[發明專利]液處理方法和液處理裝置

在審

• 申請號: 202110980802.3
• 申請日: 2021-08-25
• 公開（公告）號: CN114141654A
• 公開（公告）日: 2022-03-04
• 發明（設計）人: 黃庸根;畠山真一
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/687
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;池兵

1.一種液處理方法，其特征在于，包括：

將基片的背面的中心部載置在載置臺上，并使該載置臺旋轉的工序；和

從噴嘴對旋轉的所述基片的背面的比周端靠中心的位置供給霧狀的處理液，并且使該處理液揮發使得該處理液不會因離心力而被供給到該基片的周端，從而對該基片的背面的環狀區域局部地進行處理的工序。

2.如權利要求1所述的液處理方法，其特征在于：

所述處理液是用于對所述基片的背面進行清洗的清洗液。

3.如權利要求1或2所述的液處理方法，其特征在于：

包括在所述基片的背面形成局部地覆蓋周緣部的環狀膜的工序，

所述對環狀區域局部地進行處理的工序，包括使所述處理液揮發使得該環狀膜不會被除去的工序。

4.如權利要求1至3中任一項所述的液處理方法，其特征在于：

包括在對所述基片供給所述處理液時，對該基片進行加熱的工序。

5.如權利要求4所述的液處理方法，其特征在于：

所述對基片進行加熱的工序，包括對所述基片的正面供給用于對該基片進行加熱的加熱氣體的工序。

6.如權利要求1至5中任一項所述的液處理方法，其特征在于：

所述對環狀區域局部地進行處理的工序，包括對所述噴嘴同時供給所述處理液的液流和用于使該處理液霧化的霧形成用氣體的工序，

所述液處理方法包括加熱要對該噴嘴供給的所述處理液的液流或者所述霧形成用氣體的工序。

7.如權利要求1至6中任一項所述的液處理方法，其特征在于：

包括在對所述基片供給所述霧狀的處理液時，對該基片的背面供給用于促進該處理液的揮發的干燥氣體的工序。

8.如權利要求1至7中任一項所述的液處理方法，其特征在于：

所述噴嘴的釋放口在所述基片上投影得到的投影區域的沿著所述基片的徑向的長度，小于所述投影區域的與該徑向正交的方向的長度。

9.如權利要求1至8中任一項所述的液處理方法，其特征在于：

包括與被載置在所述載置臺上的所述基片的狀態相應地，利用驅動機構改變所述噴嘴的相對于該基片的位置或者相對于該基片的朝向，來改變所述基片的被供給所述霧狀的處理液的位置的工序。

10.如權利要求9所述的液處理方法，其特征在于：

包括在所述基片的背面形成局部地覆蓋周緣部的環狀膜的工序，

所述基片的狀態是指所述環狀膜的靠該基片的中心的端部的位置。

11.一種液處理裝置，其特征在于，包括：

載置臺，其用于載置基片的背面的中心部；

用于使該載置臺旋轉的旋轉機構；和

噴嘴，其用于對旋轉的所述基片的背面的比周端靠中心的位置供給霧狀的處理液，使得所述處理液揮發而不會在離心力的作用下被供給到所述基片的周端，從而對該基片的背面的環狀區域局部地進行處理。