[發(fā)明專利]半導(dǎo)體設(shè)備腔體內(nèi)陽極氧化鋁與陶瓷噴涂材質(zhì)靜電吸盤超潔凈清洗工藝有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110901844.3 | 申請日： | 2021-08-06 |
| 公開（公告）號： | CN113714178B | 公開（公告）日： | 2023-03-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 姚雪;賀賢漢;朱光宇;王松朋;張正偉;李泓波 | 申請（專利權(quán)）人： | 富樂德科技發(fā)展（大連）有限公司 |
| 主分類號： | B08B3/02 | 分類號： | B08B3/02;B08B1/00;B08B3/12;B08B13/00;H01L21/683 |
| 代理公司： | 大連智高專利事務(wù)所(特殊普通合伙) 21235 | 代理人： | 蓋小靜 |
| 地址： | 116600 遼寧省大連市保稅區(qū)*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 半導(dǎo)體設(shè)備 體內(nèi) 陽極 氧化鋁 陶瓷 噴涂 材質(zhì) 靜電 吸盤 潔凈 清洗 工藝 | ||
本發(fā)明公開了一種半導(dǎo)體設(shè)備腔體內(nèi)陽極氧化鋁與陶瓷噴涂材質(zhì)靜電吸盤超潔凈清洗工藝，包括：使用壓縮空氣對靜電吸盤背面冷卻液孔進行吹掃并用無塵布蘸取異丙醇進行擦拭；先使用異丙醇、丙酮分別對靜電吸盤正面、側(cè)面、背面進行全面擦拭；使用耐酸堿定制膠帶對靜電吸盤的電極端口、裸鋁及冷卻液孔進行保護；沖洗氦氣孔和提拉孔；將靜電吸盤放入異丙醇溶液中浸泡，然后再用無塵布進行擦拭；使用圓餅狀膠帶將靜電吸盤正面的陶瓷面及背面的陽極氧化面進行保護；對靜電吸盤的臺階面及側(cè)面進行精噴砂處理；去除陶瓷面及陽極氧化面的圓餅狀膠帶；本申請工藝能有效去除靜電吸盤表面的沉積物同時獲得較高潔凈度，可滿足各項制程參數(shù)要求。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)備靜電吸盤潔凈清洗技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種陽極氧化鋁與陶瓷噴涂材質(zhì)靜電吸盤清洗工藝。
背景技術(shù)
靜電吸盤是半導(dǎo)體制程工藝中的核心靜電吸盤：固定晶圓，控制晶圓溫度，同時也作為腔體內(nèi)的下電極。設(shè)備腔體中的腐蝕性氣體、等離子體等在進行刻蝕發(fā)生反應(yīng)后會在靜電吸盤表面形成沉積物，其沉積物的存在會影響靜電吸盤的性能參數(shù)，進而影響制程良率。
發(fā)明內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)存在上述問題，本申請?zhí)峁┮环N半導(dǎo)體設(shè)備腔體內(nèi)陽極氧化鋁與陶瓷噴涂材質(zhì)靜電吸盤超潔凈清洗工藝，該工藝能有效去除靜電吸盤表面的沉積物同時獲得較高潔凈度，可滿足各項制程參數(shù)要求。
為實現(xiàn)上述目的，本申請的技術(shù)方案為：一種半導(dǎo)體設(shè)備腔體內(nèi)陽極氧化鋁與陶瓷噴涂材質(zhì)靜電吸盤超潔凈清洗工藝，包括：
步驟一：使用壓縮空氣對靜電吸盤背面冷卻液孔進行吹掃并用無塵布蘸取異丙醇進行擦拭；目的是去除殘留的冷卻液并清理干凈冷卻液孔，采用吹掃與異丙醇擦拭方式相結(jié)合以避免引入其他液體及雜質(zhì)污染冷卻液孔；
步驟二：先使用異丙醇分別對靜電吸盤正面、側(cè)面、背面進行全面擦拭；再使用丙酮分別對靜電吸盤正面、側(cè)面、背面進行全面擦拭；目的是去除吹掃到表面的冷卻液及其他表面臟污，拆卸下機的靜電吸盤表面會附著一些污染物使用異丙醇與丙酮擦拭可以初步去除表面臟污以便后續(xù)進一步處理；
步驟三：使用耐酸堿定制膠帶對靜電吸盤的電極端口、及冷卻液孔進行保護，并用刮板刮除氣泡以保證膠帶保護的密封性；目的是防止清洗過程中的水及各類化學(xué)品等對電極、及冷卻液孔造成腐蝕損傷，定制膠帶可以剛好覆蓋敏感區(qū)同時不影響其他區(qū)域的清洗；
步驟四：將靜電吸盤垂直放置，先用汽水槍沖洗氦氣孔和提拉孔確保每個孔內(nèi)都有液流，然后再用異丙醇沖洗；其氦氣孔起負(fù)壓吸取硅片作用，須達(dá)到每個孔都有均勻平穩(wěn)的液流且無臟跡，異丙醇可以有效去除孔內(nèi)殘留的沉積物；
步驟五：將靜電吸盤放入異丙醇溶液中浸泡，然后再用無塵布進行擦拭；目的是去除靜電吸盤表面可能殘留的有機污染物；
步驟六：使用圓餅狀膠帶將靜電吸盤正面的陶瓷面及背面的陽極氧化面進行保護；目的是防止在噴砂的過程中噴射到陶瓷面及背面，該圓餅狀膠帶可以為定制尺寸膠帶，易于保護操作且殘膠少；
步驟七：對靜電吸盤的臺階面及側(cè)面進行精噴砂處理；目的是將表面的沉積物去除的同時重塑表面狀態(tài)，該步驟可以保證熔射層厚度基本沒有損耗且有較好的均一性，同時去除沉積物后表面顏色較為均勻；
步驟八：去除陶瓷面及陽極氧化面的圓餅狀膠帶，并使用異丙醇擦拭去除可能存在的殘膠；
步驟九：使用百潔布對陽極氧化面進行均勻打磨處理，直至顏色均勻；目的是去除表面彩色印記，打磨擦拭可能無法完全去除彩色印記，后續(xù)熱水處理步驟可進一步去除；
步驟十：純水沖洗整個靜電吸盤，并用壓縮空氣對靜電吸盤進行吹干處理；目的是防止周轉(zhuǎn)等待殘留水跡；
步驟十一：在無塵室中用熱水浸泡靜電吸盤，同時進行氣動鼓泡；目的是去除陶瓷面的沉積物同時對于殘留的彩色印記可進一步去除；
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