[發(fā)明專利]液處理方法和液處理裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110980802.3
• 申請(qǐng)日: 2021-08-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN114141654A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-03-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃庸根;畠山真一
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67;H01L21/687
• 代理公司: 北京尚誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;池兵

本發(fā)明提供能夠?qū)谋趁娴某酥芏艘酝獾沫h(huán)狀區(qū)域供給處理液以進(jìn)行局部處理的液處理方法和液處理裝置。液處理方法包括：將基片的背面的中心部載置在載置臺(tái)上，并使該載置臺(tái)旋轉(zhuǎn)的工序；和從噴嘴對(duì)旋轉(zhuǎn)的基片的背面的比周端靠中心的位置供給霧狀的處理液，并且使該處理液揮發(fā)使得該處理液不會(huì)因離心力而被供給到該基片的周端，從而對(duì)該基片的背面的環(huán)狀區(qū)域局部地進(jìn)行處理的工序。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及液處理方法和液處理裝置。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體器件的制造工藝中，使用液處理裝置對(duì)作為基片的半導(dǎo)體晶片(下面，記為晶片)供給各種處理液進(jìn)行液處理。作為該液處理的一個(gè)例子，有對(duì)晶片的背面供給清洗液進(jìn)行清洗的處理。專利文獻(xiàn)1中公開(kāi)了一種晶片清洗裝置，其中，將作為釋放清洗液的液流的結(jié)構(gòu)的噴嘴設(shè)置在晶片的背面?zhèn)龋糜删男D(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力使從該噴嘴釋放的清洗液在晶片的背面擴(kuò)展以進(jìn)行清洗。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2013-120911號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題

本發(fā)明提供能夠?qū)谋趁娴某酥芏艘酝獾沫h(huán)狀區(qū)域供給處理液以進(jìn)行局部處理的技術(shù)。

用于解決技術(shù)問(wèn)題的手段

本發(fā)明的液處理方法包括：將基片的背面的中心部載置在載置臺(tái)上，并使該載置臺(tái)旋轉(zhuǎn)的工序；和從噴嘴對(duì)旋轉(zhuǎn)的所述基片的背面的比周端靠中心的位置供給霧狀的處理液，并且使該處理液揮發(fā)使得該處理液不會(huì)因離心力而被供給到該基片的周端，從而對(duì)該基片的背面的環(huán)狀區(qū)域局部地進(jìn)行處理的工序。

發(fā)明效果

本發(fā)明能夠?qū)谋趁娴某酥芏艘酝獾沫h(huán)狀區(qū)域供給處理液以進(jìn)行局部處理。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的液處理裝置的縱截側(cè)面圖。

圖2是上述液處理裝置的平面圖。

圖3是表示由上述液處理裝置進(jìn)行的處理的工序圖。

圖4是表示由上述液處理裝置進(jìn)行的處理的工序圖。

圖5是表示由上述液處理裝置進(jìn)行的處理的工序圖。

圖6是表示由上述液處理裝置進(jìn)行的處理的工序圖。

圖7是表示由上述液處理裝置進(jìn)行的處理的工序圖。

圖8是表示上述處理工序中的清洗液的情形的說(shuō)明圖。

圖9是表示上述處理工序中的清洗液的情形的說(shuō)明圖。

圖10是表示上述處理工序中的清洗液的情形的說(shuō)明圖。

圖11是表示上述處理工序中的清洗液的情形的說(shuō)明圖。

圖12是表示設(shè)置在上述液處理裝置中的噴嘴的例子的縱截側(cè)面圖。

圖13是表示上述噴嘴的另一個(gè)例子的側(cè)面圖。

圖14是表示上述噴嘴的釋放口與投影的關(guān)系的平面圖。

圖15是表示上述液處理裝置的另一個(gè)例子的縱截側(cè)面圖。

圖16是表示上述液處理裝置的又一個(gè)例子的平面圖。

圖17是表示參考試驗(yàn)的結(jié)果的說(shuō)明圖。

圖18是表示比較試驗(yàn)的結(jié)果的說(shuō)明圖。

附圖標(biāo)記說(shuō)明

T液流，W晶片，11旋轉(zhuǎn)卡盤，41清洗用噴嘴。