[發(fā)明專(zhuān)利]一種實(shí)現(xiàn)無(wú)預(yù)鍍層引線框架表面引線鍵合的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202111045874.5 | 申請(qǐng)日: | 2021-09-07 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113782454A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-12-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳中洲;張波;王子相 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 西安微電子技術(shù)研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/50 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/50;H01L21/607 |
| 代理公司: | 西安通大專(zhuān)利代理有限責(zé)任公司 61200 | 代理人: | 白文佳 |
| 地址: | 710065 陜西*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 實(shí)現(xiàn) 鍍層 引線 框架 表面 方法 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種實(shí)現(xiàn)無(wú)預(yù)鍍層引線框架表面引線鍵合的方法,屬于半導(dǎo)體集成電路封裝測(cè)試領(lǐng)域。包括:對(duì)無(wú)預(yù)鍍層引線框架載體進(jìn)行去氧化處理;通過(guò)電火花將金線熔融成金球;通過(guò)鍵合壓力將金球壓扁于引線框架載體表面使金焊球成型;通過(guò)超聲電流使成型的金焊球與引線框架載體表面生成金屬間化合物,形成鍵合界面;將金線沿金焊球尾部切斷,在引線框架載體表面上載體地線鍵合點(diǎn)或引線框架內(nèi)引腳鍵合點(diǎn)形成金焊球;在預(yù)植好金焊球的引線框架載體完成上芯固化;進(jìn)行芯片焊盤(pán)、引線框架載體以及引線框架內(nèi)引腳的引線鍵合;其中,無(wú)預(yù)鍍層區(qū)域引線鍵合在預(yù)植的金焊球上。本發(fā)明所述方法使無(wú)預(yù)鍍銅引線框架表面可實(shí)現(xiàn)引線鍵合,提高塑封產(chǎn)品的可靠性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于半導(dǎo)體集成電路封裝測(cè)試領(lǐng)域,涉及一種實(shí)現(xiàn)無(wú)預(yù)鍍層引線框架表面引線鍵合的方法。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體集成電路引線框架類(lèi)產(chǎn)品封裝過(guò)程中,由于銅易氧化,正常狀態(tài)下的銅表面會(huì)有一層氧化膜,無(wú)法直接在銅表面進(jìn)行引線鍵合,為了滿(mǎn)足與芯片引線鍵合要求,一般會(huì)在銅引線框架載體及內(nèi)引腳表面鍍銀。芯片粘接在引線框架上后,用鍵合絲在芯片焊盤(pán)和引線框架鍍銀層上鍵合實(shí)現(xiàn)電氣通路,最后塑封、電鍍、激光打標(biāo)及成型。
但是,銅引線框架上鍍銀表面與塑封料的界面結(jié)合力弱于銅表面與塑封料的結(jié)合力,在后續(xù)產(chǎn)品加工過(guò)程和使用過(guò)程中產(chǎn)生的應(yīng)力以及塑封體本身應(yīng)力的作用下,引線框架類(lèi)塑封產(chǎn)品鍍銀與塑封料之間易發(fā)生分層現(xiàn)象,并且,分層一旦發(fā)生會(huì)成為潮氣入侵的通路或分層擴(kuò)展的源頭,最終導(dǎo)致塑封器件失效。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn),本發(fā)明的目的在于提供一種實(shí)現(xiàn)無(wú)預(yù)鍍層引線框架表面引線鍵合的方法,使無(wú)預(yù)鍍銅引線框架表面可實(shí)現(xiàn)引線鍵合,減少了引線框架類(lèi)塑封產(chǎn)品鍍銀表面與塑封料之間易發(fā)生分層的問(wèn)題,提高塑封產(chǎn)品的可靠性。
為了達(dá)到上述目的,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn):
本發(fā)明公開(kāi)了一種實(shí)現(xiàn)無(wú)預(yù)鍍層引線框架表面引線鍵合的方法,包括:
步驟1,對(duì)無(wú)預(yù)鍍層引線框架載體進(jìn)行去氧化處理,去除表面氧化層;步驟2,通過(guò)電火花,將劈刀口的預(yù)留金線熔融成金球;步驟3,通過(guò)鍵合壓力、超聲功率將金球壓扁于引線框架載體表面,使金焊球成型,同時(shí),成型的金焊球與引線框架載體表面生成金屬間化合物,形成鍵合界面;步驟4,將金線沿金焊球尾部切斷,在引線框架載體表面上載體地線鍵合點(diǎn)或引線框架內(nèi)引腳鍵合點(diǎn)形成金焊球;步驟5,在預(yù)植好金焊球的引線框架載體完成上芯固化;步驟6,進(jìn)行芯片焊盤(pán)、引線框架載體以及引線框架內(nèi)引腳的引線鍵合;其中,無(wú)預(yù)鍍層區(qū)域引線鍵合在預(yù)植的金焊球上。
優(yōu)選地,步驟2中,通過(guò)電火花的電流時(shí)間工藝參數(shù)包括:燒球電流為28~32mA、燒球直徑為2.4~2.8mil。
優(yōu)選地,步驟3中,鍵合工藝參數(shù)包括:進(jìn)行界面鍵合的鍵合壓力為32~36g。
優(yōu)選地,步驟3中,金焊球成型的厚度為15%的球徑~45%的球徑。
優(yōu)選地,步驟3中,超聲功率參數(shù)包括:超聲電流為190~210mA,鍵合時(shí)間為18~24ms。
優(yōu)選地,去除表面氧化層后,對(duì)待預(yù)植金焊球的引線框架載體進(jìn)行等離子清洗。
優(yōu)選地,引線框架載體為銅引線框架載體。
優(yōu)選地,步驟2、步驟3、步驟4和步驟6所述的過(guò)程在KS壓焊機(jī)上進(jìn)行。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下有益效果:
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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