[發(fā)明專利]一種利用復合親硼添加劑去除冶金級硅中硼的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111082145.7 | 申請日： | 2021-09-15 |
| 公開（公告）號： | CN113697815A | 公開（公告）日： | 2021-11-26 |
| 發(fā)明（設計）人： | 任永生;曾毅;馬文會;雷云;魏奎先;伍繼君;呂國強;謝克強;顏恒維;劉戰(zhàn)偉;李紹元;于潔;萬小涵;陳正杰 | 申請（專利權(quán)）人： | 昆明理工大學 |
| 主分類號： | C01B33/037 | 分類號： | C01B33/037 |
| 代理公司： | 天津煜博知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 12246 | 代理人： | 朱維 |
| 地址： | 650093 云*** | 國省代碼： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 利用 復合 添加劑 去除 冶金 級硅中硼 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種利用復合親硼添加劑去除冶金級硅中硼的方法，其特征在于，具體步驟如下：
(1)將冶金級硅加熱熔融得到含B的Si熔體，將復合親硼添加劑加入到含B的Si熔體得到混合熔體；
(2)將氬氣通入到混合熔體中并在溫度為1414～1600℃下精煉1～3h，隨爐冷卻至室溫得到精煉硅；
(3)精煉硅研磨成150～200目的硅粉，硅粉依次經(jīng)王水、HF-HCl混酸清洗0.5～6h得到高純硅。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述利用復合親硼添加劑去除冶金級硅中硼的方法，其特征在于：步驟(1)復合親硼添加劑包括Hf和Zr，Hf和Zr的摩爾比為3:1～1:3。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述利用復合親硼添加劑去除冶金級硅中硼的方法，其特征在于：步驟(1)混合熔體中復合親硼添加劑的摩爾含量為200～10000ppm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述利用復合親硼添加劑去除冶金級硅中硼的方法，其特征在于：步驟(3)HF-HCl混酸中HF和HCl的體積比為1:5～5:1。
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