[發明專利]用于X射線管的陽極靶盤及其制造方法以及X射線管

在審

• 申請號: 202110962222.1
• 申請日: 2021-08-20
• 公開（公告）號: CN113594011A
• 公開（公告）日: 2021-11-02
• 發明（設計）人: 盛清清;馬新星;彭山東
• 申請（專利權）人: 武漢聯影醫療科技有限公司
• 主分類號: H01J35/10
• 分類號: H01J35/10;H01J9/18
• 代理公司: 成都七星天知識產權代理有限公司 51253
• 代理人: 李丹

本申請實施例公開了一種用于X射線管的陽極靶盤及其制造方法以及X射線管，陽極靶盤包括基體和底座；所述底座上或所述基體上具有連接增強面；所述連接增強面包括第一刻槽區和多個焊料擺放區，所述多個焊料擺放區用于擺放固態焊料；所述多個焊料擺放區沿著陽極靶盤的周向間隔布置，且相鄰的兩個所述焊料擺放區之間設有所述第一刻槽區；所述第一刻槽區上設有若干第一刻槽，且所述若干第一刻槽沿著所述陽極靶盤的周向延伸；所述基體和所述底座通過所述固態焊料連接。

技術領域

本說明書涉及X射線設備領域，特別涉及一種用于X射線管的陽極靶盤及其制造方法以及X射線管。

背景技術

X射線管中包括真空管和設于真空管內的陰極燈絲和陽極靶盤。陰極燈絲用于產生指向陽極靶盤的電子束，陽極靶盤的表面將電子束對陽極靶盤的動能轉換為高頻電磁波，即X射線。陽極靶盤一般可以包括基體(如金屬基體)和底座。金屬基體在被來自陰極燈絲的電子轟擊時產生X射線，底座用于散熱。陽極靶盤是X射線管的重要部件，在X射線管工作時，陽極靶盤需要在高溫環境下旋轉。

因此，為了保證X射線管的工作穩定性，如何提高陽極靶盤的基體和底座的連接穩定性，是本領域亟待解決的技術問題。

發明內容

本申請實施例之一提供一種用于X射線管的陽極靶盤包括基體和底座；所述底座上或所述基體上具有連接增強面；所述連接增強面包括第一刻槽區和多個焊料擺放區，所述多個焊料擺放區用于擺放固態焊料；所述多個焊料擺放區沿著陽極靶盤的周向間隔布置，且任意兩個相鄰的所述焊料擺放區之間均設有所述第一刻槽區；所述第一刻槽區上設有若干第一刻槽，且所述若干第一刻槽沿著所述陽極靶盤的周向延伸；所述基體和所述底座通過所述固態焊料連接。

在一些實施例中，所述焊料擺放區上設有若干第一刻槽。

在一些實施例中，所述底座和/或所述基體上設有通孔，且所述通孔的開口位于所述連接增強面上。

在一些實施例中，所述第一刻槽區和所述若干焊料擺放區布置成環形區域，所述環形區域的中心與所述連接增強面的中心重合，所述環形區域環繞所述開口設置。

在一些實施例中，陽極靶盤還包括擋料結構，所述擋料結構沿著所述開口的邊緣設置，和/或所述擋料結構沿著所述連接增強面的外側邊緣設置。

在一些實施例中，所述連接增強面還包括第二刻槽區；所述第二刻槽區呈環形，且所述第二刻槽區上設有若干第二刻槽；所述若干第二刻槽中至少一個第二刻槽呈環形且沿著所述第二刻槽區的周向延伸；所述第二刻槽區環繞所述環形區域設置。

在一些實施例中，所述連接增強面還包括第三刻槽區；所述第三刻槽區呈環形，且所述第三刻槽區上設有若干第三刻槽；所述若干第三刻槽中至少一個第三刻槽呈環形且沿著所述第三刻槽區的周向延伸；所述第一刻槽區和所述若干焊料擺放區布置成環形區域，所述環形區域的中心與所述連接增強面的中心重合；所述第三刻槽區環繞所述開口設置，所述環形區域環繞所述第三刻槽區設置。

在一些實施例中，所述陽極靶盤還包括第四刻槽區，所述第四刻槽區呈環形；所述第四刻槽區上設有若干第四刻槽；所述若干第四刻槽中至少一個第四刻槽呈環形且沿著所述第四刻槽區的周向延伸；所述第四刻槽區環繞所述環形區域設置。

在一些實施例中，所述第一刻槽區、所述第三刻槽區和所述第四刻槽區的總面積大于或等于所述增強連接面的面積的40％。

在一些實施例中，所述多個焊料擺放區中至少兩個焊料擺放區的面積相等。

在一些實施例中，多個所述焊料擺放區沿著陽極靶盤的周向等間隔布置。

在一些實施例中，所述連接增強面呈圓形；所述多個焊料擺放區中至少一個焊料擺放區為扇環形，所述扇環形的圓心與所述連接增強面的圓心重合。

本申請另一實施例提供一種X射線管，其包括本說明書任一技術方案所述的陽極靶盤。