[發明專利]一種改善濕法刻蝕均一性的方法

在審

• 申請號: 202110883433.6
• 申請日: 2021-08-03
• 公開（公告）號: CN113594034A
• 公開（公告）日: 2021-11-02
• 發明（設計）人: 陳婷;涂良成;楊山清;官盛果;龔躍武
• 申請（專利權）人: 中山大學南昌研究院
• 主分類號: H01L21/3213
• 分類號: H01L21/3213
• 代理公司: 南昌合達信知識產權代理事務所(普通合伙) 36142
• 代理人: 陳龍

1.一種改善濕法刻蝕均一性的方法，其特征在于，包括應用于濕法刻蝕由金形成的單層膜的刻蝕液。

2.根據權利要求1所述的一種改善濕法刻蝕均一性的方法，其特征在于，所述刻蝕液由以下質量百分比組分組成：碘單質1.5％～5％，碘化鉀2％～5％，純水35％～50％和小分子醇40％～65％。

3.根據權利要求2所述的一種改善濕法刻蝕均一性的方法，其特征在于，所述小分子醇為乙醇或異丙醇中的一種。

4.根據權利要求2所述的一種改善濕法刻蝕均一性的方法，其特征在于，所述刻蝕液由以下質量百分比組分組成：碘單質1.5％～3.5％，碘化鉀2.5％～4％，純水35％～45％和小分子醇50％～60％。

5.根據權利要求3所述的一種改善濕法刻蝕均一性的方法，其特征在于，所述刻蝕液由以下質量百分比組分組成：碘單質2％，碘化鉀3％，純水40％和乙醇55％。

6.根據權利要求5所述的一種改善濕法刻蝕均一性的方法，其特征在于，所述刻蝕液的制備，包括如下步驟：

S1.將碘單質、碘化鉀和純水按比例混合均勻；

S2.按比例添加乙醇，混合均勻，得到刻蝕液。