[發明專利]負載熒光指示劑制備溶解氧傳感器氧敏感膜的方法及應用在審
| 申請號: | 202110901244.7 | 申請日: | 2021-08-06 |
| 公開(公告)號: | CN113607708A | 公開(公告)日: | 2021-11-05 |
| 發明(設計)人: | 魏偉;劉瑞杰;張旭 | 申請(專利權)人: | 常州羅盤星檢測科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/64 | 分類號: | G01N21/64 |
| 代理公司: | 北京華際知識產權代理有限公司 11676 | 代理人: | 陳健陽 |
| 地址: | 213164 江蘇省常州市武進區常*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 負載 熒光 指示劑 制備 溶解氧 傳感器 敏感 方法 應用 | ||
1.負載熒光指示劑制備溶解氧傳感器氧敏感膜的方法,其特征在于:
S1:透明支撐層(4)的活化處理:使用旋轉式低溫等離子表面處理機活化處理透明支撐層(4);
S2:熒光層(3)的制備:納米材料A、熒光指示劑、聚二甲基硅氧烷、易揮發性烷烴混合后超聲處理30min,攪拌6~12h,得到熒光層漿料,在S1中的透明支撐層(4)上涂覆熒光層漿料,形成熒光層(3);
S3:折射層(2)的制備:納米材料A、聚二甲基硅氧烷、易揮發性烷烴混合后超聲處理,攪拌6~12h,得到折射層漿料,在S2中的熒光層(3)上涂覆折射層漿料,形成折射層(2);
S4:遮光保護層(1)的制備:納米材料B、炭黑、聚二甲基硅氧烷、易揮發性烷烴混合后超聲處理,得到遮光保護層漿料,在S3中的折射層(2)上涂覆遮光保護層漿料,形成遮光保護層(1)。
2.根據權利要求1所述的負載熒光指示劑制備溶解氧傳感器氧敏感膜的方法,其特征在于:所述納米材料A為納米氧化鋁、納米氮化硼、納米氧化鋯、納米二氧化硅中的一種或多種,所述熒光指示劑是鉑(Ⅱ)MESO-四(五氟苯)卟吩、三(2,2-聯吡啶)二氯化釕、八乙基鉑卟啉、三(5-氨基-1,10鄰菲羅啉)二氯化釕中的一種或多種。
3.根據權利要求1所述的負載熒光指示劑制備溶解氧傳感器氧敏感膜的方法,其特征在于:步驟S2中,所述熒光指示劑A與納米材料A含量比為1%~5%,所述納米材料A在熒光層(3)中含量為3%~6%;步驟S3中,所述納米材料A在折射層(2)中含量為5%~10%。
4.根據權利要求1所述的負載熒光指示劑制備溶解氧傳感器氧敏感膜的方法,其特征在于:步驟S4中,所述納米材料B在遮光保護層(1)中含量為5%~9%,所述炭黑在遮光保護層(1)中含量為1%~5%,所述納米材料B是納米碳化硅、納米碳化鎢、納米碳化鈦的一種或多種。
5.根據權利要求1所述的負載熒光指示劑制備溶解氧傳感器氧敏感膜的方法,其特征在于:所述易揮發性烷烴為正己烷、正庚烷、環己烷的一種或多種。
6.根據權利要求1所述的負載熒光指示劑制備溶解氧傳感器氧敏感膜的方法,其特征在于:所述透明支撐層(4)為透明亞克力樹脂,所述熒光層(3)的厚度為15~60μm,所述折射層(2)的厚度為15~60μm,所述遮光保護層(1)的厚度為15~60μm。
7.根據權利要求1所述的負載熒光指示劑制備溶解氧傳感器氧敏感膜的方法,其特征在于:所述熒光指示劑為鉑(Ⅱ)MESO-四(五氟苯)卟吩量子點、三(2,2-聯吡啶)二氯化釕量子點、八乙基鉑卟啉量子點、三(5-氨基-1,10鄰菲羅啉)二氯化釕量子點中的一種或多種。
8.根據權利要求7所述的負載熒光指示劑制備溶解氧傳感器氧敏感膜的方法,其特征在于:步驟S2中,納米材料A為介孔二氧化硅、介孔氧化鋁、介孔氧化鋯的一種或多種,所述介孔二氧化硅具有放射狀褶皺結構,且介孔二氧化硅的孔徑為5-30nm。
9.根據權利要求7所述的負載熒光指示劑制備溶解氧傳感器氧敏感膜的方法,其特征在于:所述納米材料B為納米活性炭纖維復合碳化鈦,所述納米活性炭纖維改性處理。
10.根據權利要求1-9中任一項所述的方法制備的氧敏感膜的應用,其特征在于:所述氧敏感膜應用于溶解氧傳感器中,并用于溶解氧的檢測。
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