[發明專利]一種電子顯示屏鍍膜方法在審
| 申請號: | 202111062026.5 | 申請日: | 2021-09-10 |
| 公開(公告)號: | CN113789502A | 公開(公告)日: | 2021-12-14 |
| 發明(設計)人: | 呂如軍;何晏兵;許沭華;朱常青;秦家春 | 申請(專利權)人: | 蕪湖長信科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/06;C23C14/02;C23C14/54;C23C14/58 |
| 代理公司: | 蕪湖安匯知識產權代理有限公司 34107 | 代理人: | 蔣兵魁 |
| 地址: | 241009 安徽省*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電子顯示屏 鍍膜 方法 | ||
本發明提供一種應用于電子顯示屏技術領域的電子顯示屏鍍膜方法,所述的電子顯示屏鍍膜方法的鍍膜步驟為:通過鍍膜清洗機清洗玻璃層;鍍膜方式采用磁控濺射,磁控濺射是等離子體的真空沉積技術,在真空條件下實現等離子體放電,利用電磁場控制帶電粒子的運動,轟擊被鍍材料,在玻璃層上沉積所需要的薄膜,鍍膜靶材選用旋轉鉻靶,靶位配置兩對旋轉鉻靶實現CrO2層和CrN層在玻璃層上的連續鍍膜,本發明所述的電子顯示屏鍍膜方法,能夠有效調整顯示屏的可視區域的反射率、透過率、色差,使得觸摸顯示屏的可視區與絲印邊框顏色呈現一致,有效解決顯示屏在息屏狀態下的色差問題,提升視覺效果,提高顯示屏整體性能。
技術領域
本發明屬于電子顯示屏技術領域,更具體地說,是涉及一種電子顯示屏鍍膜方法。
背景技術
隨著電子產品的多元化發展,顯示屏越來越朝著大尺寸、多屏化、高清化、交互性、多形態化的方向發展,對于顯示的性能要求也有更高的要求,包括高對比度、低反射率、寬視角、高亮度、觸控以及快速響應等等。除此之外,顯示屏細節、結構的新穎設計,也能對提高產品競爭力起到意想不到的作用。因此,能夠打造新穎、醒目、美觀且具有科技感的顯示效果的“一體黑”技術將會成為趨勢之一。然而,現有大多絲印顯示屏的油墨區與視窗區通常是不同顏色的,顯示屏在息屏狀態下,顯示區與邊緣油墨區有明顯的色差界限,視覺效果較差。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是:針對現有技術的不足,提供一種能夠有效調整顯示屏的可視區域的反射率、透過率、色差,從而使得觸摸顯示屏的可視區與絲印邊框顏色呈現一致,從而有效解決顯示屏在息屏狀態下的色差問題,提升視覺效果的電子顯示屏鍍膜方法。
要解決以上所述的技術問題,本發明采取的技術方案為:
本發明為一種電子顯示屏鍍膜方法,所述的電子顯示屏鍍膜方法的鍍膜步驟為:
S1.通過鍍膜清洗機清洗玻璃層;
S2.鍍膜方式采用磁控濺射,磁控濺射是等離子體的真空沉積技術,在真空條件下實現等離子體放電,利用電磁場控制帶電粒子的運動,轟擊被鍍材料,從而在玻璃層上沉積所需要的薄膜,鍍膜靶材選用旋轉鉻靶,靶位配置兩對旋轉鉻靶實現CrO2層和CrN層在玻璃層上的連續鍍膜;
S3.鍍膜工藝時,真空度控制在1pa以下,溫度控制在200±50℃,并在鉻靶位通入90±30Sccm的濺射氣體Ar和110±50Sccm的反應氣體O2,200±50Sccm的反應氣體N2以保證一體黑效果。
所述的鍍膜的均勻性通過控制膜層濺射和沉積的均勻性實現,其中通過控制靶材磁場的均勻性達到獲得均勻的濺射率,通過控制靶材兩側陽極罩的開口距離獲得均勻的沉積率。
所述的光學標準為,550nm反射率10±3%。
所述的透過率60±3%,反射色度a值-1±2,反射色度b值-3±2。
所述的通過鍍膜清洗機清洗玻璃層時,使用純水、堿水通過傳動、毛刷、高壓噴淋和風刀來去除原材上的臟污。
所述的通過鍍膜清洗機清洗玻璃層時,清洗機速度4±2m/min,堿水的PH值要求11±1。
所述的毛刷轉速300±50r/min,噴淋壓力35±5psi,風刀壓力5±2kpa。
采用本發明的技術方案,能得到以下的有益效果:
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