[發(fā)明專利]一種減少PI膠絲殘留的方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202111024982.4
• 申請日: 2021-09-02
• 公開（公告）號: CN113703292A
• 公開（公告）日: 2021-11-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 陳思穎;楊明;何嘉賓;劉光明;劉珍一;王大偉;楊惠;歐博文
• 申請（專利權(quán)）人: 四川廣義微電子股份有限公司
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30;G03F7/42
• 代理公司: 成都行之專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51220
• 代理人: 史麗紅

1.一種減少PI膠絲殘留的方法，其特征在于，所述方法包括：

步驟一，對產(chǎn)品片的非感光PI膠表面涂抹光刻膠，并采用光刻工藝進行曝光處理，再對曝光處理后的產(chǎn)品片進行烘烤處理；

步驟二，將烘烤處理后的產(chǎn)品片進行冷板處理；

步驟三，將冷板處理后的產(chǎn)品片進行顯影處理；

步驟四，將顯影處理后的產(chǎn)品片進行硬烤處理。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種減少PI膠絲殘留的方法，其特征在于，所述步驟一中的烘烤的溫度為115℃，烘烤的時間為60s。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種減少PI膠絲殘留的方法，其特征在于，所述步驟二中的冷板處理的溫度為23℃，冷板的時間為60s。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種減少PI膠絲殘留的方法，其特征在于，所述步驟三的顯影處理的步驟如下：將冷板處理后的產(chǎn)品片沖水處理，對沖水處理后的產(chǎn)品片進行甩干處理；

將顯影液噴在已甩干表面水分的產(chǎn)品片上；

對噴顯影液的產(chǎn)品片進行振蕩顯影處理；

對振蕩顯影處理后的產(chǎn)品片再次進行沖水及甩干處理。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種減少PI膠絲殘留的方法，其特征在于，所述振蕩顯影環(huán)節(jié)預(yù)留光刻膠，光刻膠預(yù)留的量剛好包裹住die邊緣高臺階。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種減少PI膠絲殘留的方法，其特征在于，控制顯影時間為75-79s使光刻膠預(yù)留的量剛好包裹住die邊緣高臺階。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種減少PI膠絲殘留的方法，其特征在于，采用負膠清洗劑去除剛好包裹住die邊緣高臺階的預(yù)留光刻膠。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種減少PI膠絲殘留的方法，其特征在于，所述步驟四中的硬烤的溫度為110℃，硬烤的時間為60s。