[發明專利]一種頂管機姿態監控方法在審
| 申請號： | 202110966940.6 | 申請日： | 2021-08-23 |
| 公開（公告）號： | CN113916195A | 公開（公告）日： | 2022-01-11 |
| 發明（設計）人： | 張潮進;曾佳鑫;李興杰 | 申請（專利權）人： | 中國二十冶集團有限公司;深圳二十冶建設有限公司 |
| 主分類號： | G01C15/00 | 分類號： | G01C15/00 |
| 代理公司： | 北京工信聯合知識產權代理有限公司 11266 | 代理人： | 郭欣欣 |
| 地址： | 201900 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 頂管機 姿態 監控 方法 | ||
1.一種頂管機姿態監控方法，其特征在于：包括以下步驟：
準備步驟、在頂管機背離頂管的一側貼設多個反射片；
測量步驟、在所述頂管機頂進預設距離后，通過設置在始發井內的全站儀對所述頂管機姿態測量，在所述頂管機姿態發生偏移時，回正所述頂管機姿態。
2.根據權利要求1所述的頂管機姿態監控方法，其特征在于：所述準備步驟包括：
所述多個反射片中包括至少兩個反射片用于測量所述頂管機頂進的扭轉角，用于測量所述頂管機頂進的扭轉角的兩個所述反射片沿著所述頂管機的第一方向間隔設置。
3.根據權利要求2所述的頂管機姿態監控方法，其特征在于：所述準備步驟還包括：
所述多個反射片中包括至少兩個反射片用于測量所述頂管機頂進的仰俯角，用于測量所述頂管機頂進的仰俯角的兩個所述反射片沿著所述頂管機的第二方向間隔設置。
4.根據權利要求3所述的頂管機姿態監控方法，其特征在于：所述準備步驟還包括：
所述多個反射片中包括一個反射片用于測量所述頂管機頂進的高程、里程和軸線偏差，用于測量所述頂管機頂進的高程、里程和軸線偏差的所述反射片貼設在所述頂管機背離所述頂管的一側的幾何中心位置。
5.根據權利要求1所述的頂管機姿態監控方法，其特征在于：所述預設距離的范圍為0.2m-0.4m。
6.根據權利要求2所述的頂管機姿態監控方法，其特征在于：用于對所述頂管機頂進的扭轉角測量的所述反射片為多個，多個所述反射片沿著所述頂管機的第一方向間隔設置。
7.根據權利要求1所述的頂管機姿態監控方法，其特征在于：所述反射片呈圓形。
8.根據權利要求1所述的頂管機姿態監控方法，其特征在于：所述頂管的截面形狀呈矩形。
9.根據權利要求1所述的頂管機姿態監控方法，其特征在于：在所述準備步驟之后，在所述測量步驟之前，還包括：
將多個所述反射片的初始坐標輸入所述全站儀內。
10.根據權利要求1所述的頂管機姿態監控方法，其特征在于：所述測量步驟包括：
在所述頂管頂進預設距離后，通過所述全站儀對多個所述反射片的坐標測量，測量坐標與初始坐標的坐標偏差顯示在所述全站儀的顯示屏上，通過所述坐標偏差對所述頂管機回正調整。
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