狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的扇出型封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述L形平行于所述拐角處的所述邊界。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的扇出型封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,還包括:
填充層,包覆所述第一電子元件和所述第二電子元件。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的扇出型封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,還包括:
粘合層,位于所述第一電子元件、所述第二電子元件和所述線路層之間,所述第一電子元件的所述功能凸塊陣列和所述偽凸塊穿過(guò)所述粘合層。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的扇出型封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第二電子元件的下表面具有第二凸塊,所述第二凸塊與所述偽凸塊之間具有第三距離,所述偽凸塊與所述邊界之間具有第一距離,所述第一距離與所述第三距離的比值位于0至0.5的范圍內(nèi)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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