[發明專利]一種無蝕刻紋的觸控顯示屏及其制造方法

在審

• 申請號: 202110987884.4
• 申請日: 2021-08-26
• 公開（公告）號: CN113791703A
• 公開（公告）日: 2021-12-14
• 發明（設計）人: 李建軍
• 申請（專利權）人: 牧東光電科技有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;G06F3/044;G02F1/1333
• 代理公司: 蘇州優博知識產權代理事務所(普通合伙) 32487
• 代理人: 石煜

1.一種無蝕刻紋的觸控顯示屏，其特征在于，所述觸控顯示屏包括自下而上依次堆疊的液晶顯示模組、基礎粘結層、電容層、功能粘結層和蓋板；其中電容層包括自下而上依次堆疊的基材層、第一減反射層、圖案化的導電層和第二減反射層；所述第一減反射層和所述第二減反射層包括二氧化硅層和/或五氧化二鈮層，且厚度為20nm～2μm；所述圖案化的導電層包括蝕刻區和非蝕刻區，所述蝕刻區的寬度為20～30μm，所述圖案化的導電層的厚度為20nm～2μm。

2.根據權利要求1所述的無蝕刻紋的觸控顯示屏，其特征在于，所述功能粘結層包括自下而上依次堆疊的第一粘結層、防眩保護膜層和第二粘結層；所述第一粘結層和所述第二粘結層為固態光學透明膠、液態有機硅水膠或丙烯酸水膠；所述防眩保護膜層包括PET基材和涂布于所述PET基材表面的納米二氧化硅涂層，所述防眩保護膜層的霧度為15％～30％。

3.根據權利要求1所述的無蝕刻紋的觸控顯示屏，其特征在于，所述功能粘結層包括自下而上依次堆疊的第三粘結層、擴散膜層和第四粘結層；所述第一粘結層和所述第二粘結層為固態光學透明膠、液態有機硅水膠或丙烯酸水膠；所述擴散膜層為內部分散有硅化物的PET基材，所述擴散膜層的霧度在60％～95％、透光率在55％～90％。

4.根據權利要求3所述的無蝕刻紋的觸控顯示屏，其特征在于，所述硅化物為二氧化硅；所述擴散膜層的霧度在60％～70％、透光率在80％～90％。

5.根據權利要求1所述的無蝕刻紋的觸控顯示屏，其特征在于，所述功能粘結層為OCA光學膠層，所述OCA光學膠層為加入有二氧化硅擴散粒子的丙烯酸樹脂；所述OCA光學膠層的霧度為5％～30％、透光率不低于92％。

6.根據權利要求1所述的無蝕刻紋的觸控顯示屏，其特征在于，所述第一減反射層和所述第二減反射層包括二氧化硅層和五氧化二鈮層依次交錯堆疊的多層，每層所述二氧化硅層的厚度為20～600nm；每層所述五氧化二鈮層的厚度為22～800nm。

7.一種無蝕刻紋的觸控顯示屏的制造方法，用于制造如權利要求1～6任一項所述的無蝕刻紋的觸控顯示屏，其特征在于，所述制造方法包括：

提供一液晶顯示模組；

在所述液晶顯示模組的用于顯示的一側表面涂覆基礎粘結劑以形成基礎粘結層；

在所述基礎粘結層表面形成電容層；

在所述電容層表面形成功能粘結層；

將蓋板固定于所述功能粘結層表面，以形成所述無蝕刻紋的觸控顯示屏。

8.根據權利要求7所述的無蝕刻紋的觸控顯示屏的制造方法，其特征在于，在所述基礎粘結層表面形成電容層的方法包括：

在所述基礎粘結層表面固定基材，以形成基材層，所述基材的材料為PET、SRF、COP、PC或玻璃；

利用二氧化硅和/或五氧化二鈮在所述基材層表面形成第一減反射層，所述第一減反射層的厚度為20nm～2μm；

利用磁控濺射技術或蒸鍍技術在所述第一減反射層表面形成導電層，所述導電層的厚度為20nm～2μm，其中磁控濺射或蒸鍍選用的導電材料為納米銀、石墨烯、碳納米管或氧化銦錫；

對所述導電層進行曝光、顯影和蝕刻，以得到圖案化的導電層，所述圖案化的導電層包括蝕刻區和非蝕刻區，所述蝕刻區的寬度為20～30μm；

利用二氧化硅和/或五氧化二鈮形成第二減反射層，所述第二減反射層覆蓋位于所述非蝕刻區的所述圖案化的導電層的所有露出表面和位于所述蝕刻區的所述第一減反射層的所有露出表面。