[發(fā)明專利]發(fā)光器件及顯示基板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111049861.5 | 申請日: | 2021-09-08 |
| 公開(公告)號: | CN113745378A | 公開(公告)日: | 2021-12-03 |
| 發(fā)明(設計)人: | 滕萬鵬;劉偉星;張春芳 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/08 | 分類號: | H01L33/08;H01L33/36;H01L27/15 |
| 代理公司: | 北京柏杉松知識產權代理事務所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 何家鵬;丁蕓 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發(fā)光 器件 顯示 | ||
本申請實施例提供了一種發(fā)光器件及顯示基板。發(fā)光器件包括襯底、第一發(fā)光結構和第二發(fā)光結構;第一發(fā)光結構和第二發(fā)光結構均包括第一半導體層、發(fā)光層和第二半導體層,第一半導體層設置在襯底上,發(fā)光層設置在第一半導體層的遠離襯底的一側,第二半導體層設置在發(fā)光層的遠離第一半導體層的一側;發(fā)光器件還包括第一電極、第二電極、第三電極和第一導電層,第一電極通過第一過孔與第一發(fā)光結構的第一半導體層連接,第三電極通過第二過孔與第一導電層連接,第一導電層與第二發(fā)光結構的第二半導體層連接,第二過孔環(huán)繞或半環(huán)繞第二發(fā)光結構的發(fā)光層設置,第二過孔在襯底上的正投影位于第二發(fā)光結構的發(fā)光層在襯底上的正投影之外。
技術領域
本申請涉及顯示技術領域,特別是涉及一種發(fā)光器件及顯示基板。
背景技術
相關技術中,高壓發(fā)光二極管(LED)包括兩顆串聯連接的LED。對于高壓發(fā)光二極管中的單顆LED來說,其不同部位存在一定的亮度差,導致亮度均一性不佳。因此,如何提高高壓發(fā)光二極管中單顆LED的亮度均一性是需要解決的一個技術問題。
發(fā)明內容
本申請實施例的目的在于提供一種發(fā)光器件及顯示基板,可以提高高壓發(fā)光二極管中單顆LED的亮度均一性。具體技術方案如下:
本申請第一方面的實施例提出了一種發(fā)光器件,包括襯底、第一發(fā)光結構和第二發(fā)光結構;所述第一發(fā)光結構和所述第二發(fā)光結構均包括第一半導體層、發(fā)光層和第二半導體層,所述第一半導體層設置在所述襯底上,所述發(fā)光層設置在所述第一半導體層的遠離所述襯底的一側,所述第二半導體層設置在所述發(fā)光層的遠離所述第一半導體層的一側;
所述發(fā)光器件還包括第一電極、第二電極、第三電極和第一導電層,所述第一電極通過第一過孔與所述第一發(fā)光結構的第一半導體層連接,所述第二電極的一端連接所述第一發(fā)光結構的第二半導體層,所述第二電極的另一端連接所述第二發(fā)光結構的第一半導體層,所述第三電極通過第二過孔與所述第一導電層連接,所述第一導電層與所述第二發(fā)光結構的第二半導體層連接,所述第二過孔環(huán)繞或半環(huán)繞所述第二發(fā)光結構的發(fā)光層設置,所述第二過孔在所述襯底上的正投影位于所述第二發(fā)光結構的發(fā)光層在所述襯底上的正投影之外。
在本申請的其中一些實施例中所述第二過孔為環(huán)繞所述第二發(fā)光結構的發(fā)光層設置的口字形過孔結構;
所述第二過孔的各部分在所述襯底上的正投影,到所述第二發(fā)光結構的發(fā)光層在所述襯底上的正投影的距離均相等。
在本申請的另外一些實施例中,所述第二過孔為半環(huán)繞所述第二發(fā)光結構的發(fā)光層設置的匚字形過孔結構;
所述第二過孔的各部分在所述襯底上的正投影,到所述第二發(fā)光結構的發(fā)光層在所述襯底上的正投影的距離均相等。
在本申請的一些實施例中,其特征在于,所述發(fā)光器件還包括第二導電層,所述第二電極通過第三過孔與所述第二導電層連接,所述第二導電層與第一發(fā)光結構的第二半導體層連接,所述第三過孔環(huán)繞或半環(huán)繞所述第一發(fā)光結構的發(fā)光層設置,所述第三過孔在所述襯底上的正投影位于所述第一發(fā)光結構的發(fā)光層在所述襯底上的正投影之外。
在本申請的一些實施例中,所述第三過孔為環(huán)繞所述第一發(fā)光結構的發(fā)光層設置的口字形過孔結構;
所述第三過孔的各部分在所述襯底上的正投影,到所述第一發(fā)光結構的發(fā)光層在所述襯底上的正投影的距離均相等。
在本申請的一些實施例中,所述第三過孔為環(huán)繞所述第一發(fā)光結構的發(fā)光層設置的匚字形過孔結構;
所述第三過孔的各部分在所述襯底上的正投影,到所述第一發(fā)光結構的發(fā)光層在所述襯底上的正投影的距離均相等。
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