[發(fā)明專利]化合物半導(dǎo)體元件及化合物半導(dǎo)體裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110954336.1 | 申請(qǐng)日: | 2021-08-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN114078993A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-02-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 梁皓鈞;楊偉善;詹耀寧;陳怡名;李世昌 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 晶元光電股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L33/38 | 分類號(hào): | H01L33/38;H01L33/62 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 陳小雯 |
| 地址: | 中國(guó)臺(tái)*** | 國(guó)省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 化合物 半導(dǎo)體 元件 裝置 | ||
1.一種化合物半導(dǎo)體元件,包括:
有源結(jié)構(gòu),具有第一導(dǎo)電型半導(dǎo)體層、第二導(dǎo)電型半導(dǎo)體層以及位于該第一導(dǎo)電型半導(dǎo)體層及該第二導(dǎo)電型半導(dǎo)體層之間的有源層;
半導(dǎo)體接觸層,位于該第二導(dǎo)電型半導(dǎo)體層上且具有第一開(kāi)口;
電極,具有上表面,完全覆蓋該半導(dǎo)體接觸層;以及
絕緣層,覆蓋該電極及該有源結(jié)構(gòu)且具有第二開(kāi)口;
其中,該第二導(dǎo)電型半導(dǎo)體層自該第一開(kāi)口露出,該電極自該第二開(kāi)口露出,該第一開(kāi)口的邊界與該第二開(kāi)口的邊界在水平方向上相隔一距離。
2.如權(quán)利要求1所述的化合物半導(dǎo)體元件,其中,自該化合物半導(dǎo)體元件的上視觀之,該第二開(kāi)口完全位于該第一開(kāi)口內(nèi)。
3.如權(quán)利要求1所述的化合物半導(dǎo)體元件,其中,該第二導(dǎo)電型半導(dǎo)體層具有凸部,該電極位于該凸部上。
4.如權(quán)利要求3所述的化合物半導(dǎo)體元件,其中,該凸部的側(cè)壁與該電極的側(cè)壁齊平。
5.如權(quán)利要求1所述的化合物半導(dǎo)體元件,其中,該絕緣層覆蓋于該上表面的邊緣區(qū)域且覆蓋不超過(guò)該上表面的面積的30%。
6.如權(quán)利要求3所述的化合物半導(dǎo)體元件,其中,該絕緣層連續(xù)覆蓋在該電極的該上表面、該電極的側(cè)壁、該凸部的側(cè)壁以及該有源結(jié)構(gòu)上。
7.如權(quán)利要求1所述的化合物半導(dǎo)體元件,其中,自該化合物半導(dǎo)體元件的上視觀之,該半導(dǎo)體接觸層呈環(huán)形。
8.一種化合物半導(dǎo)體裝置,包括:
化合物半導(dǎo)體元件,包括:
有源結(jié)構(gòu),具有第一導(dǎo)電型半導(dǎo)體層、第二導(dǎo)電型半導(dǎo)體層以及位于該第一導(dǎo)電型半導(dǎo)體層及該第二導(dǎo)電型半導(dǎo)體層之間的有源層;
半導(dǎo)體接觸層,位于該第二導(dǎo)電型半導(dǎo)體層上且具有第一開(kāi)口;
電極,具有上表面且完全覆蓋該半導(dǎo)體接觸層;以及
絕緣層,覆蓋該電極及該有源結(jié)構(gòu)且具有第二開(kāi)口;以及
焊接線,接合至該電極,且該焊接線與該電極的接合處具有接合寬度;
其中,該第二導(dǎo)電型半導(dǎo)體層自該第一開(kāi)口露出,該電極自該第二開(kāi)口露出,且于該化合物半導(dǎo)體元件的剖面觀之,該第二開(kāi)口的寬度大于該接合寬度。
9.如權(quán)利要求8所述的化合物半導(dǎo)體裝置,其中,該第一開(kāi)口的寬度大于第二開(kāi)口的寬度的90%。
10.如權(quán)利要求8所述的化合物半導(dǎo)體裝置,還包含載板以及位于該載板上的接合墊。
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