[發明專利]吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置

在審

• 申請號: 202110890062.4
• 申請日: 2021-08-04
• 公開（公告）號: CN113490404A
• 公開（公告）日: 2021-10-08
• 發明（設計）人: 魯禮建
• 申請（專利權）人: 上海飚輝科技有限公司
• 主分類號: H05K9/00
• 分類號: H05K9/00
• 代理公司: 上海怡恩專利代理事務所(普通合伙) 31336
• 代理人: 潘青青

1.吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置，包括安裝主體（1）和負離子裝置（2），其特征在于：還包括保護膜（3）、屏蔽金屬圈（4）和導電部；

所述負離子裝置（2）設置在安裝主體（1）上，所述保護膜（3）套設在負離子裝置（2）上，且所述保護膜（3）與安裝主體（1）緊貼設置，所述保護膜（3）與安裝主體（1）之間呈空氣隔絕狀態；

所述屏蔽金屬圈（4）嵌設在保護膜（3）的內側壁，且所述屏蔽金屬圈（4）環繞設置在負離子裝置（2）上，所述屏蔽金屬圈（4）的最下沿位置高度低于負離子裝置（2）的發射頭高度；

所述屏蔽金屬圈（4）與多個導電部連接，多個所述導電部均勻分布在保護膜（3）的外邊緣處，用于降低自身的電勢電壓形成的電暈二次發散效應。

2.根據權利要求1所述的吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置，其特征在于：所述導電部包括固定件（5）和地線（6），所述固定件（5）用于將保護膜（3）固定在安裝主體（1）上，所述地線（6）貫穿安裝主體（1）與屏蔽金屬圈（4）電連接。

3.根據權利要求2所述的吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置，其特征在于：多個所述固定件（5）和多個地線（6）的穿線點均位于保護膜（3）的外沿以內，且處于空氣隔絕范圍內。

4.根據權利要求1所述的吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置，其特征在于：所述保護膜（3）包括固定點（33）、用于放置屏蔽金屬圈（4）的凹槽（34）、用于隔絕空氣的貼合面（32）和用于套設負離子裝置（2）的避空孔（31）。

5.根據權利要求4所述的吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置，其特征在于：所述凹槽（34）的截面形狀設為V型、梯形或W型中的任意一種。

6.根據權利要求1所述的吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置，其特征在于：所述保護膜（3）的整體形狀設為圓形、多邊形或異形中的任意一種。

7.根據權利要求1所述的吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置，其特征在于：所述保護膜（3）的材質為絕緣性材料。

8.根據權利要求7所述的吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置，其特征在于：所述保護膜（3）的材質為PET、PP、PS、PVC材料中的任意一種。

9.根據權利要求1所述的吊頂掛墻式高濃度負離子防止黑墻用屏蔽裝置，其特征在于：所述保護膜（3）為透明材質。