[發(fā)明專利]掩膜版、陣列基板的制作方法、陣列基板

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110884556.1
• 申請日: 2021-07-30
• 公開（公告）號: CN113703281A
• 公開（公告）日: 2021-11-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李旺;李榮榮
• 申請（專利權(quán)）人: 惠科股份有限公司
• 主分類號: G03F1/70
• 分類號: G03F1/70;G02F1/1362;G02F1/13
• 代理公司: 深圳市世紀恒程知識產(chǎn)權(quán)代理事務所 44287
• 代理人: 晏波

1.一種掩膜版，用于在光刻工藝中對陣列基板作用，以在所述陣列基板上形成子像素，其特征在于，所述掩膜版上形成有相鄰設(shè)置的第一曝光區(qū)和第二曝光區(qū)，所述第一曝光區(qū)用于在所述光刻工藝中對應所述陣列基板的數(shù)據(jù)線和柵極信號線之間圍合的像素開口區(qū)域設(shè)置，所述第二曝光區(qū)用于在光刻工藝中對應所述像素開口區(qū)域的邊緣及所述數(shù)據(jù)線設(shè)置，在相同區(qū)域面積上，所述第一曝光區(qū)上的透光量大于所述第二曝光區(qū)上的透光量。

2.如權(quán)利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一曝光區(qū)的透光量為100％，所述第二曝光區(qū)的透光量為20％～70％，且所述第二曝光區(qū)的寬度為3μm～15μm；和/或，

沿所述第一曝光區(qū)朝向所述第二曝光區(qū)方向上，所述第二曝光區(qū)的透光量呈遞減設(shè)置。

3.如權(quán)利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述第二曝光區(qū)具有在沿所述第一曝光區(qū)朝向所述第二曝光區(qū)方向上分布的第一曝光段，第二曝光段及第三曝光段，其中：

所述第一曝光段的透光量為50～70％；和/或，

所述第二曝光段的透光量為30～50％；和/或，

所述第三曝光段的透光量為20～40％。

4.如權(quán)利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版對應在所述第二曝光區(qū)形成有交替間隔設(shè)置的多個透光部和多個遮光部。

5.如權(quán)利要求4所述的掩膜版，其特征在于，多個所述遮光部和/或多個所述透光部至少部分設(shè)置為長條形；或者，

多個所述遮光部和/或多個所述透光部至少部分設(shè)置為方形；或者，

所述遮光部和所述透光部均呈長條形設(shè)置，且兩端均能夠延伸至所述第二曝光區(qū)寬度方向的兩側(cè)，多個所述遮光部和多個所述透光部沿所述第二曝光區(qū)長度方向交替間隔設(shè)置；或者，

所述遮光部和所述透光部均呈長條形設(shè)置，且兩端均能夠延伸至所述第二曝光區(qū)長度方向的兩側(cè)，多個所述遮光部和多個所述透光部沿所述第二曝光區(qū)寬度方向交替間隔設(shè)置；或者，

所述遮光部和所述透光部呈方形設(shè)置，多個所述遮光部和多個所述透光部沿所述第二曝光區(qū)長度方向和寬度方向上均交替間隔設(shè)置。

6.一種陣列基板的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

提供基板；

在所述基板上先后形成柵極信號線和數(shù)據(jù)線；

采用如權(quán)利要求1至5任意一項所述的掩膜版，以在所述基板上光刻形成彩色濾光片層，其中，所述彩色濾光片層包括多個子像素。

7.如權(quán)利要求6所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述“在所述基板上先后形成柵極信號線和數(shù)據(jù)線”的步驟包括：

在所述基板上形成第一金屬層；

對所述第一金屬層進行處理以形成柵極信號線；

在所述柵極信號線上依次形成無機絕緣層、半導體層及復合摻雜層；

在復合摻雜層上形成第二金屬層；

對所述第二金屬層進行處理以形成數(shù)據(jù)線。

8.如權(quán)利要求6所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述“在所述基板上先后形成柵極信號線和數(shù)據(jù)線”的步驟中所述基板、所述柵極信號線和所述數(shù)據(jù)線共同構(gòu)合成基板結(jié)構(gòu)；

所述“在所述基板上先后形成柵極信號線和數(shù)據(jù)線”的步驟之后還包括：

在所述基板結(jié)構(gòu)上形成第一無機鈍化層。

9.如權(quán)利要求6所述的陣列基板的制作方法，其特征在于，所述“采用如權(quán)利要求1至5任意一項所述的掩膜版，以在所述基板上光刻形成彩色濾光片層”的步驟之后包括：

在所述彩色濾光片層上形成第二無機鈍化層或者有機聚合物層；

在所述第二無機鈍化層或者有機聚合物層上形成氧化銦錫層，對所述氧化銦錫層進行處理以得到像素電極。

10.一種陣列基板，其特征在于，采用如權(quán)利要求6至9任意一項所述的陣列基板的制作方法的方法制作，所述陣列基板包括基板、設(shè)于所述基板且沿背離所述基板方向一側(cè)設(shè)置的柵極信號線、數(shù)據(jù)線及彩色濾光片層。