[發(fā)明專利]一種修改二維幾何邊框方法及相關(guān)裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110905655.3
• 申請日: 2021-08-09
• 公開（公告）號: CN113345050B
• 公開（公告）日: 2021-10-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 胡施宇;范淵;黃進(jìn)
• 申請（專利權(quán)）人: 杭州安恒信息技術(shù)股份有限公司
• 主分類號: G06T11/20
• 分類號: G06T11/20
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 丁曼曼

1.一種修改二維幾何邊框方法，其特征在于，包括：

將原始邊框路徑展開為一維路徑；

根據(jù)所述一維路徑的長度和邊框修改數(shù)據(jù)在法向量方向的偏移量生成一維高度貼圖；其中，所述一維高度貼圖的數(shù)據(jù)格式為一組離散的、描述從起點開始沿著路徑的等距離上的點的垂直偏移量的浮點數(shù)組；

對所述一維路徑進(jìn)行線性插值，得到一系列片元；

根據(jù)所述一維高度貼圖的法向量偏轉(zhuǎn)對所述一系列片元的高度進(jìn)行偏轉(zhuǎn)，得到修改后的路徑數(shù)據(jù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的修改二維幾何邊框方法，其特征在于，將原始邊框路徑展開為一維路徑，包括：

確定所述原始邊框路徑的起始點和多個關(guān)鍵點；

從所述起始點開始將所述多個關(guān)鍵點進(jìn)行展開，得到所述一維路徑。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的修改二維幾何邊框方法，其特征在于，還包括：

對所述一維路徑中的起始點和關(guān)鍵點添加位置描述、法向量描述以及長度描述。

4.一種修改二維幾何邊框裝置，其特征在于，包括：

路徑展開模塊，用于將原始邊框路徑展開為一維路徑；

高度貼圖生成模塊，用于根據(jù)所述一維路徑的長度和邊框修改數(shù)據(jù)在法向量方向的偏移量生成一維高度貼圖；其中，所述一維高度貼圖的數(shù)據(jù)格式為一組離散的、描述從起點開始沿著路徑的等距離上的點的垂直偏移量的浮點數(shù)組；

路徑繪制模塊，用于對所述一維路徑進(jìn)行線性插值，得到一系列片元；根據(jù)所述一維高度貼圖的法向量偏轉(zhuǎn)對所述一系列片元的高度進(jìn)行偏轉(zhuǎn)，得到修改后的路徑數(shù)據(jù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的修改二維幾何邊框裝置，其特征在于，所述路徑展開模塊，包括：

節(jié)點確定單元，用于確定所述原始邊框路徑的起始點和多個關(guān)鍵點；

節(jié)點展開單元，用于從所述起始點開始將所述多個關(guān)鍵點進(jìn)行展開，得到所述一維路徑。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的修改二維幾何邊框裝置，其特征在于，還包括：

描述添加單元，用于對所述一維路徑中的起始點和關(guān)鍵點添加位置描述、法向量描述以及長度描述。

7.一種計算設(shè)備，其特征在于，包括：

存儲器，用于存儲計算機程序；

處理器，用于執(zhí)行所述計算機程序時實現(xiàn)如權(quán)利要求1至3任一項所述的修改二維幾何邊框方法的步驟。

8.一種計算機可讀存儲介質(zhì)，其特征在于，所述計算機可讀存儲介質(zhì)上存儲有計算機程序，所述計算機程序被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)如權(quán)利要求1至3任一項所述的修改二維幾何邊框方法的步驟。