[發明專利]一種電子顯示屏鍍膜方法

在審

• 申請號: 202111062026.5
• 申請日: 2021-09-10
• 公開（公告）號: CN113789502A
• 公開（公告）日: 2021-12-14
• 發明（設計）人: 呂如軍;何晏兵;許沭華;朱常青;秦家春
• 申請（專利權）人: 蕪湖長信科技股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/08;C23C14/06;C23C14/02;C23C14/54;C23C14/58
• 代理公司: 蕪湖安匯知識產權代理有限公司 34107
• 代理人: 蔣兵魁

1.一種電子顯示屏鍍膜方法，其特征在于：所述的電子顯示屏鍍膜方法的鍍膜步驟為：

S1.通過鍍膜清洗機清洗玻璃層(1)；

S2.鍍膜方式采用磁控濺射，磁控濺射是等離子體的真空沉積技術，在真空條件下實現等離子體放電，利用電磁場控制帶電粒子的運動，轟擊被鍍材料，從而在玻璃層(1)上沉積所需要的薄膜，鍍膜靶材選用旋轉鉻靶，靶位配置兩對旋轉鉻靶實現CrO2層(2)和CrN層(3)在玻璃層(1)上的連續鍍膜；

S3.鍍膜工藝時，真空度控制在1pa以下，溫度控制在200±50℃，并在鉻靶位通入90±30Sccm的濺射氣體Ar和110±50Sccm的反應氣體O2，200±50Sccm的反應氣體N2以保證一體黑效果。

2.根據權利要求1所述的電子顯示屏鍍膜方法，其特征在于：所述的鍍膜的均勻性通過控制膜層濺射和沉積的均勻性實現，其中通過控制靶材磁場的均勻性達到獲得均勻的濺射率，通過控制靶材兩側陽極罩的開口距離獲得均勻的沉積率。

3.根據權利要求1或2所述的電子顯示屏鍍膜方法，其特征在于：所述的光學標準為，550nm反射率10±3％。

4.根據權利要求3所述的電子顯示屏鍍膜方法，其特征在于：所述的透過率60±3％，反射色度a值-1±2，反射色度b值-3±2。

5.根據權利要求4所述的電子顯示屏鍍膜方法，其特征在于：所述的通過鍍膜清洗機清洗玻璃層(1)時，使用純水、堿水通過傳動、毛刷、高壓噴淋和風刀來去除原材上的臟污。

6.根據權利要求1或2所述的電子顯示屏鍍膜方法，其特征在于：所述的通過鍍膜清洗機清洗玻璃層(1)時，清洗機速度4±2m/min,堿水的PH值要求11±1。

7.根據權利要求6所述的電子顯示屏鍍膜方法，其特征在于：所述的毛刷轉速300±50r/min，噴淋壓力35±5psi，風刀壓力5±2kpa。