[發明專利]一種無蝕刻紋的觸控顯示屏及其制造方法

在審

• 申請號: 202110987884.4
• 申請日: 2021-08-26
• 公開（公告）號: CN113791703A
• 公開（公告）日: 2021-12-14
• 發明（設計）人: 李建軍
• 申請（專利權）人: 牧東光電科技有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;G06F3/044;G02F1/1333
• 代理公司: 蘇州優博知識產權代理事務所(普通合伙) 32487
• 代理人: 石煜

本發明提供一種無蝕刻紋的觸控顯示屏及其制造方法，包括依次堆疊的液晶顯示模組、基礎粘結層、電容層、功能粘結層和蓋板；電容層包括依次堆疊的基材層、第一減反射層、圖案化的導電層和第二減反射層；減反射層包括二氧化硅層和/或五氧化二鈮層，且厚度為20nm～2μm；圖案化的導電層的蝕刻區的寬度為20～30μm，圖案化的導電層的厚度為20nm～2μm。通過減反射層能夠減小圖案化的導電層中的蝕刻區和非蝕刻區的反射率差值；同時控制蝕刻區的寬度能夠減小非蝕刻區反射出來的光，從而進一步減少蝕刻區和非蝕刻區的反射率差值，從而在視覺上消除蝕刻紋，解決了現有電容式觸控顯示屏因導電層蝕刻區與非蝕刻區域的反射率相差較大而導致出現蝕刻紋現象的問題。

技術領域

本發明涉及觸控顯示技術領域，特別涉及一種無蝕刻紋的觸控顯示屏及其制造方法。

背景技術

隨著電子科技的發展，手機、筆記本、平板、電視等選用的顯示屏不僅具有較高的分辨率，還具有可觸控的功能，為人們的使用帶來便捷。

觸控顯示屏主要分為電阻式觸控屏、電容式觸控屏和表面聲波觸控屏三類。電阻式觸控屏其工作原理是通過觸控按壓，使得薄膜下層的ITO(氧化銦錫)會接觸到玻璃上層的ITO，經由感應器傳出相應的電信號，再經轉換電路送到處理器，通過運算轉化為屏幕上的X、Y值，而完成點選的動作，并呈現在屏幕上。電容式觸控屏的工作原理是利用人體的電流感應，在用戶觸控顯示屏時，用戶和觸控屏表面形成以一個耦合電容，對于高頻電流來說，電容是直接導體，于是手指從接觸點吸走一個很小的電流，這個電流分別從觸控屏的四角上的電極中流出，并且流經這四個電極的電流與手指到四角的距離成正比，控制器通過對這四個電流比例的精確計算，得出觸控點的位置。表面聲波式觸摸屏由觸摸屏、聲波發生器、反射器和聲波接受器組成，其中聲波發生器能發送一種高頻聲波跨越屏幕表面，當手指觸及屏幕時，觸點上的聲波即被阻止，由此確定坐標位置。

由于電阻式觸控屏在觸控時需要對屏幕施加一定的壓力，因此用戶體驗感并不好，且會導致顯示屏壽命變短；同時，雖然表面聲波式觸摸屏具有光學性能好、分辨率高、響應速度快及壽命長等優點，但是由于其技術要求使得制造成本較高，限制了在民用領域大范圍應用；因此，目前常見的觸控顯示屏為電容式觸控屏。

電容式觸控屏的觸控性能好壞主要取決于電容層的方阻。而電容層的方阻主要與電容層的導電材料和導電層厚度有關，導電層厚度越厚，導電層的方阻越小，電容充電時間越短，信號損失量越少，使芯片對信號解析更完整和順利，從而使用戶使用時反應更快速、觸控更流暢，因此低方阻的導電層，在電性能方面，具有更大的優勢。

然而，為實現低方阻的導電層，現有常規做法是增加導電材料的厚度。但厚度的增加會影響導電層蝕刻區與非蝕刻區的反射率：導電層厚度越厚，導電層蝕刻區的反射率(即基材表面的反射率)不會變化，但是導電層非蝕刻區的反射率會變化較大，從而導致導電層蝕刻區與非蝕刻區域的反射率相差較大，進而產生視覺上的干涉，可以明顯的看到導電層的蝕刻圖案，形成蝕刻紋現象，影響視覺體驗。

發明內容

本發明的目的在于提供一種無蝕刻紋的觸控顯示屏及其制造方法，以解決現有電容式觸控顯示屏因導電層蝕刻區與非蝕刻區域的反射率相差較大而導致出現蝕刻紋現象的問題。

為解決上述技術問題，本發明提供一種無蝕刻紋的觸控顯示屏，所述觸控顯示屏包括自下而上依次堆疊的液晶顯示模組、基礎粘結層、電容層、功能粘結層和蓋板；其中電容層包括自下而上依次堆疊的基材層、第一減反射層、圖案化的導電層和第二減反射層；所述第一減反射層和所述第二減反射層包括二氧化硅層和/或五氧化二鈮層，且厚度為20nm～2μm；所述圖案化的導電層包括蝕刻區和非蝕刻區，所述蝕刻區的寬度為20～30μm，所述圖案化的導電層的厚度為20nm～2μm。