[發(fā)明專利]一種頂管機(jī)姿態(tài)監(jiān)控方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110966940.6 | 申請日: | 2021-08-23 |
| 公開(公告)號: | CN113916195A | 公開(公告)日: | 2022-01-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張潮進(jìn);曾佳鑫;李興杰 | 申請(專利權(quán))人: | 中國二十冶集團(tuán)有限公司;深圳二十冶建設(shè)有限公司 |
| 主分類號: | G01C15/00 | 分類號: | G01C15/00 |
| 代理公司: | 北京工信聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11266 | 代理人: | 郭欣欣 |
| 地址: | 201900 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 頂管機(jī) 姿態(tài) 監(jiān)控 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種頂管機(jī)姿態(tài)監(jiān)控方法,包括以下步驟:準(zhǔn)備步驟、在頂管機(jī)背離頂管的一側(cè)貼設(shè)多個(gè)反射片;測量步驟、在頂管機(jī)頂進(jìn)預(yù)設(shè)距離后,通過設(shè)置在始發(fā)井內(nèi)的全站儀對頂管機(jī)姿態(tài)測量,在頂管機(jī)姿態(tài)發(fā)生偏移時(shí),回正頂管機(jī)姿態(tài);通過反射片和全站儀配合對頂管機(jī)姿態(tài)測量,由此,監(jiān)控方法簡單,降低施工成本,提高了施工速度;同時(shí),通過頂管機(jī)頂進(jìn)預(yù)設(shè)距離后,對頂管機(jī)姿態(tài)偏移進(jìn)行調(diào)整,由此,有效控制頂進(jìn)軸線,提高了施工質(zhì)量。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及建筑工程技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種頂管機(jī)姿態(tài)監(jiān)控方法。
背景技術(shù)
目前,隨著我國城市化建設(shè)的不斷推進(jìn)與發(fā)展,為避免城市建筑物的破壞,需在城市地下鋪設(shè)給排水管道、天然氣石油管道、通訊電纜等管道。頂管法施工以其不需要開挖地面、占地面積少、交通影響小、開挖速度快、經(jīng)濟(jì)、環(huán)保的優(yōu)勢在綜合管廊、地下通道等項(xiàng)目建設(shè)中不斷發(fā)揮重要作用。
然而,采用頂管法施工,由于地層土質(zhì)變化,導(dǎo)致頂管機(jī)容易發(fā)生側(cè)向偏轉(zhuǎn)的現(xiàn)象,產(chǎn)生姿態(tài)偏差,頂進(jìn)軸線難以控制。
發(fā)明內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,本發(fā)明的目的是提供一種頂管機(jī)姿態(tài)監(jiān)控方法,其優(yōu)點(diǎn)是能夠解決頂進(jìn)軸線難以控制的技術(shù)問題。
本發(fā)明的上述發(fā)明目的是通過以下技術(shù)方案得以實(shí)現(xiàn)的:一種頂管機(jī)姿態(tài)監(jiān)控方法,包括以下步驟:
準(zhǔn)備步驟、在頂管機(jī)背離頂管的一側(cè)貼設(shè)多個(gè)反射片;
測量步驟、在所述頂管機(jī)頂進(jìn)預(yù)設(shè)距離后,通過設(shè)置在始發(fā)井內(nèi)的全站儀對所述頂管機(jī)姿態(tài)測量,在所述頂管機(jī)姿態(tài)發(fā)生偏移時(shí),回正所述頂管機(jī)姿態(tài)。
優(yōu)選地,本發(fā)明提供的頂管機(jī)姿態(tài)監(jiān)控方法,所述準(zhǔn)備步驟包括:
所述多個(gè)反射片中包括至少兩個(gè)反射片用于測量所述頂管機(jī)頂進(jìn)的扭轉(zhuǎn)角,用于測量所述頂管機(jī)頂進(jìn)的扭轉(zhuǎn)角的兩個(gè)所述反射片沿著所述頂管機(jī)的第一方向間隔設(shè)置。
優(yōu)選地,本發(fā)明提供的頂管機(jī)姿態(tài)監(jiān)控方法,所述準(zhǔn)備步驟還包括:
所述多個(gè)反射片中包括至少兩個(gè)反射片用于測量所述頂管機(jī)頂進(jìn)的仰俯角,用于測量所述頂管機(jī)頂進(jìn)的仰俯角的兩個(gè)所述反射片沿著所述頂管機(jī)的第二方向間隔設(shè)置。
優(yōu)選地,本發(fā)明提供的頂管機(jī)姿態(tài)監(jiān)控方法,所述準(zhǔn)備步驟還包括:
所述多個(gè)反射片中包括一個(gè)反射片用于測量所述頂管機(jī)頂進(jìn)的高程、里程和軸線偏差,用于測量所述頂管機(jī)頂進(jìn)的高程、里程和軸線偏差的所述反射片貼設(shè)在所述頂管機(jī)背離所述頂管的一側(cè)的幾何中心位置。
優(yōu)選地,本發(fā)明提供的頂管機(jī)姿態(tài)監(jiān)控方法,所述預(yù)設(shè)距離的范圍為0.2m-0.4m。
優(yōu)選地,本發(fā)明提供的頂管機(jī)姿態(tài)監(jiān)控方法,用于對所述頂管機(jī)頂進(jìn)的扭轉(zhuǎn)角測量的所述反射片為多個(gè),多個(gè)所述反射片沿著所述頂管機(jī)的第一方向間隔設(shè)置。
優(yōu)選地,本發(fā)明提供的頂管機(jī)姿態(tài)監(jiān)控方法,所述反射片呈圓形。
優(yōu)選地,本發(fā)明提供的頂管機(jī)姿態(tài)監(jiān)控方法,所述頂管的截面形狀呈矩形。
優(yōu)選地,本發(fā)明提供的頂管機(jī)姿態(tài)監(jiān)控方法,在所述準(zhǔn)備步驟之后,在所述測量步驟之前,還包括:將多個(gè)所述反射片的初始坐標(biāo)輸入所述全站儀內(nèi)。
優(yōu)選地,本發(fā)明提供的頂管機(jī)姿態(tài)監(jiān)控方法,所述測量步驟包括:
在所述頂管頂進(jìn)預(yù)設(shè)距離后,通過所述全站儀對多個(gè)所述反射片的坐標(biāo)測量,測量坐標(biāo)與初始坐標(biāo)的坐標(biāo)偏差顯示在所述全站儀的顯示屏上,通過所述坐標(biāo)偏差對所述頂管機(jī)回正調(diào)整。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國二十冶集團(tuán)有限公司;深圳二十冶建設(shè)有限公司,未經(jīng)中國二十冶集團(tuán)有限公司;深圳二十冶建設(shè)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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