[發明專利]外延設備清洗提醒方法、裝置、電子設備及存儲介質在審
| 申請號： | 202110942705.5 | 申請日： | 2021-08-17 |
| 公開（公告）號： | CN113652745A | 公開（公告）日： | 2021-11-16 |
| 發明（設計）人： | 戴科峰;唐卓睿;盛飛龍;王鑫 | 申請（專利權）人： | 季華實驗室 |
| 主分類號： | C30B25/16 | 分類號： | C30B25/16;C30B25/14;C30B29/36;C23C16/52;C23C16/44 |
| 代理公司： | 佛山市海融科創知識產權代理事務所(普通合伙) 44377 | 代理人： | 陳志超 |
| 地址： | 528200 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 外延 設備 清洗 提醒 方法 裝置 電子設備 存儲 介質 | ||
1.一種外延設備清洗提醒方法，用于提示外延設備的反應室需要進行清洗，其特征在于，所述方法包括以下步驟：
獲取外延設備產生的反應尾氣的顆粒物直徑信息；
根據所述顆粒物直徑信息和預設的顆粒物直徑閾值的比較結果發出清洗提醒信息。
2.根據權利要求1所述的一種外延設備清洗提醒方法，其特征在于，所述根據所述顆粒物直徑信息和預設的顆粒物直徑閾值的比較結果發出清洗提醒信息的步驟包括：
獲取顆粒物直徑信息中最大顆粒物的直徑；
比較最大顆粒物的直徑和預設的顆粒物直徑閾值之間的大?。?/p>
若最大顆粒物的直徑大于或等于顆粒物直徑閾值，發出清洗提醒信息。
3.根據權利要求1所述的一種外延設備清洗提醒方法，其特征在于，所述顆粒物直徑閾值為50-100μm。
4.根據權利要求1所述的一種外延設備清洗提醒方法，其特征在于，所述方法還包括步驟：若發出清洗提醒信息時，外延設備中存在正在外延生長的襯底，待該襯底完成外延生長后，暫停外延設備運行。
5.根據權利要求1所述的一種外延設備清洗提醒方法，其特征在于，所述獲取外延設備產生的反應尾氣的顆粒物直徑信息的步驟為：在外延設備啟動后開始獲取或在外延設備啟動后延時開始獲取外延設備產生的反應尾氣的顆粒物直徑信息。
6.根據權利要求1所述的一種外延設備清洗提醒方法，其特征在于，所述獲取外延設備產生的反應尾氣的顆粒物直徑信息的步驟為：持續獲取或間斷獲取外延設備產生的反應尾氣的顆粒物直徑信息。
7.根據權利要求6所述的一種外延設備清洗提醒方法，其特征在于，所述顆粒物直徑信息為間斷獲取，所述顆粒物直徑信息的間斷獲取的間隔為定值或隨外延設備運行時長逐步縮短。
8.一種外延設備清洗提醒裝置，用于提示外延設備的反應室需要進行清洗，其特征在于，所述裝置包括：
第一獲取模塊，用于獲取外延設備產生的反應尾氣的顆粒物直徑信息；
提醒模塊，用于根據所述顆粒物直徑信息和預設的顆粒物直徑閾值的比較結果發出清洗提醒信息。
9.一種電子設備，其特征在于，包括處理器以及存儲器，所述存儲器存儲有計算機可讀取指令，當所述計算機可讀取指令由所述處理器執行時，運行如權利要求1-7任一所述方法中的步驟。
10.一種存儲介質，其上存儲有計算機程序，其特征在于，所述計算機程序被處理器執行時運行如權利要求1-7任一所述方法中的步驟。
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