[發(fā)明專利]一種漿料穩(wěn)定的鋰化硅基復合材料及其制備方法和應用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110999768.4 | 申請日: | 2021-08-30 |
| 公開(公告)號: | CN113437280B | 公開(公告)日: | 2021-11-30 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李閣;閆明妍;李金熠;程曉彥;岳風樹 | 申請(專利權)人: | 北京壹金新能源科技有限公司 |
| 主分類號: | H01M4/36 | 分類號: | H01M4/36;H01M4/48;H01M4/62;H01M10/0525;C01B32/05;C01B33/113;C01B33/32;C01B33/021;B82Y40/00;B82Y30/00 |
| 代理公司: | 北京中知星原知識產權代理事務所(普通合伙) 11868 | 代理人: | 艾變開 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 漿料 穩(wěn)定 鋰化硅基 復合材料 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種漿料穩(wěn)定的鋰化硅基復合材料,其特征在于,硅基復合材料為三明治型的三層復合結構,從里到外依次是鋰化的硅基材料、碳包覆層以及金屬被覆膜;所述的硅基材料包括硅的氧化物;所述的金屬被覆膜含有鋁、鎂、鋯和鈦中的一種或多種金屬元素;所述鋰化硅基復合材料是將碳包覆的硅基材料經(jīng)預鋰化后,經(jīng)低溫預燒結、鹽相混合、高溫煅燒、醇處理工序,表面原位形成金屬被覆膜;
硅基材料經(jīng)預鋰化后包括納米硅、硅的氧化物和鋰硅酸鹽;
所述低溫預燒結條件是60-150℃低溫預燒結,燒結時間為1-12h;
所述高溫煅燒溫度為650-750℃;
所述鹽相混合是指加入金屬被覆膜前驅體或金屬化合物;
所述金屬被覆膜包括金屬的磷酸鹽、偏磷酸鹽、氫氧化物、氧化物的一種或多種;
所述金屬被覆膜厚度為1-7nm;
所述醇處理是指產物與醇混合、洗滌。
2.根據(jù)權利要求1所述的漿料穩(wěn)定的鋰化硅基復合材料,其特征在于,所述金屬被覆膜前驅體或金屬化合物含有共混的離子液體溶劑,離子液體加入量為金屬前驅體或金屬化合物用量的10-20wt%,所述離子液體溶劑選自咪唑類離子液體。
3.根據(jù)權利要求1所述的漿料穩(wěn)定的鋰化硅基復合材料,其特征在于,所述漿料穩(wěn)定的鋰化硅基復合材料為均相分布的復合結構,其中值粒徑為4-8 μm。
4.根據(jù)權利要求1所述的漿料穩(wěn)定的鋰化硅基復合材料,其特征在于,所述預鋰化是將碳包覆的硅基材料浸漬于預鋰化溶液中,所述預鋰化溶液是由多環(huán)芳香族化合物絡合劑、金屬鋰和醚類溶劑在惰性氣氛下攪拌得到均相的芳基鋰溶液;所述絡合劑選自聯(lián)苯、4,4'-二甲基聯(lián)苯、三聯(lián)苯、萘、蒽、菲、并四苯和并五苯的一種或多種。
5.根據(jù)權利要求1所述的漿料穩(wěn)定的鋰化硅基復合材料,其特征在于,所述鋰硅酸鹽包含Li4SiO4、Li2SiO3和Li2Si2O5中的一種或多種。
6.根據(jù)權利要求1所述的漿料穩(wěn)定的鋰化硅基復合材料,其特征在于,碳包覆層厚度為10-30nm。
7.權利要求1-6任一項所述的漿料穩(wěn)定的鋰化硅基復合材料的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)硅基材料進行碳包覆,得到碳包覆硅基材料;
(2)將絡合劑、金屬鋰和有機溶劑混合均勻,在惰性氣氛下攪拌浸漬得到均相芳基鋰絡合溶液;
(3)將步驟(1)的所得材料浸漬于步驟(2)所得均相溶液,浸漬結束后分離得到均勻浸入鋰的碳包覆硅基材料顆粒;
(4)將步驟(3)所得到顆粒在惰性氣氛下,60-150℃低溫預燒結,燒結時間為1-12h;
(5)加入金屬被覆膜前驅體或金屬化合物,所述金屬前驅體或金屬化合物選自金屬烷氧化物、金屬氧化物、金屬氫氧化物及金屬鹽的一種或多種;
(6)高溫煅燒:將步驟(5)所得到產物在惰性氣氛下經(jīng)650-750℃高溫煅燒1-24h,冷卻,研磨;
(7)將步驟(6)所得產物經(jīng)醇處理、干燥即得所述的包覆有金屬被覆膜的硅基復合材料。
8.根據(jù)權利要求7所述的方法,其特征在于,所述的金屬鋰的加入量為步驟(1)得到的碳包覆硅基材料的5-15wt%;步驟(2)均相溶液中芳香鋰的濃度為0.1-3 mol/L,惰性氣氛下攪拌溫度為0-70℃;步驟(3)浸漬溫度為10-30℃,浸漬時間為2min-20h;步驟(4)所述低溫預燒結的溫度80-100℃;步驟(7)所述醇處理是產物與醇混合、洗滌。
9.根據(jù)權利要求7所述的方法,其特征在于,步驟(5) 金屬前驅體或金屬化合物中還含有共混的離子液體溶劑,離子液體加入量為金屬前驅體或金屬化合物用量的10-20wt%,所述離子液體溶劑選自咪唑類離子液體,陰離子為鹵離子、六氟磷酸根、四氟磷酸根或四氟硼酸根。
10.根據(jù)權利要求9所述的方法,其特征在于,所述咪唑類離子液體選自氯化1-丙基-3-甲基咪唑、氯化1-丁基-3-甲基咪唑中的至少一種。
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