[發(fā)明專(zhuān)利]一種替卡格雷關(guān)鍵手性中間體異構(gòu)體雜質(zhì)TGAD1的制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110921581.2 | 申請(qǐng)日: | 2021-08-11 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113461655A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-10-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 金生華;金曉峰;曹鵬 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 常州制藥廠有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C07D317/44 | 分類(lèi)號(hào): | C07D317/44 |
| 代理公司: | 常州市權(quán)航專(zhuān)利代理有限公司 32280 | 代理人: | 黃晶晶 |
| 地址: | 213000 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 替卡格雷 關(guān)鍵 手性 中間體 異構(gòu)體 雜質(zhì) tgad1 制備 方法 | ||
本發(fā)明涉及用替卡格雷關(guān)鍵光學(xué)活性中間體TGA制備其異構(gòu)體雜質(zhì)TGAD1的方法。該方法經(jīng)過(guò)Cbz保護(hù)、氧化反應(yīng)、還原反應(yīng)、酯化反應(yīng)、脫保護(hù)反應(yīng)等步驟制備得到TGAD1,該方法反應(yīng)條件簡(jiǎn)單溫和、后處理方便、具有較高的精制收率和純度,制備所得樣品可進(jìn)一步用作替卡格雷中間體的雜質(zhì)對(duì)照品,有利于提高替卡格雷的質(zhì)量控制。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及醫(yī)藥化學(xué)領(lǐng)域,具體涉及一種替卡格雷關(guān)鍵手性中間體異構(gòu)體雜質(zhì)TGAD1的制備方法。
背景技術(shù)
藥物中的雜質(zhì)是影響藥物純度的主要因素,如果藥物中所含雜質(zhì)超過(guò)質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的限量要求,極有可能造成藥物的外觀性狀、理化參數(shù)發(fā)生改變,甚至影響藥物的穩(wěn)定性,使藥物活性降低而毒副作用增加,嚴(yán)重危害藥物的產(chǎn)品質(zhì)量和患者的用藥安全。
替卡格雷是由阿斯利康公司研發(fā)的一種新型的、具有選擇性的小分子抗凝血藥,其關(guān)鍵手性中間體TGA結(jié)構(gòu)如下所示:
TGA有四個(gè)手性中心,在實(shí)際合成過(guò)程中和儲(chǔ)藏過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生多種異構(gòu)體雜質(zhì),為了提高產(chǎn)品質(zhì)量和患者的用藥安全,定向合成出異構(gòu)體雜質(zhì)對(duì)照品變得十分重要。
目前尚無(wú)以TGA為起始原料制備異構(gòu)體雜質(zhì)TGAD1的相關(guān)報(bào)道。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是:提供一種替卡格雷關(guān)鍵手性中間體異構(gòu)體雜質(zhì)TGAD1的制備方法,該方法具有反應(yīng)條件簡(jiǎn)單溫和、精制收率和純度高等優(yōu)點(diǎn)。
本發(fā)明解決上述技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)方案如下:
本發(fā)明提供了一種替卡格雷關(guān)鍵手性中間體異構(gòu)體雜質(zhì)TGAD1的制備方法,包括如下步驟:
(1)TGA在堿性試劑存在下,經(jīng)過(guò)Cbz保護(hù)得到化合物11;
(2)化合物11通過(guò)氧化反應(yīng)將羥基氧化為羰基得到化合物12;
(3)化合物12通過(guò)不對(duì)稱(chēng)還原反應(yīng)得到化合物13;
(4)化合物13發(fā)生酯化反應(yīng)得到化合物14;
(5)化合物14發(fā)生脫保護(hù)反應(yīng),脫去芐氧基羰基保護(hù)基得到化合物15;
(6)化合物15發(fā)生氧化反應(yīng)得到化合物16;
(7)化合物16通過(guò)不對(duì)稱(chēng)還原反應(yīng)制得TGAD1;
進(jìn)一步的,所述步驟(1)中使用的堿性試劑為碳酸鉀、碳酸鈉、氫氧化鉀、氫氧化鈉、碳酸氫鈉和/或碳酸氫鉀中的一種或幾種,優(yōu)選碳酸鉀;堿性試劑與TGA的摩爾比為1.5:1~2.5:1,優(yōu)選2:1;所述步驟(1)中使用的保護(hù)劑為氯甲酸芐酯,保護(hù)劑與TGA的摩爾比為1.4:1~1.6:1,優(yōu)選1.5:1;
進(jìn)一步的,所述步驟(2)中使用的氧化劑為T(mén)EMPO-次氯酸鈉、TEMPO-次溴酸鈉或TEMPO-二醋酸碘苯,優(yōu)選TEMPO-次氯酸鈉;所述步驟(2)中使用的反應(yīng)溶劑為乙腈-水、四氫呋喃-水或二氯甲烷-水,優(yōu)選二氯甲烷-水;所述步驟(2)的反應(yīng)溫度不超過(guò)15℃,優(yōu)選不超過(guò)10℃;
進(jìn)一步的,所述步驟(3)中使用的還原劑為硼氫化鈉、硼氫化鉀、氫化鋰鋁或乙硼烷,優(yōu)選硼氫化鈉;還原劑與化合物12的摩爾比為1.4:1~1.6:1,優(yōu)選1.5:1;所述步驟(3)中使用的反應(yīng)溶劑為甲醇、乙醇或異丙醇,優(yōu)選甲醇;
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