[發(fā)明專利]一種微米級(jí)氧化亞鎳的制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110980506.3 | 申請(qǐng)日： | 2021-08-25 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN113716629A | 公開（公告）日： | 2021-11-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 衣淑立;陳大林;劉世和;丁勇;劉愛春;李芬霞;陳興綱;馬婷 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 金川集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C01G53/04 | 分類號(hào)： | C01G53/04 |
| 代理公司： | 蘭州中科華西專利代理有限公司 62002 | 代理人： | 馬小瑞 |
| 地址： | 73710*** | 國(guó)省代碼： | 甘肅;62 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 微米 氧化 制備 方法 | ||
1.一種微米級(jí)氧化亞鎳的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
步驟1：稱取一定量的羰基鎳粉置于方形剛玉匣缽，放入箱式保護(hù)氣氛電阻爐中，關(guān)閉爐門；
步驟2：打開空壓機(jī)電源，設(shè)定壓縮氣體的流量為10～50L/min，然后把壓縮氣體通入箱式保護(hù)氣氛電阻內(nèi)；
步驟3：打開箱式保護(hù)氣氛電阻爐電源，設(shè)定焙燒溫度為1000～1200℃，焙燒保溫時(shí)間為1～3h；
步驟4：在步驟3焙燒完畢后，箱式保護(hù)氣氛電阻爐的爐溫自然冷卻下降到100℃以下，打開爐門取出剛玉匣缽，制備得到氧化亞鎳；
步驟5：將步驟4制備的氧化亞鎳放置于球磨罐中，采用氧化鋯研磨球鋪滿球磨罐底部，球磨時(shí)間為1～3h，球磨機(jī)的頻率為20～25Hz，球磨后即得到微米級(jí)氧化亞鎳。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微米級(jí)氧化亞鎳的制備方法，其特征在于：在步驟2中設(shè)定壓縮氣體的流量為40L/min。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微米級(jí)氧化亞鎳的制備方法，其特征在于：所步驟3中設(shè)定焙燒溫度為1100℃，焙燒保溫時(shí)間為2h。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微米級(jí)氧化亞鎳的制備方法，其特征在于：所述步驟5球磨時(shí)間為2h，球磨機(jī)的頻率為22Hz。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種微米級(jí)氧化亞鎳的制備方法，其特征在于：所述步驟5在球磨處理過程中的研磨球?yàn)檠趸喲心デ颍鲅趸喲心デ蚍謩e有1cm、0.8cm與0.5cm三種直徑。
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