[發(fā)明專利]一種利用復(fù)合親硼添加劑去除冶金級硅中硼的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111082145.7 | 申請日: | 2021-09-15 |
| 公開(公告)號: | CN113697815A | 公開(公告)日: | 2021-11-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 任永生;曾毅;馬文會;雷云;魏奎先;伍繼君;呂國強(qiáng);謝克強(qiáng);顏恒維;劉戰(zhàn)偉;李紹元;于潔;萬小涵;陳正杰 | 申請(專利權(quán))人: | 昆明理工大學(xué) |
| 主分類號: | C01B33/037 | 分類號: | C01B33/037 |
| 代理公司: | 天津煜博知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 12246 | 代理人: | 朱維 |
| 地址: | 650093 云*** | 國省代碼: | 云南;53 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 利用 復(fù)合 添加劑 去除 冶金 級硅中硼 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種利用復(fù)合親硼添加劑去除冶金級硅中硼的方法,屬于硅提純技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明將冶金級硅加熱熔融得到含B的Si熔體,將復(fù)合親硼添加劑加入到含B的Si熔體得到混合熔體;將氬氣通入到混合熔體中并在溫度為1414~1600℃下精煉1~3h,隨爐冷卻至室溫得到精煉硅;精煉硅研磨成150~200目的硅粉,硅粉依次經(jīng)王水、HF?HCl混酸清洗0.5~6h得到高純硅。本發(fā)明復(fù)合親硼添加劑協(xié)同強(qiáng)化在精煉過程中脫除冶金級硅中硼,硼的脫除率接近100%,不會對Si造成二次污染。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種利用復(fù)合親硼添加劑去除冶金級硅中硼的方法,屬于硅提純技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
到目前為止,太陽能級硅(SOG-Si)主要由冶金級硅(MG-Si)通過各種提純工藝制成。而雜 質(zhì)去除是從冶金級硅中獲得太陽能級硅所需的純化過程,對硅基太陽能電池的制備至關(guān)重要。
太陽能電池生產(chǎn)過程中對硼的去除要求越來越高,當(dāng)B濃度高于0.3ppmw時,少數(shù)載 流子的壽命就會因B–O缺陷而急劇縮短,進(jìn)而嚴(yán)重影響電池的光電轉(zhuǎn)換效率。
冶金法生產(chǎn)SOG-Si,有效降低生產(chǎn)成本、降低光伏發(fā)電成本,促進(jìn)太陽能電池行業(yè)水平 的高速發(fā)展和整體提高。冶金法中的各種冶金凈化工藝主要包括氣體吹煉、爐渣處理、等離 子體精煉、酸浸、溶劑精煉等,氣體吹煉能夠有效去除硅中的硼,但部分硅會被氧化成二氧 化硅和一氧化硅,造成少量的硅損失。除此之外,硼化物的飽和蒸氣壓在正常情況下都很低, 這限制了除B反應(yīng)速率。爐渣處理可以降低硅中硼的含量,但精煉硅需要較大的渣硅比(μ), 且熔渣顆粒很難與液態(tài)硅充分接觸。等離子體精煉對鋁、鈣、鐵和硼都有很好的脫除效果, 而該技術(shù)存在生產(chǎn)設(shè)備昂貴、能耗高、間歇性生產(chǎn)等缺點(diǎn),限制了其工業(yè)化應(yīng)用的發(fā)展。酸 浸濕法提硅不能在相應(yīng)的凝固組成下以低于其溶解極限的B濃度精制Si。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明針對冶金級硅中硼難以處理的問題,提出了一種利用復(fù)合親硼添加劑去除冶金級 硅中硼的方法,即采用復(fù)合親硼添加劑協(xié)同在精煉過程中脫除冶金級硅中硼,硼的脫除率接 近100%,不會對Si造成二次污染。
一種利用復(fù)合親硼添加劑去除冶金級硅中硼的方法,具體步驟如下:
(1)將冶金級硅加熱熔融得到含B的Si熔體,將復(fù)合親硼添加劑加入到含B的Si熔體得到混合熔體;
(2)將氬氣通入到混合熔體中并在溫度為1414~1600℃下精煉1~3h,隨爐冷卻至室溫 得到精煉硅;
(3)精煉硅研磨成150~200目的硅粉,硅粉依次經(jīng)王水、HF-HCl混酸清洗0.5~6h得 到高純硅。
所述步驟(1)復(fù)合親硼添加劑包括Hf和Zr,Hf和Zr的摩爾比為3:1~1:3;
所述步驟(1)混合熔體中復(fù)合親硼添加劑的摩爾含量為200~10000ppm;
所述步驟(3)HF-HCl混酸中HF和HCl的體積比為1:5~5:1。
復(fù)合親硼添加劑協(xié)同去除冶金級硅中硼的原理:
用Zr-Hf復(fù)合添加劑脫硼時,將同時發(fā)生下列脫硼反應(yīng):
[Hf]+2[B]=(HfB2)
[Zr]+2[B]=(ZrB2)
同時熔體中還出現(xiàn)下列耦合反應(yīng):
[Hf]+(ZrB2)=(HfB2)+[Zr] (3)
(ZrB2)+(HfB2)=(ZrB2·HfB2) (4)
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