[發明專利]一種修改二維幾何邊框方法及相關裝置

有效

• 申請號: 202110905655.3
• 申請日: 2021-08-09
• 公開（公告）號: CN113345050B
• 公開（公告）日: 2021-10-29
• 發明（設計）人: 胡施宇;范淵;黃進
• 申請（專利權）人: 杭州安恒信息技術股份有限公司
• 主分類號: G06T11/20
• 分類號: G06T11/20
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 丁曼曼

本申請公開了一種修改二維幾何邊框方法，包括：將原始邊框路徑展開為一維路徑；根據一維路徑和邊框修改數據生成對應的一維高度貼圖；基于一維高度貼圖對應的法向量偏轉對一維路徑進行路徑繪制，得到修改后的路徑數據。通過先將原始邊框路徑展開為一維路徑，并在該一維路徑的基礎上生成與其對應的一位高度貼圖，以便將修改數據表征在該一維高度貼圖中，最后基于一維高度貼圖對應的法向量偏轉對一維路徑進行路徑繪制，得到修改后的路徑數據，使得修改數據與原始的路徑數據分離，降低了進行修改的復雜度，并且提高原始數據的復用率，提高了使用效率。本申請還公開了一種修改二維幾何邊框裝置、計算設備以及計算機可讀存儲介質，具有以上有益效果。

技術領域

本申請涉及計算機技術領域，特別涉及一種修改二維幾何邊框方法、修改二維幾何邊框裝置、計算設備以及計算機可讀存儲介質。

背景技術

隨著信息技術的不斷發展，在可視化領域可以編輯越來越多類型的圖形，以便構造更加豐富的可視化圖形，提高更加豐富多樣的圖形類型。在應用可視化的領域中，通常需要對邊框進行編輯。

相關技術中，一般是通過保存編輯點再生成一個新的路徑。但是，輸出的結果會導致原始數據不可復原地發生了改變，也就是原始數據和變化數據耦合在了一起。這會帶來一些問題，新建時較為方便，但是修改時就會較為麻煩。例如，我們都知道路徑編輯中曲線編輯較為復雜，錨點編輯的方案中，修改往往需要更新點。另外這種方法由于所有的改動都要存為點，導致修改路徑會增加原始幾何的復雜度，在渲染中帶來了復雜性，降低了邊框編輯的效率。

因此，如何提高邊框編輯的效率是本領域技術人員關注的重點問題。

發明內容

本申請的目的是提供一種修改二維幾何邊框方法、修改二維幾何邊框裝置、計算設備以及計算機可讀存儲介質，以解決現有技術中修改邊框較為復雜的問題。

為解決上述技術問題，本申請提供一種修改二維幾何邊框方法，包括：

將原始邊框路徑展開為一維路徑；

根據所述一維路徑和邊框修改數據生成對應的一維高度貼圖；

基于所述一維高度貼圖對應的法向量偏轉對所述一維路徑進行路徑繪制，得到修改后的路徑數據。

可選的，將原始邊框路徑展開為一維路徑，包括：

確定所述原始邊框路徑的起始點和多個關鍵點；

從所述起始點開始將所述多個關鍵點進行展開，得到所述一維路徑。

可選的，還包括：

對所述一維路徑中的起始點和關鍵點添加位置描述、法向量描述以及長度描述。

可選的，根據所述一維路徑和邊框修改數據生成對應的一維高度貼圖，包括：

根據所述一維路徑的長度和邊框修改數據在法向量方向的偏移量生成所述一維高度貼圖。

可選的，基于所述一維高度貼圖對應的法向量偏轉對所述一維路徑進行路徑繪制，得到修改后的路徑數據，包括：

對所述一維路徑進行線性插值，得到一系列片元；

根據所述一維高度貼圖的法向量偏轉對所述一系列片元的高度進行偏轉，得到所述修改后的路徑數據。

本申請還提供一種修改二維幾何邊框裝置，包括：

路徑展開模塊，用于將原始邊框路徑展開為一維路徑；

高度貼圖生成模塊，用于根據所述一維路徑和邊框修改數據生成對應的一維高度貼圖；

路徑繪制模塊，用于基于所述一維高度貼圖對應的法向量偏轉對所述一維路徑進行路徑繪制，得到修改后的路徑數據。