[發(fā)明專(zhuān)利]一種硅基微顯示器及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110995493.7 | 申請(qǐng)日: | 2021-08-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113611730B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-10-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王衛(wèi)衛(wèi);周文斌;馮峰;范國(guó)振;徐超;曹云嶺;張峰;孫劍;高裕弟 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 昆山夢(mèng)顯電子科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H10K59/12 | 分類(lèi)號(hào): | H10K59/12;H10K59/35;H10K71/00 |
| 代理公司: | 北京遠(yuǎn)智匯知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11659 | 代理人: | 范坤坤 |
| 地址: | 215300 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 硅基微 顯示器 及其 制備 方法 | ||
1.一種硅基微顯示器的制備方法,其特征在于,包括:
提供驅(qū)動(dòng)背板;
在驅(qū)動(dòng)背板的一側(cè)依次形成第一電極層、第一功能層、白光發(fā)光層、第二功能層和第二電極層;
其中,所述第一功能層和所述第二功能層中的至少一層包括通過(guò)多次錯(cuò)位蒸鍍方式形成的厚度不完全相同的微腔調(diào)節(jié)層;不同厚度的微腔調(diào)節(jié)層用于增強(qiáng)所述白光發(fā)光層發(fā)射的白光中不同顏色的光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅基微顯示器的制備方法,其特征在于,
所述微腔調(diào)節(jié)層包括厚度不同的第一微腔調(diào)節(jié)層、第二微腔調(diào)節(jié)層和第三微腔調(diào)節(jié)層;所述第一微腔調(diào)節(jié)層用于增強(qiáng)所述白光發(fā)光層發(fā)射的白光中的藍(lán)光;所述第二微腔調(diào)節(jié)層用于增強(qiáng)所述白光發(fā)光層發(fā)射的白光中的綠光;所述第三微腔調(diào)節(jié)層用于增強(qiáng)所述白光發(fā)光層發(fā)射的白光中的紅光;
所述通過(guò)多次錯(cuò)位蒸鍍方式形成的厚度不完全相同的微腔調(diào)節(jié)層,包括:
基于第一掩膜版,在所述第一電極層遠(yuǎn)離所述驅(qū)動(dòng)背板的一側(cè)形成第一微腔材料層;
相對(duì)于所述第一微腔材料層,基于所述第一掩膜版錯(cuò)位一個(gè)子像素長(zhǎng)度蒸鍍第二微腔材料層;所述第二微腔材料層位于所述第一微腔材料層遠(yuǎn)離所述驅(qū)動(dòng)背板的一側(cè);
相對(duì)于所述第二微腔材料層,基于所述第一掩膜版錯(cuò)位一個(gè)子像素長(zhǎng)度蒸鍍第三微腔材料層;所述第三微腔材料層位于所述第二微腔材料層遠(yuǎn)離所述驅(qū)動(dòng)背板的一側(cè);
其中,單獨(dú)形成第一微腔材料層的位置以及單獨(dú)形成第三微腔材料層的位置對(duì)應(yīng)形成所述第一微腔調(diào)節(jié)層,層疊形成第一微腔材料層和第二微腔材料層的位置以及層疊形成第三微腔材料層和第二微腔材料層的位置對(duì)應(yīng)形成所述第二微腔調(diào)節(jié)層;層疊形成第一微腔材料層、第二微腔材料層和第三微腔材料層的位置對(duì)應(yīng)形成所述第三微腔調(diào)節(jié)層。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅基微顯示器的制備方法,其特征在于,所述第一微腔材料層的厚度等于所述第三微腔材料層的厚度;
沿錯(cuò)位蒸鍍的方向上,三次蒸鍍工藝后形成依次排列的第一微腔調(diào)節(jié)層、第二微腔調(diào)節(jié)層、第三微腔調(diào)節(jié)層、第三微腔調(diào)節(jié)層、第二微腔調(diào)節(jié)層和第一微腔調(diào)節(jié)層。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅基微顯示器的制備方法,其特征在于,所述白光發(fā)光層包括層疊設(shè)置的藍(lán)色發(fā)光材料層、綠色發(fā)光材料層和紅色發(fā)光材料層;
形成所述光發(fā)光層包括:
基于第二掩膜版,在所述第一功能層遠(yuǎn)離驅(qū)動(dòng)背板的一側(cè)依次形成藍(lán)色發(fā)光材料層、綠色發(fā)光材料層和紅色發(fā)光材料層;
其中,所述第二掩膜版的開(kāi)口暴露硅基微顯示器的整個(gè)顯示區(qū);沿錯(cuò)位蒸鍍的方向上,所述第一掩膜版的開(kāi)口同時(shí)暴露四個(gè)子像素的長(zhǎng)度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅基微顯示器的制備方法,其特征在于,所述第一電極層包括陽(yáng)極層,所述第二電極層包括陰極層;所述第一功能層包括空穴注入層、空穴傳輸層和電子阻擋層中的至少兩層;所述第二功能層包括電子注入層、電子傳輸層和空穴阻擋層中的至少兩層。
在第一功能層中,所述空穴傳輸層或所述電子阻擋層用于形成所述微腔調(diào)節(jié)層;
在第二功能層中,所述電子傳輸層或所述空穴阻擋層用于形成所述微腔調(diào)節(jié)層。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅基微顯示器的制備方法,其特征在于,在所述驅(qū)動(dòng)背板的一側(cè)依次形成第一電極層、第一功能層、白光發(fā)光層、第二功能層和第二電極層之后,還包括:
于第二電極層遠(yuǎn)離驅(qū)動(dòng)背板的一側(cè)形成濾光層;所述濾光層包括藍(lán)色濾光單元、綠色濾光單元和紅色濾光單元;所述藍(lán)色濾光單元和所述第一微腔調(diào)節(jié)層對(duì)位設(shè)置,所述綠色濾光單元和所述第二微腔調(diào)節(jié)層對(duì)位設(shè)置;所述紅色濾光單元和所述第三微腔調(diào)節(jié)層對(duì)位設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的硅基微顯示器的制備方法,其特征在于,在所述驅(qū)動(dòng)背板的一側(cè)依次形成第一電極層、第一功能層、白光發(fā)光層、第二功能層和第二電極層之后,還包括:
于第二電極層遠(yuǎn)離驅(qū)動(dòng)背板的一側(cè)形成薄膜封裝層;所述薄膜封裝層位于所述第二電極層和所述濾光層之間。
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