[發明專利]吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置

在審

• 申請號: 202110890062.4
• 申請日: 2021-08-04
• 公開（公告）號: CN113490404A
• 公開（公告）日: 2021-10-08
• 發明（設計）人: 魯禮建
• 申請（專利權）人: 上海飚輝科技有限公司
• 主分類號: H05K9/00
• 分類號: H05K9/00
• 代理公司: 上海怡恩專利代理事務所(普通合伙) 31336
• 代理人: 潘青青

本發明公開了吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置，屬于新風凈化技術領域。它包括安裝主體和負離子裝置，還包括保護膜、屏蔽金屬圈和導電部；負離子裝置設置在安裝主體上，保護膜套設在負離子裝置上，且保護膜與安裝主體緊貼設置，保護膜與安裝主體之間呈空氣隔絕狀態；屏蔽金屬圈嵌設在保護膜的內側壁，且屏蔽金屬圈環繞設置在負離子裝置上。本發明在負離子發射頭周圍設置保護膜，使得安裝主體與流動的空氣隔絕，同時保護膜內的屏蔽金屬圈改變了負離子發射頭形成的電暈輻射場，在安裝主體層面形成一個截斷作用，從而最大限度的阻止強電場去聚集空氣中的超細顆粒物，防止黑墻現象發生。

技術領域

本發明涉及吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置，屬于新風凈化技術領域。

背景技術

在通風環境和室內環境要求越來越高的背景下。基于新風凈化和健康的需求，越來越多的超高濃度負離子設備應運而生。尤其誕生的吊頂式和掛墻式等超高濃度負離子設備在健康行業興起。由于吊頂式的出風口負離子設備和純吊頂式的負離子設備因為不影響墻面空間和室內空間布局，也得到了更多的應用選擇，但這個就必須要有很高濃度的負離子設備去匹配，造成了超高濃度負離子設備自身電暈場影響力夠大的情況下，會形成負離子發射端的輻射性的黑墻現象。尤其是絕大多數的吊頂都以白色吊頂為主的環境下，這個黑頂的出現就會給客戶帶來很不好的體驗。由于電暈場形成的吊頂面或墻面在大量電子的推動下，形成以中心點逐漸加深的現象，空氣中的超細粉塵收到電子電暈場的作用力快速的附著在負離子發射頭周圍，離發射頭越近就越黑。

發明內容

本發明所要解決的技術問題在于：提供吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置，它解決了負離子發射頭周邊出現黑墻現象的問題，同時該裝置的定期維護和更換的成本大大地降低，也起到了一種美化和裝飾作用。

本發明所要解決的技術問題采取以下技術方案來實現：

吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置，包括安裝主體和負離子裝置，還包括保護膜、屏蔽金屬圈和導電部；

所述負離子裝置設置在安裝主體上，所述保護膜套設在負離子裝置上，且所述保護膜與安裝主體緊貼設置，所述保護膜與安裝主體之間呈空氣隔絕狀態；

所述屏蔽金屬圈嵌設在保護膜的內側壁，且所述屏蔽金屬圈環繞設置在負離子裝置上，所述屏蔽金屬圈的最下沿位置高度低于負離子裝置的發射頭高度；

所述屏蔽金屬圈與多個導電部連接，多個所述導電部均勻分布在保護膜的外邊緣處，用于降低自身的電勢電壓形成的電暈二次發散效應。

作為優選實例，所述導電部包括固定件和地線，所述固定件用于將保護膜固定在安裝主體上，所述地線貫穿安裝主體與屏蔽金屬圈電連接。

作為優選實例，多個所述固定件和多個地線的穿線點均位于保護膜的外沿以內，且處于空氣隔絕范圍內。

作為優選實例，所述保護膜包括固定點、用于放置屏蔽金屬圈的凹槽、用于隔絕空氣的貼合面和用于套設負離子裝置的避空孔。

作為優選實例，所述凹槽的截面形狀設為V型、梯形或W型中的任意一種。

作為優選實例，所述保護膜的整體形狀設為圓形、多邊形或異形中的任意一種。

作為優選實例，所述保護膜的材質為絕緣性材料。

作為優選實例，所述保護膜的材質為PET、PP、PS、PVC材料中的任意一種。

作為優選實例，所述保護膜為透明材質。

本發明的有益效果是：

1、本發明在負離子發射頭周圍設置保護膜，使得安裝主體與流動的空氣隔絕，同時保護膜內的屏蔽金屬圈改變了負離子發射頭形成的電暈輻射場，在安裝主體層面形成一個截斷作用，從而最大限度的阻止強電場去聚集空氣中的超細顆粒物，防止黑墻現象發生。