[發明專利]一種基于成像亮度計的OLED屏幕子像素亮度提取方法

有效

• 申請號: 202111023231.0
• 申請日: 2021-09-02
• 公開（公告）號: CN113470562B
• 公開（公告）日: 2021-11-19
• 發明（設計）人: 蔡劍;李堃;葉選新;蔡杰羽;石炳磊;白海楠;朱詩文
• 申請（專利權）人: 葦創微電子（上海）有限公司
• 主分類號: G09G3/20
• 分類號: G09G3/20;G09G3/3208
• 代理公司: 廣州京諾知識產權代理有限公司 44407
• 代理人: 于睿虬

本發明公開了一種基于成像亮度計的OLED屏幕子像素亮度提取方法，具包括：拍攝待測顯示屏輸出的圖片；獲得空間采樣倍率K；將圖像分割成若干個子像素團，進行曲面擬合，得到彌散系數或者其平均值；以二維彌散模型進行模擬得到模擬彌散圓，并且對不同采樣位置計算出對應的模擬采樣團；匹配采樣位置，并根據采樣位置擬合計算每個子像素團對應的模擬彌散圓中心的擬合亮度值，作為待測顯示屏的子像素亮度值。本發明對于不同的采樣位置，做模式匹配，同時針對不同的采樣位置應用不同的擬合，還原出待測顯示屏子像素中心處的亮度，避免了周期性偏差的產生，從本質上解決了摩爾紋的問題，避免了摩爾紋的產生，提高了測量精度。

技術領域

本發明涉及顯示制造領域，具體為一種基于成像亮度計的OLED屏幕子像素亮度提取方法。

背景技術

在現有技術中，使用電流驅動的自發光顯示器（包括OLED顯示屏、MiniLED顯示屏以及未來的MicroLED顯示屏）由于制造工藝的限制，會產生子像素級別的電路上的不一致性。這種不一致性表現在顯示上，即為一種整體或局部的顯示不均勻性，表現為塊狀、沙狀、點狀等，這種不均勻性統稱為Mura（指顯示器亮度不均勻, 造成各種痕跡的現象）。Mura通常有亮度Mura和色Mura兩種，表示亮度的不均勻性和顏色的不均勻性，目前Mura是限制國產OLED生產良率的主要因素之一，而對于顯示器的Mura校準通常稱為DeMura。

目前業界常用的DeMura方案包括以下幾個步驟：拍攝、提圖、建模、壓縮和顯示驅動芯片（DriverIC）算法處理。但是現有的拍攝工序，由于成像亮度計本身的一致性以及線性可能并不理想，會帶來一定的誤差。同時在提圖的時候，由于空間采樣倍率非整數，會產生采樣相位的不一致，從而導致誤差的產生，比如提圖的數據會有周期性的條紋產生，俗稱摩爾紋（Moire）。提圖軟件在處理摩爾紋的時候會使用某些濾波算法，這些算法也會人為產生誤差。理想的拍攝提圖，能夠精準的獲得每個子像素的顯示特性（不一致性），但不理想的拍攝和提圖，往往會導致DeMura的失敗。

因此，急需一種提取屏幕子像素亮度的方法，能夠在提圖過程中直接避免摩爾紋的產生，以從根本上解決上述問題。

發明內容

為解決現有的技術問題，本發明提供一種基于成像亮度計的OLED屏幕子像素亮度提取方法，在拍攝、提圖和建模的過程中，通過迭代的方法提高拍攝提圖的精度，避免摩爾紋的產生，為最終的DeMura實現提供基礎。

本發明提供了一種基于成像亮度計的OLED屏幕子像素亮度提取方法，包括以下步驟：

S1：調整成像亮度計的焦距、位置以及曝光時間，拍攝待測顯示屏輸出的圖片，使所述成像亮度計獲取的最大亮度值處于預設亮度范圍內；

S2：根據S1拍攝到的圖像獲得空間采樣倍率K；

S3：根據S2計算得到的空間采樣倍率K，將S1拍攝到的圖像分割成若干個子像素團，每個所述子像素團對應待測顯示屏的一個子像素，對一個或者若干個所述子像素團以二維彌散模型進行曲面擬合，得到彌散系數或者其平均值；

其中，所述子像素為待測顯示屏的一個發光單元所產生的光學圖案單元，由于存在色像差等現象，因此在拍攝設備內會形成彌散圓；

所述子像素團表示拍攝設備采集一個光學圖案單元得到的采樣點集合，每個子像素團包含若干個采樣點；

所述二維彌散模型為預設的彌散圓亮度的二維分布模型，預設的彌散圓亮度的二維分布模型可以是二維正態分布模型，也可以是其他的二維分布模型，本領域技術人員可根據需要自行設定；

所述彌散系數為二維彌散模型的參數。