[發明專利]用于X射線管的陽極靶盤及其制造方法以及X射線管

在審

• 申請號: 202110962222.1
• 申請日: 2021-08-20
• 公開（公告）號: CN113594011A
• 公開（公告）日: 2021-11-02
• 發明（設計）人: 盛清清;馬新星;彭山東
• 申請（專利權）人: 武漢聯影醫療科技有限公司
• 主分類號: H01J35/10
• 分類號: H01J35/10;H01J9/18
• 代理公司: 成都七星天知識產權代理有限公司 51253
• 代理人: 李丹

1.一種用于X射線管的陽極靶盤，其特征在于，包括基體(2100)和底座(2200)；所述底座(2200)上或所述基體(2100)上具有連接增強面(2300)；

所述連接增強面(2300)包括第一刻槽區(2310)和多個焊料擺放區(2350)，所述多個焊料擺放區(2350)用于擺放固態焊料(3000)；所述多個焊料擺放區(2350)沿著陽極靶盤(2000)的周向間隔布置，且相鄰的兩個所述焊料擺放區(2350)之間設有所述第一刻槽區(2310)；

所述第一刻槽區(2310)上設有若干第一刻槽(2311)，且所述若干第一刻槽(2311)沿著所述陽極靶盤(2000)的周向延伸；所述基體(2100)和所述底座(2200)通過所述固態焊料(3000)連接。

2.如權利要求1所述的陽極靶盤，其特征在于，所述焊料擺放區(2350)上設有若干第一刻槽(2311)。

3.如權利要求1所述的陽極靶盤，其特征在于，所述底座(2200)和/或所述基體(2100)上設有通孔(2400)，且所述通孔的開口(2410)位于所述連接增強面(2300)上。

4.如權利要求3所述的陽極靶盤，其特征在于，所述第一刻槽區(2310)和所述多個焊料擺放區(2350)布置成環形區域，所述環形區域的中心與所述連接增強面(2300)的中心重合，所述環形區域環繞所述開口(2410)設置。

5.如權利要求4所述的陽極靶盤，其特征在于，還包括擋料結構，所述擋料結構沿著所述開口(2410)的邊緣設置，和/或所述擋料結構沿著所述連接增強面(2300)的外側邊緣設置。

6.如權利要求4所述的陽極靶盤，其特征在于，所述連接增強面(2300)還包括第二刻槽區(2320)；所述第二刻槽區(2320)呈環形，且所述第二刻槽區(2320)上設有若干第二刻槽(2321)；所述若干第二刻槽(2321)中至少一個第二刻槽(2321)呈環形且沿著所述第二刻槽區(2320)的周向延伸；

所述第二刻槽區(2320)環繞所述環形區域設置。

7.如權利要求3所述的陽極靶盤，其特征在于，所述連接增強面(2300)還包括第三刻槽區(2330)；所述第三刻槽區(2330)呈環形，且所述第三刻槽區(2330)上設有若干第三刻槽(2331)；所述若干第三刻槽(2331)中至少一個第三刻槽(2331)呈環形且沿著所述第三刻槽區(2330)的周向延伸；

所述第一刻槽區(2310)和所述多個焊料擺放區(2350)布置成環形區域，所述環形區域的中心與所述連接增強面(2300)的中心重合；所述第三刻槽區(2330)環繞所述開口(2410)設置，所述環形區域環繞所述第三刻槽區(2330)設置。

8.如權利要求7所述的陽極靶盤，其特征在于，所述陽極靶盤還包括第四刻槽區(2340)，所述第四刻槽區(2340)呈環形；所述第四刻槽區(2340)上設有若干第四刻槽(2341)；所述若干第四刻槽(2341)中至少一個第四刻槽(2341)呈環形且沿著所述第四刻槽區(2340)的周向延伸；

所述第四刻槽區(2340)環繞所述環形區域設置。

9.如權利要求8所述的陽極靶盤，其特征在于，所述第一刻槽區(2310)、所述第三刻槽區(2330)和所述第四刻槽區(2340)的總面積大于或等于所述連接增強面(2300)的面積的40％。

10.如權利要求1-9中任一項所述的陽極靶盤，其特征在于，所述多個焊料擺放區(2350)中至少兩個焊料擺放區(2350)的面積相等。

11.如權利要求1-9中任一項所述的陽極靶盤，其特征在于，多個所述焊料擺放區(2350)沿著陽極靶盤(2000)的周向等間隔布置。