[發明專利]鬼像測試方法、鬼像測試系統和計算機可讀存儲介質

在審

• 申請號: 202111000192.2
• 申請日: 2021-08-30
• 公開（公告）號: CN113852803A
• 公開（公告）日: 2021-12-28
• 發明（設計）人: 彭旭;韓欣欣
• 申請（專利權）人: 歌爾光學科技有限公司
• 主分類號: H04N17/00
• 分類號: H04N17/00;G06T7/00;G06T7/62
• 代理公司: 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287
• 代理人: 張志江

本發明公開一種鬼像測試方法、鬼像測試系統和計算機可讀存儲介質，鬼像測試方法包括步驟：光源向待測光學系統發出檢測光線；采樣相機于待測光學系統的像面采樣，以獲取檢測圖像，光功率計于待測光學系統的像面檢測，以獲取主光線的光功率及雜光的光功率；以及處理器獲取鬼像彌散比和雜光能量比。其中，檢測光線經待測光學系統傳播后，能于待測光學系統的像面形成檢測圖像，檢測圖像包括主像以及鬼像，主光線和雜光分別于待測光學系統的像面形成主像和鬼像，鬼像彌散比為鬼像與主像的面積之比，雜光能量比為雜光與主光線的光功率之比。本發明技術方案旨在多維度且量化評估鬼像對于光學系統的成像質量的影響程度，以確保光學系統的成像效果。

技術領域

本發明涉及光學系統領域，特別涉及一種鬼像測試方法、鬼像測試系統和計算機可讀存儲介質。

背景技術

在光學系統的成像過程中，除了主要光線在主像面成像，偶爾會伴隨著非正常傳輸光線在主像面附近匯聚，并形成鬼像。形成鬼像的光線屬于雜光，但也是成像光線。然而，目前常見的雜光評價指標都是針對非成像雜光評價所定義的參量，并不適用于評價成像類型的鬼像雜光，因而無法評估鬼像對于光學系統的成像質量的影響程度。

發明內容

本發明的主要目的是提出一種鬼像測試方法，旨在多維度且量化評估鬼像對于光學系統的成像質量的影響程度，以確保光學系統的成像效果。

為實現上述目的，本發明提出的鬼像測試方法，包括步驟：

光源向待測光學系統發出檢測光線；其中，所述檢測光線經所述待測光學系統傳播后，能于所述待測光學系統的像面形成檢測圖像；

采樣相機于所述待測光學系統的像面采樣，以獲取所述檢測圖像，光功率計于所述待測光學系統的像面檢測，以獲取主光線的光功率及雜光的光功率；以及

處理器獲取鬼像彌散比和雜光能量比；其中，所述檢測圖像包括主像以及鬼像，所述主光線于所述待測光學系統的像面形成所述主像，所述雜光于所述待測光學系統的像面形成所述鬼像，所述鬼像彌散比為所述鬼像與所述主像的面積之比，所述雜光能量比為所述雜光與所述主光線的光功率之比。

可選地，所述處理器獲取所述出射圖像及形成于所述出射圖像上的鬼像、所述第一光線功率及所述第二光線功率，并獲取鬼像彌散比和雜光能量比的步驟之后還包括步驟：

當所述鬼像彌散比大于第一閾值且所述雜光能量比小于第二閾值時，處理器判定所述待測光學系統的鬼像滿足要求。

可選地，所述處理器獲取鬼像彌散比的步驟具體為：

處理器獲取所述檢測圖像；

處理器獲取所述鬼像的面積及所述主像的面積，并獲取所述鬼像彌散比；

處理器計算所述鬼像的面積與所述主像的面積的比值，以獲取所述鬼像彌散比；

可選地，所述處理器獲取所述鬼像的面積的步驟具體為：

處理器將所述鬼像擬合為橢圓；

處理器以橢圓面積公式計算所述鬼像的面積。

可選地，所述光功率計包括第一探頭和第二探頭，所述第一探頭設于所述主像所在的區域，所述第二探頭設于所述鬼像所在的區域，所述主像所在的區域和所述鬼像所在的區域具有重合區域，所述第一探頭和所述第二探頭中的至少一者不位于所述重合區域；

所述處理器獲取雜光能量比的步驟具體為：

處理器獲取所述第一探頭檢測的第一光功率及所述第二探頭檢測的第二光功率；

處理器獲取主光線的光功率及雜光的光功率，并計算所述雜光能量比。

可選地，所述處理器獲取所述第一探頭檢測的第一光功率及所述第二探頭檢測的第二光功率的步驟之前還包括步驟：