[發(fā)明專利]一種原位生長碳界面層改性SiC/SiC復合材料及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202111042691.8 | 申請日: | 2021-09-07 |
| 公開(公告)號: | CN113683433B | 公開(公告)日: | 2022-06-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 宋環(huán)君;陳昊然;楊良偉;金鑫;張寶鵬;于藝;劉偉;于新民;劉俊鵬;孫同臣 | 申請(專利權(quán))人: | 航天特種材料及工藝技術(shù)研究所 |
| 主分類號: | C04B35/80 | 分類號: | C04B35/80;C04B35/565;C04B35/622 |
| 代理公司: | 北京格允知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11609 | 代理人: | 譚輝 |
| 地址: | 100074 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 原位 生長 界面 改性 sic 復合材料 及其 制備 方法 | ||
1.一種原位生長碳界面層改性SiC/SiC復合材料的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括如下步驟:
(1)將SiC纖維預制體與第一前驅(qū)體進行反應,得到第一試樣;其中,所述第一試樣包含碳界面層;所述第一前驅(qū)體為四氯化碳、氯氣、三氯甲烷和氫氣中的至少一種;所述反應的反應溫度為700~1000℃,真空度為-0.09~-0.05MPa,反應時間為0.5~8h;所述碳界面層是在所述SiC纖維預制體的表面由外向內(nèi)原位生長得到的;其中,所述碳界面層的厚度為100~500nm;
(2)將所述第一試樣與第二前驅(qū)體進行化學氣相沉積反應,得到第二試樣;其中,所述第二試樣包含SiC界面外層;所述第二前驅(qū)體為氯代甲基硅烷、溴代甲基硅烷、甲基硅烷、氟代甲基硅烷中的至少一種;所述SiC界面外層的厚度為3~5μm;
(3)將所述第二試樣浸漬在第三前驅(qū)體中,得到第三試樣;所述第三前驅(qū)體包含溶質(zhì)、溶劑和造孔劑;所述溶質(zhì)為酚醛樹脂、糠酮、糠醛中的至少一種;所述溶劑為乙醇、二甲苯、甲苯中的至少一種;所述造孔劑為聚乙烯醇、聚乙二醇、聚乙烯醇縮丁醛中的至少一種;
(4)將所述第三試樣依次進行固化、裂解反應,得到第四試樣;
(5)重復步驟(3)至(4)至少一次,得到第五試樣;
(6)將所述第五試樣進行液態(tài)硅熔滲,得到改性SiC/SiC復合材料。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,在步驟(1)中:
所述SiC纖維預制體利用一代纖維或二代纖維編織而成;其中,編織方式為縫合、2.5D或三維四向編織。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,在步驟(1)中:
所述SiC纖維預制體的纖維體積分數(shù)為25~50%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,在步驟(2)中:
所述化學氣相沉積反應的沉積溫度為800~1200℃,真空度為-0.09~-0.01MPa,沉積時間為10-30h。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于:
在步驟(3)中,所述浸漬的浸漬溫度為25~80℃,壓力為1~5MPa,浸漬時間為0.5~4h。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,在步驟(4)中:
所述固化反應的反應溫度為100~350℃,固化時間為1~5h,固化壓力為1~5MPa。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,在步驟(4)中:
所述裂解反應的反應溫度為700~1200℃,真空度為-0.09~-0.01MPa,裂解時間為2~4h。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于:
在步驟(5)中,重復步驟(3)至(4)的次數(shù)為1至5次。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于:
在步驟(6)中,所述液態(tài)硅熔滲的溫度為1500~1700℃,真空度為-0.09~-0.02MPa,熔滲時間為0.1~2h。
10.一種原位生長碳界面層改性SiC/SiC復合材料,其特征在于,采用權(quán)利要求1-9中任一所述的制備方法制備得到。
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