[發明專利]一種顯示面板、制作方法以及投影儀在審
| 申請號: | 202110987390.6 | 申請日: | 2021-08-26 |
| 公開(公告)號: | CN113703219A | 公開(公告)日: | 2021-11-26 |
| 發明(設計)人: | 劉桐;龐魯;王超;王振;常志強;黨少聰;穆世杰;董興;白強強 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司 |
| 主分類號: | G02F1/1335 | 分類號: | G02F1/1335;G03B21/00 |
| 代理公司: | 北京正理專利代理有限公司 11257 | 代理人: | 付生輝 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 顯示 面板 制作方法 以及 投影儀 | ||
本發明公開了一種顯示面板、制作方法以及投影儀。其中一具體實施例的應用于投影儀的顯示面板板包括:光源、依次設置在光源出光側的彩膜基板、液晶層以及陣列基板;其中,所述陣列基板包括第一襯底以及設置在第一襯底朝向所述光源一側的薄膜晶體管,所述薄膜晶體管包括溝道區;所述彩膜基板包括第二襯底以及設置在第二襯底背離所述光源一側上的黑矩陣,所述黑矩陣與所述溝道區對應設置,用于遮擋所述光源出射的光照射到所述溝道區。本發明實施例利用黑矩陣對光源出射的光進行遮擋以避免光源照射到陣列基板的薄膜晶體管的溝道區,既能夠保證顯示性能,又能夠取消遮光層的結構設計,簡化顯示面板的整體結構,提高制備效率。
技術領域
本發明涉及顯示技術領域。更具體地,涉及一種顯示面板、制作方法以及投影儀。
背景技術
對于現有的顯示產品,例如投影儀產品,該類顯示產品在制備過程中較多的掩膜板(Mask)制程,而如何縮減掩膜板制程的工藝次數一直是行業主要探究方向。
發明內容
本發明的目的在于提供一種發聲裝置以及顯示系統,以解決現有技術存在的問題中的至少一個。
為達到上述目的,本發明采用下述技術方案:
本發明第一方面提供了一種顯示面板,應用于投影儀,所述顯示面板包括:光源、依次設置在光源出光側的彩膜基板、液晶層以及陣列基板;其中,
所述陣列基板包括第一襯底以及設置在第一襯底朝向所述光源一側的薄膜晶體管,所述薄膜晶體管包括溝道區;
所述彩膜基板包括第二襯底以及設置在第二襯底背離所述光源一側上的黑矩陣,所述黑矩陣與所述溝道區對應設置,用于遮擋所述光源出射的光照射到所述溝道區。
進一步的,所述黑矩陣在所述第二襯底上的投影覆蓋對應的所述溝道區在所述第二襯底上的投影。
進一步的,所述薄膜晶體管還包括:位于溝道區兩側的第一摻雜區和第二摻雜區;
所述第一摻雜區和所述第二摻雜區的離子摻雜濃度被設置為使得所述薄膜晶體管的漏電流降低至預設允許范圍。
進一步的,所述第一摻雜區和所述第二摻雜區的離子摻雜濃度為4e+14~6e+14cm-3。
進一步的,所述薄膜晶體管還包括:位于所述第一摻雜區和所述溝道區之間的第一過渡區以及位于所述第二摻雜區和所述溝道區之間的第二過渡區;
所述第一過渡區和所述第二過渡區的離子摻雜濃度分別小于所述第一摻雜區和所述第二摻雜區的離子摻雜濃度。
進一步的,所述第一過渡區和所述第二過渡區的離子摻雜濃度設置為3e+13~5e+13cm-3。
進一步的,所述漏電流的預設允許范圍為10-14~10-12A。
本發明第二方面提出一種制作本發明第一方面的顯示面板的方法,包括:
形成陣列基板,所述陣列基板包括第一襯底以及設置在第一襯底朝向所述光源一側的薄膜晶體管,所述薄膜晶體管包括溝道區;
形成彩膜基板,所述彩膜基板包括第二襯底以及設置在第二襯底背離所述光源一側上的黑矩陣,所述黑矩陣與所述溝道區對應設置,用于遮擋所述光源出射的光照射到所述溝道區;
利用對盒工藝,將所述液晶層封裝在所述陣列基板和所述彩膜基板之間;
將所述彩膜基板設置在所述光源出光側。
進一步的,所述形成陣列基板進一步包括:
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