[發(fā)明專利]一種無蝕刻紋的觸控顯示屏及其制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110987884.4 | 申請(qǐng)日: | 2021-08-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113791703A | 公開(公告)日: | 2021-12-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李建軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 牧東光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06F3/041 | 分類號(hào): | G06F3/041;G06F3/044;G02F1/1333 |
| 代理公司: | 蘇州優(yōu)博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32487 | 代理人: | 石煜 |
| 地址: | 215000 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 蝕刻 顯示屏 及其 制造 方法 | ||
本發(fā)明提供一種無蝕刻紋的觸控顯示屏及其制造方法,包括依次堆疊的液晶顯示模組、基礎(chǔ)粘結(jié)層、電容層、功能粘結(jié)層和蓋板;電容層包括依次堆疊的基材層、第一減反射層、圖案化的導(dǎo)電層和第二減反射層;減反射層包括二氧化硅層和/或五氧化二鈮層,且厚度為20nm~2μm;圖案化的導(dǎo)電層的蝕刻區(qū)的寬度為20~30μm,圖案化的導(dǎo)電層的厚度為20nm~2μm。通過減反射層能夠減小圖案化的導(dǎo)電層中的蝕刻區(qū)和非蝕刻區(qū)的反射率差值;同時(shí)控制蝕刻區(qū)的寬度能夠減小非蝕刻區(qū)反射出來的光,從而進(jìn)一步減少蝕刻區(qū)和非蝕刻區(qū)的反射率差值,從而在視覺上消除蝕刻紋,解決了現(xiàn)有電容式觸控顯示屏因?qū)щ妼游g刻區(qū)與非蝕刻區(qū)域的反射率相差較大而導(dǎo)致出現(xiàn)蝕刻紋現(xiàn)象的問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及觸控顯示技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種無蝕刻紋的觸控顯示屏及其制造方法。
背景技術(shù)
隨著電子科技的發(fā)展,手機(jī)、筆記本、平板、電視等選用的顯示屏不僅具有較高的分辨率,還具有可觸控的功能,為人們的使用帶來便捷。
觸控顯示屏主要分為電阻式觸控屏、電容式觸控屏和表面聲波觸控屏三類。電阻式觸控屏其工作原理是通過觸控按壓,使得薄膜下層的ITO(氧化銦錫)會(huì)接觸到玻璃上層的ITO,經(jīng)由感應(yīng)器傳出相應(yīng)的電信號(hào),再經(jīng)轉(zhuǎn)換電路送到處理器,通過運(yùn)算轉(zhuǎn)化為屏幕上的X、Y值,而完成點(diǎn)選的動(dòng)作,并呈現(xiàn)在屏幕上。電容式觸控屏的工作原理是利用人體的電流感應(yīng),在用戶觸控顯示屏?xí)r,用戶和觸控屏表面形成以一個(gè)耦合電容,對(duì)于高頻電流來說,電容是直接導(dǎo)體,于是手指從接觸點(diǎn)吸走一個(gè)很小的電流,這個(gè)電流分別從觸控屏的四角上的電極中流出,并且流經(jīng)這四個(gè)電極的電流與手指到四角的距離成正比,控制器通過對(duì)這四個(gè)電流比例的精確計(jì)算,得出觸控點(diǎn)的位置。表面聲波式觸摸屏由觸摸屏、聲波發(fā)生器、反射器和聲波接受器組成,其中聲波發(fā)生器能發(fā)送一種高頻聲波跨越屏幕表面,當(dāng)手指觸及屏幕時(shí),觸點(diǎn)上的聲波即被阻止,由此確定坐標(biāo)位置。
由于電阻式觸控屏在觸控時(shí)需要對(duì)屏幕施加一定的壓力,因此用戶體驗(yàn)感并不好,且會(huì)導(dǎo)致顯示屏壽命變短;同時(shí),雖然表面聲波式觸摸屏具有光學(xué)性能好、分辨率高、響應(yīng)速度快及壽命長(zhǎng)等優(yōu)點(diǎn),但是由于其技術(shù)要求使得制造成本較高,限制了在民用領(lǐng)域大范圍應(yīng)用;因此,目前常見的觸控顯示屏為電容式觸控屏。
電容式觸控屏的觸控性能好壞主要取決于電容層的方阻。而電容層的方阻主要與電容層的導(dǎo)電材料和導(dǎo)電層厚度有關(guān),導(dǎo)電層厚度越厚,導(dǎo)電層的方阻越小,電容充電時(shí)間越短,信號(hào)損失量越少,使芯片對(duì)信號(hào)解析更完整和順利,從而使用戶使用時(shí)反應(yīng)更快速、觸控更流暢,因此低方阻的導(dǎo)電層,在電性能方面,具有更大的優(yōu)勢(shì)。
然而,為實(shí)現(xiàn)低方阻的導(dǎo)電層,現(xiàn)有常規(guī)做法是增加導(dǎo)電材料的厚度。但厚度的增加會(huì)影響導(dǎo)電層蝕刻區(qū)與非蝕刻區(qū)的反射率:導(dǎo)電層厚度越厚,導(dǎo)電層蝕刻區(qū)的反射率(即基材表面的反射率)不會(huì)變化,但是導(dǎo)電層非蝕刻區(qū)的反射率會(huì)變化較大,從而導(dǎo)致導(dǎo)電層蝕刻區(qū)與非蝕刻區(qū)域的反射率相差較大,進(jìn)而產(chǎn)生視覺上的干涉,可以明顯的看到導(dǎo)電層的蝕刻圖案,形成蝕刻紋現(xiàn)象,影響視覺體驗(yàn)。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種無蝕刻紋的觸控顯示屏及其制造方法,以解決現(xiàn)有電容式觸控顯示屏因?qū)щ妼游g刻區(qū)與非蝕刻區(qū)域的反射率相差較大而導(dǎo)致出現(xiàn)蝕刻紋現(xiàn)象的問題。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供一種無蝕刻紋的觸控顯示屏,所述觸控顯示屏包括自下而上依次堆疊的液晶顯示模組、基礎(chǔ)粘結(jié)層、電容層、功能粘結(jié)層和蓋板;其中電容層包括自下而上依次堆疊的基材層、第一減反射層、圖案化的導(dǎo)電層和第二減反射層;所述第一減反射層和所述第二減反射層包括二氧化硅層和/或五氧化二鈮層,且厚度為20nm~2μm;所述圖案化的導(dǎo)電層包括蝕刻區(qū)和非蝕刻區(qū),所述蝕刻區(qū)的寬度為20~30μm,所述圖案化的導(dǎo)電層的厚度為20nm~2μm。
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G06F 電數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)處理
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