[發(fā)明專利]一種高精度背鉆制作方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110941983.9 | 申請(qǐng)日: | 2021-08-17 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113709978A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-11-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 史宏宇;陳蓓;李志東 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市華芯微測(cè)技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H05K3/00 | 分類號(hào): | H05K3/00;H05K3/42 |
| 代理公司: | 深圳中恒科專利代理有限公司 44808 | 代理人: | 王麗 |
| 地址: | 518116 廣東省深圳市龍崗區(qū)*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高精度 制作方法 | ||
1.一種高精度背鉆制作方法,其特征在于,包括如下步驟:
S1、制作假靶,在芯板(1)的兩側(cè)壓合銅箔(2),對(duì)銅箔進(jìn)行圖形轉(zhuǎn)移,蝕刻出設(shè)計(jì)的圖形,將多組兩側(cè)壓合有銅箔(2)的芯板(1)通過(guò)PP(4)進(jìn)行壓合連接,形成PCB壓合板(5),分層的PCB壓合板(5)的目標(biāo)層在進(jìn)行蝕刻時(shí)預(yù)先在工藝邊區(qū)域設(shè)計(jì)出殘樁的目標(biāo)靶(3),在進(jìn)行蝕刻時(shí)預(yù)先在目標(biāo)層上層的工藝邊區(qū)域蝕刻出與目標(biāo)靶(3)對(duì)應(yīng)的假靶(6);
S2、鉆測(cè)試孔,在所述PCB壓合板(5)的工藝邊區(qū)域鉆測(cè)試孔(7),在所述PCB壓合板(5)的最外層銅箔的所述測(cè)試孔(7)處設(shè)置偏位復(fù)焊盤(8);
S3、沉銅,鉆出測(cè)試孔(7)后對(duì)PCB壓合板(5)進(jìn)行沉銅,使所述測(cè)試孔(7)金屬化;
S4、板鍍,對(duì)金屬化后的所述測(cè)試孔(7)的沉銅進(jìn)行初步增厚,使所述測(cè)試孔(7)具有可靠的導(dǎo)電性能;
S5、測(cè)試背鉆深度,對(duì)假靶(6)處的所述測(cè)試孔(7)進(jìn)行背鉆,鉆出背鉆孔(11),測(cè)試出背鉆深度;
S6、單元內(nèi)背鉆,在單元內(nèi)的設(shè)計(jì)區(qū)域根據(jù)S5測(cè)試出的背鉆深度進(jìn)行背鉆;
S7、負(fù)片電鍍,將鉆孔的背鉆區(qū)域用干膜覆蓋后進(jìn)行電鍍,使鉆孔內(nèi)的孔銅厚度滿足客戶需求。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高精度背鉆制作方法,其特征在于:所述測(cè)試孔(7)包括信號(hào)孔(9)、導(dǎo)電孔(10),所述目標(biāo)靶(3)、所述假靶(6)、所述偏位復(fù)焊盤(8)、所述背鉆孔(11)均與所述信號(hào)孔(9)同心。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高精度背鉆制作方法,其特征在于:測(cè)試背鉆深度時(shí),鉆機(jī)鉆針與所述信號(hào)孔(9)接觸,所述導(dǎo)電孔(10)與鉆機(jī)蘑菇頭相連且導(dǎo)通。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高精度背鉆制作方法,其特征在于:所述偏位復(fù)焊盤(8)的內(nèi)徑比所述信號(hào)孔(9)的直徑大,所述偏位復(fù)焊盤(8)的內(nèi)徑比背鉆后的所述背鉆孔(11)的直徑單邊大3mil。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高精度背鉆制作方法,其特征在于:S5中測(cè)試背鉆深度時(shí)需鉆過(guò)所述假靶(6)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高精度背鉆制作方法,其特征在于:S6中單元內(nèi)背鉆時(shí),其背鉆深度留有安全余量。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6所述的一種高精度背鉆制作方法,其特征在于:所述目標(biāo)靶(3)與所述信號(hào)孔(9)底部導(dǎo)通,所述假靶(6)位于所述目標(biāo)靶(3)的上一層,所述假靶(6)與所述信號(hào)孔(9)導(dǎo)通,所述假靶(6)與所述導(dǎo)電孔(10)連接且導(dǎo)通,所述偏位復(fù)焊盤(8)與所述導(dǎo)電孔(10)導(dǎo)通。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-6所述的一種高精度背鉆制作方法,其特征在于:所述目標(biāo)靶(3)與所述信號(hào)孔(9)導(dǎo)通,所述假靶(6)位于所述目標(biāo)靶(3)的上一層,所述假靶(6)內(nèi)徑大于所述信號(hào)孔(9)的內(nèi)徑,所述假靶(6)的內(nèi)徑比鉆機(jī)鉆針外徑小1mil,所述假靶(6)與所述導(dǎo)電孔(10)連接且導(dǎo)通,所述偏位復(fù)焊盤(8)與所述導(dǎo)電孔(10)導(dǎo)通。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-6所述的一種高精度背鉆制作方法,其特征在于:所述目標(biāo)靶(3)與所述信號(hào)孔(9)導(dǎo)通,所述目標(biāo)靶(3)所在層以上的每一層均設(shè)置有所述假靶(6),所述假靶(6)與所述信號(hào)孔(9)連接并導(dǎo)通,設(shè)置有多個(gè)所述導(dǎo)電孔(10),所述導(dǎo)電孔(10)的數(shù)量比所述假靶(6)的數(shù)量多1個(gè),每一層的所述假靶(6)與相應(yīng)的所述導(dǎo)電孔(10)連接且導(dǎo)通,所述偏位復(fù)焊盤(8)與所述導(dǎo)電孔(10)導(dǎo)通。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-6所述的一種高精度背鉆制作方法,其特征在于:用電渦流測(cè)距儀測(cè)量目標(biāo)層的所述目標(biāo)靶(3)的深度后,根據(jù)測(cè)試深度進(jìn)行單元內(nèi)背鉆。
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